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双异质结双漂移区InP/InGaAsP/InP微波雪崩二极管的设想
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作者 杨玉芬 《物理学报》 SCIE EI CAS 1981年第6期794-801,共8页
本文提出了一种双异质结双漂移区InP/InGaAsP/InP微波雪崩二极管的设想,分析表明:该器件的电压调制度可达100%,对应的直流到射频的转换率为64%,同时给出了器件的小信号理论分析。
关键词 漂移区 双异质结 inp/ingaasp/inp 雪崩二极管 碰撞雪崩渡越时间二极管 微波 电磁波
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差温生长法制备 1.55 μm InP/InGaAsP/InP 激光晶片 被引量:1
2
作者 李雪春 胡礼中 +1 位作者 赛纳 闫志明 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期270-272,共3页
采用差温生长法制备了1.55μmInP/InGaAsP/InP双异质结激光晶片.差温生长法是在高温(约626℃)状态下生长InGaAsP有源层;然后降低温度,在低温(约600℃)状态下生长P-InP上限制层.此方法有... 采用差温生长法制备了1.55μmInP/InGaAsP/InP双异质结激光晶片.差温生长法是在高温(约626℃)状态下生长InGaAsP有源层;然后降低温度,在低温(约600℃)状态下生长P-InP上限制层.此方法有效地解决了这种结构长波区(λ>1.45μm)的回熔问题,并克服了其他方法的缺点. 展开更多
关键词 半导体激光器 差温生长法 激光晶片
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InP/InGaAsP/InP多量子阱太阳电池结构的优化研究
3
作者 董少光 陈国杰 《佛山科学技术学院学报(自然科学版)》 CAS 2014年第4期1-4,共4页
用金属纳米粒子沉积在InP/InGaAsP/InP多量子阱太阳电池表面,利用光散射来研究该电池改善后的光电性能。金属纳米粒子对量子阱太阳电池器件光电性能的作用结果是:用量子阱层与周围材料反射系数的差异来限制不同方向的入射光进入太阳电... 用金属纳米粒子沉积在InP/InGaAsP/InP多量子阱太阳电池表面,利用光散射来研究该电池改善后的光电性能。金属纳米粒子对量子阱太阳电池器件光电性能的作用结果是:用量子阱层与周围材料反射系数的差异来限制不同方向的入射光进入太阳电池器件侧面的传播路径。量子阱太阳电池通过这种结构优化设计,对于硅和Au纳米粒子,可以观察到短路电流密度分别增加了12.9%和7.3%,输出最大功率的转换效率分别增加了17%和1%。 展开更多
关键词 多量子阱 太阳电池
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Broadband Telecom Single-Photon Emissions from InAs/InP Quantum Dots Grown by MOVPE Droplet Epitaxy
4
作者 Shichen Zhang Li Liu +6 位作者 Kai Guo Xingli Mu Yuanfei Gao Junqi Liu Fengqi Liu Quanyong Lu Zhiliang Yuan 《Chinese Physics Letters》 2026年第1期37-43,共7页
The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon ... The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon sources in the near-infrared band(λ∼700–1000 nm),several challenges have yet to be addressed for ideal single-photon emission at the telecommunication band.In this study,we present a droplet-epitaxy strategy for O-band to C-band single-photon source-based semiconductor quantum dots(QDs)using metal-organic vaporphase epitaxy(MOVPE).By investigating the growth conditions of the epitaxial process,we have successfully synthesized InAs/InP QDs with narrow emission lines spanning a broad spectral range of λ∼1200–1600 nm.The morphological and optical properties of the samples were characterized using atomic force microscopy and microphotoluminescence spectroscopy.The recorded single-photon purity of a plain QD structure reaches g^((2))(0)=0.16,with a radiative recombination lifetime as short as 1.5 ns.This work provides a crucial platform for future research on integrated microcavity enhancement techniques and coupled QDs with other quantum photonics in the telecom bands,offering significant prospects for quantum network applications. 展开更多
关键词 development quantum materials broadband telecom single photon emissions MOVPE droplet epitaxy InAs inp quantum dots microcavity enhancement quantum dots qds using information technologyalthough
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场助InP/InGaAsP/InP半导体光电阴极异质结能带的计算 被引量:4
5
作者 李晋闽 郭里辉 +2 位作者 王存让 张工力 侯洵 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第9期830-834,共5页
采用双曲型的渐变函数,同时考虑加偏压时引起的阴极表面空间电荷区的变化,对场助InP/TnGaAsP/InP半导体光电阴极异质结的能带结构进行了详细的分析和计算,得到了在不同材料参数时,异质结能带结构的分布曲线.计算结果指出了达到理想的异... 采用双曲型的渐变函数,同时考虑加偏压时引起的阴极表面空间电荷区的变化,对场助InP/TnGaAsP/InP半导体光电阴极异质结的能带结构进行了详细的分析和计算,得到了在不同材料参数时,异质结能带结构的分布曲线.计算结果指出了达到理想的异质结传输效率时,发射层的厚度和掺杂浓度、吸收层的掺杂浓度、异质结界面处渐变区宽度以及场助偏压应满足的条件.它有助于场助半导体光电阴极的结构设计和材料参数的选择. 展开更多
关键词 异质结 半导体 光电阴极 能带
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低阈值InGaAsP/InP PBH双稳激光器 被引量:4
6
作者 张权生 吴荣汉 +7 位作者 林世鸣 高洪海 高文智 吕卉 韩勤 段海龙 杜云 芦秀玲 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第2期103-108,T001,共7页
一种平面掩埋异质结构(PBH)InGaAsP/InP双区共腔双稳激光器业已研制成功.器件具有良好可控的光学双稳特性.激射波长1.3μm.直流L/I特性显示典型的迴滞曲线.导通阈电流的最低值为26mA,优于文献报道的最好值.在通态电流跨度内,器件以单纵... 一种平面掩埋异质结构(PBH)InGaAsP/InP双区共腔双稳激光器业已研制成功.器件具有良好可控的光学双稳特性.激射波长1.3μm.直流L/I特性显示典型的迴滞曲线.导通阈电流的最低值为26mA,优于文献报道的最好值.在通态电流跨度内,器件以单纵模激射.数字光放大增益G≥30dB.导通时间τ_(on)<100ps,关断时间τ_(on)<1ns. 展开更多
关键词 双稳 激光器 ingaasp/inp
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低暗计数率InGaAsP/InP单光子雪崩二极管 被引量:2
7
作者 石柱 代千 +5 位作者 宋海智 谢和平 覃文治 邓杰 柯尊贵 孔繁林 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第12期272-278,共7页
通过对InGaAsP/InP单光子雪崩二极管(SPAD)的探测效率、暗计数率等基本特性与该器件的禁带宽度、电场分布、雪崩长度、工作温度等参数之间关系的分析,采用比通常的InxGa As(x=0.53)材料具有更宽带隙的InxGa1-xAsyP1-y(x=0.78,y=0.47)材... 通过对InGaAsP/InP单光子雪崩二极管(SPAD)的探测效率、暗计数率等基本特性与该器件的禁带宽度、电场分布、雪崩长度、工作温度等参数之间关系的分析,采用比通常的InxGa As(x=0.53)材料具有更宽带隙的InxGa1-xAsyP1-y(x=0.78,y=0.47)材料作为光吸收层,并且精确控制InP倍增层的雪崩长度,有效地降低了SPAD的暗计数率。其中InGaAsP材料与In P材料晶格匹配良好,可在In P衬底上外延生长高质量的InGaAsP/InP异质结,InGaAsP材料的带隙为Eg=1.03 e V,截止波长为1.2μm,可满足1.06μm单光子探测需要。同时,通过设计并研制出1.06μm InGaAsP/InP SPAD,对其特性参数进行测试,结果表明,当工作温度为270 K时,探测效率20%下的暗计数率约20 k Hz。因此基于时间相关单光子计数技术的该器件可在主动淬灭模式下用于随机到达的光子探测。 展开更多
关键词 单光子雪崩二极管 ingaasp/inp 1.06μm 自由模式 暗计数率
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含InGaAsP的InP DHBT复合式集电区结构设计 被引量:3
8
作者 程伟 金智 +1 位作者 于进勇 刘新宇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期943-946,共4页
为了降低InPDHBT的B-C之间的导带势垒,抑制电流阻挡效应,采用了一种含InGaAsP的复合式集电区结构.第一次从理论上分析了此种类型的复合式集电区各个参数对于DHBT性能的影响并给出了优化方案,为此类型的复合式集电区结构的设计提供了理... 为了降低InPDHBT的B-C之间的导带势垒,抑制电流阻挡效应,采用了一种含InGaAsP的复合式集电区结构.第一次从理论上分析了此种类型的复合式集电区各个参数对于DHBT性能的影响并给出了优化方案,为此类型的复合式集电区结构的设计提供了理论指导和设计参考.基于文中所述的理论,对文献中的数据进行了分析,得到了令人满意的结果. 展开更多
关键词 inp/INGAAS HBT 复合式集电区 势垒尖峰
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EBSD在InGaAsP/InP异质结构弹性应力区域的研究 被引量:2
9
作者 范丽霞 卢卓宇 +2 位作者 任峰 薄昌忠 付强 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第E01期39-41,共3页
利用扫描电镜附件电子背散射衍射(Electron Backscattering Diffraction,EBSD)技术,用菊池花样质量(IQ)作为应力敏感参数,研究了InGaAsP/InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布。
关键词 电子背散射衍射(EBSD) 弹性应力区域 菊池花样质量(1Q) ingaasp/inp异质结构
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全固源分子束外延生长InP和InGaAsP 被引量:1
10
作者 郝智彪 卢京辉 +1 位作者 任在元 罗毅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第12期1193-1197,共5页
在国产分子束外延设备的基础上 ,利用新型三温区阀控裂解源炉 ,对 In P及 In Ga As P材料的全固源分子束外延 (SSMBE)生长进行了研究。生长了高质量的 In P外延层 ,表面缺陷密度为 65cm- 2 ,非故意掺杂电子浓度约为 1× 1 0 16cm- 3... 在国产分子束外延设备的基础上 ,利用新型三温区阀控裂解源炉 ,对 In P及 In Ga As P材料的全固源分子束外延 (SSMBE)生长进行了研究。生长了高质量的 In P外延层 ,表面缺陷密度为 65cm- 2 ,非故意掺杂电子浓度约为 1× 1 0 16cm- 3.In P外延层的表面形貌、生长速率及 p型掺杂特性与生长温度密切相关 .研究了 In Ga As P外延材料的组分特性 ,发现在一定温度范围内生长温度对 族原子的吸附系数有较大影响 .最后得到了晶格匹配的 In0 .56Ga0 .4 4 As0 .94 P0 .0 6材料 ,低温光致发光谱峰位于 1 50 7nm,FWHM为 9.8me V. 展开更多
关键词 分子束外延 inp ingaasp 全固源
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1.3μmInGaAsP/InP涂层结构超辐射发光二极管输出特性的理论和实验 被引量:1
11
作者 马东阁 石家纬 +3 位作者 刘明大 金恩顺 李淑文 高鼎三 《光子学报》 EI CAS CSCD 1995年第1期36-42,共7页
本文用考虑了增益饱和和热效应的耦合速率方程,对减反射涂层结构1.3μmInGaAsP/InP超辐射发光二极管的输出特性进行了计算,给出了腔长、有源层厚度和后腔面反射率对其输出光功率的影响以及光谱半宽随腔长和注入电流的... 本文用考虑了增益饱和和热效应的耦合速率方程,对减反射涂层结构1.3μmInGaAsP/InP超辐射发光二极管的输出特性进行了计算,给出了腔长、有源层厚度和后腔面反射率对其输出光功率的影响以及光谱半宽随腔长和注入电流的变化。计算结果与我们制备的该结构超辐射发光二极管测试结果有较好的符合。 展开更多
关键词 超辐射 发光二极管 涂层 ingaasp/inp 输出特性
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用LPE生长1.35μm InGaAsP/InP量子阱结构的研究 被引量:1
12
作者 邢启江 王舒民 +5 位作者 王若鹏 陈娓兮 章蓓 赵沧桑 党小忠 虞丽生 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第9期540-544,T001,共6页
在国内首次利用LPE生长技术在n-InP(100)衬底上成功地生长1.35μm InGaAsP分别限制单量子阱结构。通过对样品的横截面进行的TEM观测,量子阱的阱宽和过渡层的厚度分别为160A和30A。在10K和77K光致发光谱测量中,我们观察到n=1的子能级上... 在国内首次利用LPE生长技术在n-InP(100)衬底上成功地生长1.35μm InGaAsP分别限制单量子阱结构。通过对样品的横截面进行的TEM观测,量子阱的阱宽和过渡层的厚度分别为160A和30A。在10K和77K光致发光谱测量中,我们观察到n=1的子能级上电子到重、轻空穴带很强的自由激子跃迁峰,两峰间隔为8.3meV,在低温条件下光致发光谱的半高宽度为20meV。 展开更多
关键词 ingaasp/inp LPE生长 量子阱 结构
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InP/InGaAsP脊波导的单模特性与偏振特性研究 被引量:1
13
作者 张天恩 唐军 +2 位作者 雷龙海 商成龙 刘俊 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第4期605-609,共5页
以InP/InGaAsP脊形波导结构为研究对象,采用有限元算法(FEM),系统地仿真分析了在固定芯层厚度的情况下,不同脊高和脊宽条件下脊形波导的单模特性和偏振特性。在芯层厚度一定的情况下,脊宽越窄,刻蚀深度越浅,波导的传输模式越接近单模。... 以InP/InGaAsP脊形波导结构为研究对象,采用有限元算法(FEM),系统地仿真分析了在固定芯层厚度的情况下,不同脊高和脊宽条件下脊形波导的单模特性和偏振特性。在芯层厚度一定的情况下,脊宽越窄,刻蚀深度越浅,波导的传输模式越接近单模。在深刻蚀情况下,脊波导模双折射系数受到脊宽的影响较大,波导的偏振不敏感性较差;在浅刻蚀情况下,模双折射系数(Δn=nTE-nTM)受到脊宽和脊高的影响较为微弱,稳定在1.2×10-3。相关仿真和分析为基于InP/InGaAsP脊波导的光电子器件的结构设计提供了一定的理论支持。 展开更多
关键词 inp/ingaasp脊波导 单模条件 偏振特性 模双折射系数 光电子器件
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用于宽带光纤用户网的高速1.3μm InGaAsP/InP DH LED 被引量:1
14
作者 郭康瑾 肖德元 +3 位作者 陈启玙 徐少华 陈瑞璋 张晓平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第5期304-308,共5页
本文设计并制作了带有集成透镜的高速1.3μm InGaAsP/InP DH LED.器件的调制带宽达425MHz,与梯度折射率多模光纤的耦合效率高达7.5%,适用于四次群以上的宽带光纤通讯系统,在未来的宽带ISDN中将发挥重要作用.
关键词 光纤通信 ingaasp/inp LED
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GaAs、GaP、InP、InGaAsP、AlGaAs、InAlGaAs的化学腐蚀研究 被引量:6
15
作者 许兆鹏 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期56-63,共8页
为研制全集成光开关、微片式激光器等,对GaAs、GaP、InGaAsP、InAIGaAs、AlGaAs等材料的化学腐蚀进行了实验研究。为了研制InAlGaAs/InAlAs/InAlGaAs微片式激光器,开发了H3P... 为研制全集成光开关、微片式激光器等,对GaAs、GaP、InGaAsP、InAIGaAs、AlGaAs等材料的化学腐蚀进行了实验研究。为了研制InAlGaAs/InAlAs/InAlGaAs微片式激光器,开发了H3PO4/H2O2/H2O薄层腐蚀液和HCl/H2O选择性腐蚀液;为了研制InGaAsP/InP/InGaAsPTbar型光波导,开发了HCl/H3PO4/H2O2薄层腐蚀液和HCl/H2O2选择性腐蚀液;为了研制GaP、InGaP光波导,开发了HCl/HNO3/H2O薄层腐蚀液。它们都具有稳定、重复性好、速率可控、腐蚀后表面形貌好等特点。除此之外,蚀刻成的GaP光波导侧壁平滑无波纹起伏。此种结果尚未见报导。 展开更多
关键词 磷化镓 磷化铟 砷化镓 化学腐蚀
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应力对M-Z型InP/InGaAsP-EAM偏振相关损耗的影响
16
作者 蔡纯 刘旭 +3 位作者 肖金标 丁东 张明德 孙小菡 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期1837-1841,共5页
采用Agilent81910A光子全参量测试仪,首次实验研究了InP/In1-xGaxAs1-yPy-MQW(Multiple-Quantum-Well,MQW)材料与衬底间因应力而产生的M-Z型光调制器的PDL影响以及由此引起的由差分群时延(DifferentialGroupDelay,DGD)表征的偏振模色散(... 采用Agilent81910A光子全参量测试仪,首次实验研究了InP/In1-xGaxAs1-yPy-MQW(Multiple-Quantum-Well,MQW)材料与衬底间因应力而产生的M-Z型光调制器的PDL影响以及由此引起的由差分群时延(DifferentialGroupDelay,DGD)表征的偏振模色散(PolarizationModeDispersion,PMD)·研究结果表明,半导体MQW光调制器的PDL与DGD是一致的·因此在半导体光器件的制作过程中,应尽可能地减小衬底与波导芯层之间的因残存应力的存在造成对光器件的高速性能的不利影响· 展开更多
关键词 inp/ingaasp 偏振相关损耗 应力 差分群时延 多量子阱 Stokes模型
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低压MOCVD外延生长InGaAsP/InP应变量子阱材料与器件应用
17
作者 马骁宇 王树堂 +5 位作者 熊飞克 郭良 王仲明 曾靖 王丽明 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期396-400,共5页
本文报道用低压有机金属化合物化学气相淀积(LP-MOCVD)外延生长InGaAsP/InP应变量子阶材料,材料参数与外延条件的关系,量子阱器件的结构设计及其器件应用.用所生长的材料研制出宽接触阈值电流密度小于400A... 本文报道用低压有机金属化合物化学气相淀积(LP-MOCVD)外延生长InGaAsP/InP应变量子阶材料,材料参数与外延条件的关系,量子阱器件的结构设计及其器件应用.用所生长的材料研制出宽接触阈值电流密度小于400A/cm2(腔长400μm),DC-PBH结构阈值7~12mA的1.3μm量子阱激光器和宽接触阈值电流密度小于600A/cm2(腔长400μm),DC-PBH结构阈值9~15mA的1.55μm量子阶激光器以及高功率1.3μm量子阱发光二极管和InGaAsPIN光电探测器. 展开更多
关键词 MOCVD 外延生长 ingaasp inp 应变量子阱材料
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10×10InGaAsP/InP阵列波导光栅器件的研制
18
作者 雷红兵 于丽娟 +3 位作者 陆巧银 国伟华 韩春林 黄永箴 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2003年第6期49-50,共2页
研制了脊形波导结构的10×10InGaAsP/InP阵列波导光栅器件(AWG),并采用掺铒光纤放大器(EDFA)作宽带光源测量了AWG的近场图以及分光特性。
关键词 波导光栅器件 铟镓砷磷/铟磷阵列 波分复用技术 掺铒光纤放大器 宽带光源 近场图 分光特性 光纤网络通信
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快速1.3μm InGaAsP/InP台面边发光二极管
19
作者 赵蔚 张玉书 +2 位作者 石家纬 金恩顺 高鼎三 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第8期590-593,共4页
本文介绍了快速1.3μm InGaAsP/InP台面边发光二极管(ELED)的研制过程,通过有源区重掺Zn杂质和引进台面结构,提高了器件的调制频率,使-3dB调制带宽达500MHz,70mA电流下输出功率为130μW。
关键词 发光二极管 台面型 ingaasp/inp
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InGaAsP/InP PBH双区共腔双稳激光器的H^+轰击掩膜研究
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作者 张权生 吕卉 +5 位作者 杜云 马朝华 吴荣汉 高洪海 高文智 芦秀玲 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第9期562-567,T001,共7页
在InP H^+轰击工艺研究基础上,开发出一种对中等轰击能量(E≤250keV)的H^+具有满意掩蔽能力的掩膜──Au/Zn/Au/AZ 1350J复合膜,并首次解决了条宽窄至5μm的Au/Zn/Au/AZ 135J断条状掩膜的制备技术,在InGaAsP/InP PBH双区共腔双稳激光器... 在InP H^+轰击工艺研究基础上,开发出一种对中等轰击能量(E≤250keV)的H^+具有满意掩蔽能力的掩膜──Au/Zn/Au/AZ 1350J复合膜,并首次解决了条宽窄至5μm的Au/Zn/Au/AZ 135J断条状掩膜的制备技术,在InGaAsP/InP PBH双区共腔双稳激光器的制备中获得了成功应用。 展开更多
关键词 半导体激光器 ingaasp/inp 共腔
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