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溅射功率对InZnO薄膜晶体管电学性能的影响研究
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作者 何青峰 韩嘉俊 阿布来提·阿布力孜 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第12期1056-1063,共8页
采用射频磁控溅射法,在室温下Si/SiO_(2)衬底上制备InZnO薄膜晶体管,并研究不同溅射功率(25,50,75和100 W)对InZnO薄膜晶体管电学性能的影响。XRD表征结果表明,不同溅射功率制备的InZnO薄膜均出现晶面为(002)面的多晶态结构。通过电学... 采用射频磁控溅射法,在室温下Si/SiO_(2)衬底上制备InZnO薄膜晶体管,并研究不同溅射功率(25,50,75和100 W)对InZnO薄膜晶体管电学性能的影响。XRD表征结果表明,不同溅射功率制备的InZnO薄膜均出现晶面为(002)面的多晶态结构。通过电学特性研究发现,当溅射功率为50 W时,电流的开关比为3×10^(7),场效应迁移率为14.8 cm^(2)V^(-1)s^(-1),阈值电压为0.82 V,亚阈值摆幅为0.38 V decade^(-1),界面缺陷态密度为1.1×10^(12)cm^(-2)eV^(-1)等获得最佳器件参数。这是因为功率50 W时用原子力显微镜测得InZnO薄膜表面粗糙度为0.86 nm,说明薄膜的表面比较平滑,表面缺陷密度较少,使InZnO薄膜沟道层和源漏电极形成了良好的接触。此外,XPS结果表明,当溅射功率为50 W时,能够有效控制氧空位缺陷,最终有效改善和提高InZnO薄膜晶体管的电学性能。 展开更多
关键词 inzno 薄膜晶体管 迁移率 溅射功率
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耗尽型a-IZO TFT的模拟研究
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作者 彭小毛 向超 +1 位作者 李俊杰 钟传杰 《微电子学》 CAS 北大核心 2019年第6期873-877,共5页
采用Silvaco软件的Atlas对耗尽型单栅、双栅非晶铟锌氧化物薄膜晶体管SG a-IZO TFT、DG a-IZO TFT进行二维器件模拟。讨论了a-IZO层的厚度、态密度模型参数对耗尽型SG a-IZO TFT的电特性影响。研究发现,当a-IZO层厚度达到60 nm及以上时... 采用Silvaco软件的Atlas对耗尽型单栅、双栅非晶铟锌氧化物薄膜晶体管SG a-IZO TFT、DG a-IZO TFT进行二维器件模拟。讨论了a-IZO层的厚度、态密度模型参数对耗尽型SG a-IZO TFT的电特性影响。研究发现,当a-IZO层厚度达到60 nm及以上时,器件的关断电流急剧上升。分析了态密度模型参数对单栅器件的电特性影响。对耗尽型SG a-IZO TFT与DG a-IZO TFT的电特性进行了比较。结果表明,DG器件在开启电压、亚阈值摆幅、开态电流等方面表现更佳。 展开更多
关键词 耗尽型 a-IZO 器件模拟 双栅 态密度
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Tunable oxygen vacancy defects for high-performance electrolyte-gated synaptic transistors
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作者 Qi Chen Liren Wu +7 位作者 Jiaqi Xu Shuwen Xin Dalong Ge Mengyao Wei Yuanbin Qin Zhen Liu Yan Xi Fengyun Wang 《Frontiers of physics》 2025年第6期203-212,共10页
Synaptic transistors are regarded as promising components for advancedartificial neural networks and hardware-based learning systems becausethey can emulate the fundamental biological synapse functions.Onedimensionali... Synaptic transistors are regarded as promising components for advancedartificial neural networks and hardware-based learning systems becausethey can emulate the fundamental biological synapse functions.Onedimensionalindium zinc oxide(InZnO)nanowires,owing to their excellentcharge transport and trapping properties,demonstrate tremendous potentialin synaptic transistors.However,the carrier concentration in InZnOnanowires is susceptible to oxygen vacancies,which can severely influencethe performance of the synaptic transistors.Herein,we present a facile andreliable scheme to control the synaptic transistor properties via an Arplasma-assisted oxygen vacancy defect-tunable strategy.This adjustingstrategy is based on the thermal diffusion of oxygen atoms bombarded byAr ions,which increases the oxygen vacancy concentration on the surfaceof InZnO nanowires and further regulates the carrier concentration in thedevice channel.Compared with the untreated devices,the responsivity ofthe Ar plasma-treated devices is increased by 400%,and the memory effectis also enhanced by 230%.This oxygen vacancy regulation strategyprovides a new avenue for fabricating high-performance neuromorphiccomputing systems. 展开更多
关键词 electrolyte-gated synaptic transistor Ar plasma treatment oxygen vacancy inzno nanowires
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