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A New Self-assembly Metal CMG Discriminator by Multi-exposure LiGA Like Process and Sacrificial Layer Process 被引量:1
1
作者 张卫平 陈文元 +2 位作者 赵小林 丁桂甫 李胜勇 《Journal of Donghua University(English Edition)》 EI CAS 2005年第4期91-93,共3页
The counter-meshing gears (CMG) discriminator is a mechanically coded lock, which is used to prevent the occurrence of High Consequence Events. This paper advanced a new kind of self-assembly metal CMG discriminator... The counter-meshing gears (CMG) discriminator is a mechanically coded lock, which is used to prevent the occurrence of High Consequence Events. This paper advanced a new kind of self-assembly metal CMG discriminator based on multi-exposure LiGA like process and sacrificial layer process. The new CMG discriminator has the following characters except low cost: 1) it has only discrimination teeth sections; 2) the thickness of each gear layer exceeds one hundred micrometers; 3) it is axially driven by a separate dectronic magnetic micromotor directly; 4) its CMG is made of metal and is batch fabricated in the assembled state; 5) it is prevented from rotating in the opposite direction by pawl/ratchet wheel mechanism; 6) it has simpler structure. This device has better strength and reliability in abnormal environment compared to the existing surface micro machining (SMM) discriminator. 展开更多
关键词 Counter-meshing gears (CMG) discriminator multi-exposure liga like process sacrificial layer process.
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准LIGA工艺技术在加工微金属齿轮中的应用 被引量:3
2
作者 姚劲松 王志勤 +3 位作者 王飞 宣明 梁静秋 王一凡 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1995年第3期64-66,共3页
三维微细加工中的LIGA技术是被国际上公认为最有发展前途的一种微机械零部件加工工艺技术,但在我国与之配套的辅助工艺尚不完善,因而限制了其发展速度。我们采用准LIGA工艺技术,以常规的紫外光刻方法,成功地制成了具有较高... 三维微细加工中的LIGA技术是被国际上公认为最有发展前途的一种微机械零部件加工工艺技术,但在我国与之配套的辅助工艺尚不完善,因而限制了其发展速度。我们采用准LIGA工艺技术,以常规的紫外光刻方法,成功地制成了具有较高深宽比的微金属齿轮。 展开更多
关键词 微型机械 liga工艺 liga工艺 微齿轮
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准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用 被引量:2
3
作者 沈蓓军 王润文 +1 位作者 路敦武 黄惠杰 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1998年第2期56-60,共5页
介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计,并将该装置成功地应用于LIGA工艺的深层光刻中,光刻实验表明准分子激光层光刻具有很大的实用意义。
关键词 微机械 微细加工 liga工艺 光刻 激分子激光
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基于UV-LIGA技术的微注塑金属模具的工艺研究 被引量:5
4
作者 杜立群 秦江 +2 位作者 刘海军 刘冲 于同敏 《微细加工技术》 EI 2006年第5期51-54,共4页
介绍了一种新颖的微注塑模具的制作方法———无背板生长法,它是利用负性厚SU-8光刻胶,通过低成本的UV-LIGA表面微加工工艺,直接在金属基板上电铸镍图形而制作完成的。讨论了SU-8胶与基底的结合特性以及几种去除SU-8胶的有效方法,所制... 介绍了一种新颖的微注塑模具的制作方法———无背板生长法,它是利用负性厚SU-8光刻胶,通过低成本的UV-LIGA表面微加工工艺,直接在金属基板上电铸镍图形而制作完成的。讨论了SU-8胶与基底的结合特性以及几种去除SU-8胶的有效方法,所制作的微注塑模具已用于微注塑加工中。无背板生长工艺的突出优点是微电铸时间短、模具质量高,而且还适合于制作其他微机械组件,是目前MEMS领域中比较有发展前途的加工方法。 展开更多
关键词 微电铸 UV-liga工艺 SU-8光刻胶 微注塑模具
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LIGA技术制备正电子慢化体的实验研究 被引量:1
5
作者 黄军容 彭良强 +5 位作者 伊福廷 于润升 魏龙 蒋毅坚 张菊芳 韩勇 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第10期893-896,共4页
LIGA技术具有加工精度高、深宽比大、表面平整、应用领域广等优点 ,是一种先进的微细加工方法。实验中将LIGA技术的优点用于正电子慢化体的制作中 ,能获得传统加工方法无法制作出的薄壁网状多孔镍结构 ,满足新型正电子慢化体的制备要求。
关键词 liga技术 制备 实验研究 正电子慢化体 同步辐射 X光光刻 电铸 塑铸
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深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用 被引量:2
6
作者 余国彬 姚汉民 +1 位作者 胡松 陈兴俊 《微纳电子技术》 CAS 2002年第4期30-32,共3页
随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺。本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义。
关键词 深紫外深度光刻蚀 liga工艺 微型机电系统 微细加工
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基于UV-LIGA工艺的酸性电铸铜溶液最优化配比 被引量:2
7
作者 南雪莉 张斌珍 +2 位作者 张少华 韩帅 毛静 《科学技术与工程》 北大核心 2014年第29期265-270,共6页
为了获得镀层平整、致密的金属铜结构,经过反复实验研究获得了电铸铜溶液的最优化配比。首先采用UV-LIGA工艺制作出SU-8胶膜微结构,其次以此光刻固化后的结构作为模具,进行电铸试验。通过对电镀参数的反复调整,获得效果最优的镀液配比... 为了获得镀层平整、致密的金属铜结构,经过反复实验研究获得了电铸铜溶液的最优化配比。首先采用UV-LIGA工艺制作出SU-8胶膜微结构,其次以此光刻固化后的结构作为模具,进行电铸试验。通过对电镀参数的反复调整,获得效果最优的镀液配比分别为:CuSO4·5H2O的质量浓度为180 g/L,98%的H2SO4为70 g/L,纯度为37%的HCl是0.188 mL/L,光亮剂210A、210B、210C分别为0.4 mL/L、0.3 mL/L、4 mL/L。实验结果表明,电铸获得的模具镜面光亮、无分界、质量高。同时,对电镀方法进行了改进,选择在常温下进行电铸实验并加入超声波完成辅助机械处理,得到了高纯度的电铸铜层,铜的重量百分比达到了96.22%,铸层表面显微组织结构明显改善,大大改良了电铸层的力学性能及物理性能。 展开更多
关键词 UV-liga工艺 光亮酸性电铸铜 最优配比 超声处理 常温
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利用LIGA技术制作过滤介质 被引量:4
8
作者 黄军容 彭良强 +4 位作者 伊福廷 张菊芳 韩勇 黄军容 蒋毅坚 《过滤与分离》 CAS 2002年第4期11-13,共3页
LIGA技术具有加工精度高,深宽比大,表面平整,应用领域广等优点,是一种先进的微细加工方法。将LIGA技术的这些优点充分用于过滤介质的制作中,能改善过滤介质的力学强度、机械性能、流阻大小、可再生性等过滤性能。实验中,通过选用不同的... LIGA技术具有加工精度高,深宽比大,表面平整,应用领域广等优点,是一种先进的微细加工方法。将LIGA技术的这些优点充分用于过滤介质的制作中,能改善过滤介质的力学强度、机械性能、流阻大小、可再生性等过滤性能。实验中,通过选用不同的材料、适当调整工艺步骤、以及结合微细电火花加工方法等,分别制作出了胶结构、镍结构、不锈钢、以及金结构等多组材料不同、过滤孔隙形状、大小各异的过滤介质,能满足多种不同过滤场合的需求。 展开更多
关键词 过滤介质 liga技术 制作
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模糊神经网络在UV-LIGA工艺优化中的应用 被引量:17
9
作者 郑晓虎 朱荻 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期139-144,共6页
将模糊神经网络理论和算法应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,在正交试验的基础上对网络进行训练,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型。该模型采用五层前向模糊... 将模糊神经网络理论和算法应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,在正交试验的基础上对网络进行训练,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型。该模型采用五层前向模糊神经网络,学习算法为梯度下降法。进行了实验,实验结果表明,前烘温度与前烘时间对光刻质量影响最大。对120~340μm厚的光刻胶,前烘温度取95℃,前烘时间100min时,图形的相对线宽差最小;超声搅拌能缩短显影时间,显著改善图形质量,试验结果与计算结果十分吻合。将模糊神经网络应用于UV-LIGA工艺中,能实现光刻加工微结构的工艺参数优化。 展开更多
关键词 负性光刻胶 UV-liga 模糊神经网络 工艺参数
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基于UV-LIGA技术的微型火箭及微型动力系统技术 被引量:2
10
作者 金鹏 谭久彬 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第14期1233-1234,1242,共3页
采用基于UV-LIGA技术的微型陶瓷结构微加工技术进行微型火箭和微型动力系统中高温零件的加工,获得了微型火箭与微型动力系统中的耐高温关键部件。新工艺成功实现了深宽比大于13的微型氧化铝陶瓷结构的加工。
关键词 UV—UGA 陶瓷微加工技术 微型火箭 微型动力系统 高温特性
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LIGA技术在医疗器械制备中的应用 被引量:3
11
作者 章吉良 周勇 陈迪 《微细加工技术》 EI 1998年第3期63-71,共9页
文报道了近几年来 LIGA技术的改进 (如制备活动微结构和特殊形状侧壁以及与集成电路的准单元集成等 ) ,描述了用 L IGA技术制备的器件和微系统在医疗中的应用 ,包括微执行器、液体控制系统 (微泵和微阀 )、微光谱仪、光化学分析系统等。
关键词 liga技术 医疗器械 微光谱仪 光化学分析系统
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LIGA 技术中的 X 射线掩膜 被引量:1
12
作者 梁静秋 姚劲松 王飞 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1997年第3期17-18,23,共3页
LIGA工艺技术包括光刻、电铸和塑铸3个重要环节。而深层同步辐射光刻掩膜技术是X射线光刻应用的关键之一。我们采用聚酰亚胺为衬基,以电铸金结构为吸收体,制作出了X射线掩膜,并进行了深层同步辐射X射线光刻实验研究。
关键词 liga技术 掩膜 光刻
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UV-LIGA制作微细群电极工艺研究 被引量:1
13
作者 胡洋洋 朱荻 +1 位作者 曾永彬 明平美 《电加工与模具》 2008年第1期29-31,35,共4页
微细电火花加工和微细电解加工是当前微细加工领域的研究热点,利用微细群电极进行微细加工可显著提高加工效率。研究了UV-LIGA制作微工具电极的技术。以金属为基底,采用UV-LIGA工艺来制作微细群电极,改进了前烘、后烘、显影等工艺参数,... 微细电火花加工和微细电解加工是当前微细加工领域的研究热点,利用微细群电极进行微细加工可显著提高加工效率。研究了UV-LIGA制作微工具电极的技术。以金属为基底,采用UV-LIGA工艺来制作微细群电极,改进了前烘、后烘、显影等工艺参数,分别在铜和不锈钢基底上通过注射式倒胶的方法制作出厚度达1 mm的SU-8胶结构,最大深宽比达10∶1,并通过微细电铸,获得了铜微细电极。 展开更多
关键词 金属基底 UV—liga工艺 SU-8胶 高深宽比 微细群电极
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LIGA/准LIGA技术微电铸工艺研究进展 被引量:20
14
作者 李永海 丁桂甫 +1 位作者 毛海平 张永华 《电子工艺技术》 2005年第1期1-5,34,共6页
微电铸是相对于常规电铸工艺而确立的新概念,它是适用于微小结构成型而建立的批量加工技术,既可以看作是在微细加工模具基础上的传统电铸技术的延伸,也可以认为是掩膜电镀在高深宽比方向发展的结果,微电铸工艺是LIGA/准LIGA技术的核心内... 微电铸是相对于常规电铸工艺而确立的新概念,它是适用于微小结构成型而建立的批量加工技术,既可以看作是在微细加工模具基础上的传统电铸技术的延伸,也可以认为是掩膜电镀在高深宽比方向发展的结果,微电铸工艺是LIGA/准LIGA技术的核心内容,在MEMS技术领域有广泛应用。介绍了电铸和微电铸的原理和特点,系统分析了微电铸过程的电化学本质,综述了微电铸技术研究的最新进展,给出了一些为大家所共识的微电铸镍基本工艺规范。 展开更多
关键词 liga技术 微电铸镍 传质过程
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激光LIGA工艺实验设计
15
作者 沈蓓军 王润文 +1 位作者 路敦武 黄惠杰 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 1996年第3期172-176,共5页
文章介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计,并根据该设计思想进行了可行性原理实验,取得了较好的结果。
关键词 liga 激光深层光刻 光刻 准分子激光
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分层压印准LIGA工艺中对准系统误差分析和实验研究
16
作者 王权岱 向家伟 +1 位作者 杨连发 段玉岗 《装备制造技术》 2010年第1期45-47,共3页
系统分析了分层压印准LIGA工艺中对准系统的误差来源,给出了相应的消减误差的措施,并对经过畸变校正、自动聚焦及环境保障后对准系统的套印精度进行了实验研究,结果表明系统套印精度达到1.5μm,可以满足分层压印准LIGA工艺制作微米级微... 系统分析了分层压印准LIGA工艺中对准系统的误差来源,给出了相应的消减误差的措施,并对经过畸变校正、自动聚焦及环境保障后对准系统的套印精度进行了实验研究,结果表明系统套印精度达到1.5μm,可以满足分层压印准LIGA工艺制作微米级微结构对准的需要。 展开更多
关键词 liga工艺 对准 精度分析
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基于UV-LIGA工艺的超窄带毫米波三频带通滤波器 被引量:1
17
作者 屈增 秦瑞杰 +2 位作者 王佳云 段俊萍 张斌珍 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第7期1077-1085,共9页
针对当前6G无线通信系统对3 mm毫米波器件的需求急速增加,为了提前应对在这一频段的通信协议划分,利用金属谐振腔和矩形波导设计出一款中心频率为102.03 GHz的单频带通滤波器。然后,基于多模传输理论将其优化为一款中心频率分别为96.83... 针对当前6G无线通信系统对3 mm毫米波器件的需求急速增加,为了提前应对在这一频段的通信协议划分,利用金属谐振腔和矩形波导设计出一款中心频率为102.03 GHz的单频带通滤波器。然后,基于多模传输理论将其优化为一款中心频率分别为96.83和106.31 GHz的单通道双频带通腔体滤波器。采用交叉耦合的方式引入传输零点,设计出一款在98~105 GHz的工作范围内,具有98.49、99.79和104.20 GHz三个中心频率的超窄带三频带通腔体滤波器,其3 dB相对带宽分别为0.32%、0.63%和0.30%。采用基于SU-8负性光刻胶的UV-LIGA工艺对样品进行加工,并使用搭建的W波段电磁性能测试平台完成对样品射频性能的测试,测试结果与仿真结果具有良好的一致性。 展开更多
关键词 超窄带毫米波三频带通滤波器 UV-liga工艺 6G无线通信 交叉耦合 多模传输
原文传递
超声时效技术在微注塑模具制作中的应用 被引量:4
18
作者 杜立群 李成斌 +1 位作者 李永辉 于同敏 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1250-1256,共7页
针对金属微注塑模具UV-LIGA制作过程中由于SU-8胶内应力过大而引起的胶膜破裂、变形甚至脱落等问题,提出将超声时效技术应用于微注塑模具的制作工艺。首先,利用紫外光刻工艺制备了电铸胶膜,在显影前使用自制的超声时效装置对胶膜进行超... 针对金属微注塑模具UV-LIGA制作过程中由于SU-8胶内应力过大而引起的胶膜破裂、变形甚至脱落等问题,提出将超声时效技术应用于微注塑模具的制作工艺。首先,利用紫外光刻工艺制备了电铸胶膜,在显影前使用自制的超声时效装置对胶膜进行超声处理。然后,采用无背板生长方法在38CrNiMnMo模具钢基底上直接进行镍金属的电铸生长,讨论并解决了工艺过程中遇到的SU-8胶浮胶变形、非圆形基片的匀胶、胶膜中的气泡以及微电铸层结合不牢等问题。最后,制作出微通道宽度和高度分别为80μm和35μm的微注塑模具。实验结果表明,超声时效技术的使用避免了由于SU-8胶内应力过大引起的破裂、变形甚至从基底脱落等缺陷,增强了UV-LIGA技术制作微注塑模具的能力,提高了制作微注塑模具的成功率。 展开更多
关键词 超声时效技术 微注塑模具 UV-liga工艺 SU-8光刻胶 内应力
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KrF准分子激光直接消融深层光刻紫外光刻胶实验研究 被引量:1
19
作者 沈蓓军 王润文 +3 位作者 路敦武 王立鼎 梁静秋 姚劲松 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 1998年第2期126-130,共5页
介绍了利用激光LIGA工艺中的激光深层光刻技术对紫外光刻胶进行深层光刻的实验研究成果,对远紫外激光与光刻胶相互作用的机理进行了讨论,给出了KrF准分子激光刻蚀紫外光刻胶的能量阈值以及激光能量密度与刻蚀深度的关系曲线,... 介绍了利用激光LIGA工艺中的激光深层光刻技术对紫外光刻胶进行深层光刻的实验研究成果,对远紫外激光与光刻胶相互作用的机理进行了讨论,给出了KrF准分子激光刻蚀紫外光刻胶的能量阈值以及激光能量密度与刻蚀深度的关系曲线,最后对方法的应用前景及进一步改进的设想进行了讨论。 展开更多
关键词 激光 光刻 微细加工 liga工艺 IC工艺
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环氧基负性光刻胶加工微结构的试验研究 被引量:5
20
作者 郑晓虎 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期36-39,共4页
在正交试验的基础上,将BP神经网应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型,该模型采用三层前向网络,学习算法为梯度下降法。通过... 在正交试验的基础上,将BP神经网应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型,该模型采用三层前向网络,学习算法为梯度下降法。通过实验,得出:前烘温度与前烘时间对光刻质量影响最大,对120~340μm厚的光刻胶,前烘温度取90℃,前烘时间50~100min时,图形的相对线宽差最小;最佳后烘时间(85~95℃)为30min;超声搅拌能缩短显影时间,改善图形质量。试验结果与网络预测结果吻合。结果表明,将BP神经网络应用于UV—LIGA技术中,可以优化光刻工艺。 展开更多
关键词 光刻工艺 UVliga 预测模型 优化
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