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应变补偿InGaN/AlGaN超晶格改善近紫外LED性能
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作者 尹以安 章勇 +1 位作者 范广涵 李述体 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第8期42-46,共5页
通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替... 通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替代量子阱中的Ga N垒层,二是作p型层的接触层。实验发现,该结构的应用不但可以减弱量子阱的Stark效应和抑制电子泄露,而且降低p型接触层的欧姆接触电阻。且发现不用电子阻挡层情况下,其输出功率、PL光谱和I-V特性等都得到极大改善。 展开更多
关键词 应变平衡 ingan/algan超晶格 应变补偿 极化效应 p型欧姆接触电阻 近紫外LED
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InGaN/AlGaN双异质结绿光发光二极管 被引量:6
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作者 陆大成 韩培德 +10 位作者 刘祥林 王晓晖 汪度 袁海荣 王良臣 徐萍 姚文卿 高翠华 刘焕章 葛永才 郑东 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期414-416,共3页
报道了用 LP- MOVPE技术在蓝宝石 ( α- Al2 O3)衬底上生长出以双掺 Zn和 Si的 In Ga N为有源区的绿光 In Ga N/Al Ga N双异质结结构 ,并研制成功发射波长为 52 0— 540 nm的绿光LED.
关键词 氮化镓 InGaA/algan 双异质结 绿光发光二极管
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量子阱数量变化对InGaN/AlGaN LED的影响 被引量:5
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作者 宋晶晶 张运炎 +2 位作者 赵芳 郑树文 范广涵 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1368-1372,共5页
采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,... 采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,电流溢出现象较明显;而当量子阱个数太多时,极化现象明显,且会造成材料浪费。因此应根据工作电流选择合适的量子阱个数。 展开更多
关键词 量子阱数量 数值模拟 ingan algan发光二极管 大功率
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InGaN/AlGaN双异质结构蓝光LED的电学和光学性质 被引量:1
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作者 陈志忠 沈波 +4 位作者 杨凯 施洪涛 陈鹏 郑有 李熹霖 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期256-259,共4页
研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发... 研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发光(EL)谱的测量,得到位于2.8eV的发射峰和位于3.2eV弱发射峰,随着电流增大而均出现蓝移。对大脉冲电流下LED的特性的退化作了研究。 展开更多
关键词 蓝发光二极管 双异质结构 电致发光 LED
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
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作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 ingan/A1GaN双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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MOCVD生长高质量InGaN/AlGaN MQW紫光LED的研究
6
作者 唐健江 刘波波 +1 位作者 杨建锋 白俊春 《科技视界》 2018年第13期177-178,共2页
本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。... 本文利用LP MOCVD系统生长了InGaN/AlGaN MQW紫光LED外延片、并使紫光LED外延的产业化。通过XRD、PL、EL等测试手段对其性能进行表征。结果表明,室温光致发光谱的峰值波长为380-400nm之间,XRD测试半高宽FWHM为17.34 nm波长均匀性良好。制成的LED管芯,正向电流20m A时,EL测试正向电压Vf小于3.4V,反向电压Vz大于18V,亮度大于1.9mcd,漏电流小于0.02m A。并研究了Al掺杂垒含量对MQW紫光LED发光效率的影响,当Al含量为5%时,得到的多量子阱结构的晶体质量最佳。随着Al含量的继续增加,晶体质量下降和正向电压变小,同时发光效率也降低。 展开更多
关键词 ingan/algan 多量子阱 紫光LED MOCVD
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Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of InGaN/AlGaN/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors
7
作者 闫俊达 王权 +11 位作者 王晓亮 肖红领 姜丽娟 殷海波 冯春 王翠梅 渠慎奇 巩稼民 张博 李百泉 王占国 侯洵 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第12期113-116,共4页
Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is... Direct-current transfer characteristics of (InGaN)/A1GaN/A1N/GaN heterojunction field effect transistors (HFETs) are presented. A drain current plateau (IDs = 32.0 mA/mm) for Vcs swept from +0.7 V to -0. 6 V is present in the transfer characteristics of InGaN/AIGaN/AIN/GaN HFETs. The theoretical calculation shows the coexistence of two-dimensional electron gas (2DEG) and two-dimensional hole gas (2DHG) in InGaN/AIGaN/A1N/GaN heterostructures, and the screening effect of 2DHG to the 2DEG in the conduction channel can explain this current plateau. Moreover, the current plateau shows the time-dependent behavior when IDs Vcs scans repeated are conducted. The obtained insight provides indication for the design in the fabrication of GaN-based super HFETs. 展开更多
关键词 algan Observation of a Current Plateau in the Transfer Characteristics of ingan/algan/AlN/GaN Heterojunction Field Effect Transistors ingan AlN
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InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱中应变对光致发光特性的影响
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作者 于彤军 康香宁 +4 位作者 秦志新 陈志忠 杨志坚 胡晓东 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期20-24,共5页
对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱... 对蓝宝石衬底上的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构和经激光剥离去除衬底的InGaN/GaN和InGaN/AlGaN多量子阱结构薄膜样品,进行了光致发光谱、高分辨XRD和喇曼光谱测量.PL测量结果表明,相对于带有蓝宝石衬底的样品,InGaN/GaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生较小的蓝移,而InGaN/AlGaN多量子阱薄膜样品的PL谱峰值波长发生明显的红移;喇曼光谱的结果表明,激光剥离前后E2模的峰值从569.1减少到567.5cm-1.这说明激光剥离去除衬底使得外延层整体的压应力得到部分释放,但InGaN/GaN与InGaN/AlGaN多量子阱结构中阱层InGaN的应力发生了不同的变化.XRD的结果证实了这一结论. 展开更多
关键词 光致发光谱 ingan algan 多量子阱 应变
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Electrical and Optical Properties of InGaN/AlGaN Double Heterostructure Blue Light-Emitting Diodes
9
作者 SHEN Bo SHI Hong-Tao +2 位作者 ZHANG Rong CHEN Zhi-Zhong ZHENG You-Dou 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2001年第2期283-285,共3页
Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure fro... Electrical and optical properties of InGaN/AlGaN double heterostructure blue light-emitting diodes were investigated.Measurement of the forward bias current-voltage behaviour of the device demonstrated a departure from the Shockley model of a p-n diode,and it was observed that the dominant mechanism of carrier transport across the junction is associated with carrier tunnelling.Electroluminescence experiments indicated that there was a main emission band around 2.80 eV and a relatively weaker peak at 3.2 eV.A significant blueshift of the optical emission band was observed,which was consistent with the tunnelling character of electrical characteristics.Furthermore,the degradation in I-V characteristics and the low resistance ohmic short of the device were observed. 展开更多
关键词 GaN/algan Shockley ohmic
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关于《AlGaN基远紫外LED研究进展》的编者按
10
作者 闫建昌 《照明工程学报》 2025年第5期I0001-I0001,共1页
AlGaN基半导体紫外发光二极管(LED)具有无汞环保、工作电压低、开关迅速、波长精确可调、轻便灵活、易于集成等优势,在疫情防控、水净化、光固化、无创光疗、非视距通讯等领域有着广阔的应用,代表着新一代紫外光源的发展趋势。其中,260~... AlGaN基半导体紫外发光二极管(LED)具有无汞环保、工作电压低、开关迅速、波长精确可调、轻便灵活、易于集成等优势,在疫情防控、水净化、光固化、无创光疗、非视距通讯等领域有着广阔的应用,代表着新一代紫外光源的发展趋势。其中,260~280nm波段的深紫外LED因能强效破坏核酸碱基和超快速灭活,在抗击Covid-2019疫情中倍受关注。该波段紫外光会穿透人体皮肤等组织,对人类细胞有一定损害风险。 展开更多
关键词 水净化 algan基半导体 光固化 疫情防控
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AlGaN/GaN HEMT器件有效栅长和栅宽提取
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作者 吴淇暄 张贺秋 +4 位作者 朱江 宁思源 代晓 王子坤 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS 北大核心 2025年第1期105-110,共6页
有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了... 有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了两组AlGaN/GaN HEMT器件,这两组器件的源漏间距为80μm,栅源间距为10μm.其中一组器件固定栅宽为400μm,栅长分别为10、20、30、40、50、60μm;另一组器件固定栅长为40μm,栅宽分别为200、300、400、500、600、800μm.通过研究源漏之间的总电阻随栅长和栅宽变化规律,获得栅长与有效栅长的差值为0.48989μm,栅宽与有效栅宽的差值为-11.12191μm. 展开更多
关键词 algan/GAN高电子迁移率晶体管 器件参数 有效栅长 有效栅宽
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侧壁修复提升237 nm AlGaN基Micro-LED光功率密度研究
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作者 郝家龙 李宏博 +9 位作者 吕顺鹏 朱立财 孙文超 张若甲 刘钟旭 蒋科 贲建伟 张山丽 孙晓娟 黎大兵 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第6期970-978,共9页
AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,... AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,并系统探究了侧壁修复对不同尺寸和不同阵列化Micro-LED的影响规律。研究发现,使用KOH修复侧壁可有效降低AlGaN基深紫外Micro-LED侧壁缺陷密度,减小反向漏电流密度,同时降低由侧壁缺陷导致的肖特基-里德-霍尔(SRH)非辐射复合。对于单台面器件,器件尺寸越小,最大光功率密度越高,但侧壁效应严重制约着小尺寸器件的光功率密度,导致小尺寸器件在低电流密度下光功率密度最低,侧壁修复后,半径12.5μm的器件峰值光功率密度提升最多,提升了186%,且在不同电流密度下光功率密度均最高;对于相同发光面积的阵列化器件,侧壁修复后,阵列化程度越高,光功率密度越高,4×4阵列12.5μm的Micro-LED比半径50.0μm的器件峰值光功率密度提高了116%,其原因是在保持较低侧壁缺陷的情况下,阵列化可以提高电流密度分布均匀性,进而提高光效。该研究有助于提高Micro-LED的光功率密度,并将推动短波深紫外Micro-LED走向实际应用。 展开更多
关键词 侧壁效应 电流拥挤效应 algan micro-LED 侧壁修复 阵列化工程
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漏场板提升增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT击穿电压的研究 被引量:1
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作者 周世刚 于永强 +2 位作者 夏元治 钱君涵 吴春艳 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第5期622-627,共6页
p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT存在背势垒,因此可显著降低GaN缓冲层泄漏电流,提升器件击穿电压,但会面临漏极下方电场强度峰值集中的问题,导致击穿电压偏离。文章通过Silvaco ATLAS仿真,探讨漏场板结构和漏场板下钝化层厚度对p-... p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT存在背势垒,因此可显著降低GaN缓冲层泄漏电流,提升器件击穿电压,但会面临漏极下方电场强度峰值集中的问题,导致击穿电压偏离。文章通过Silvaco ATLAS仿真,探讨漏场板结构和漏场板下钝化层厚度对p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT器件击穿电压的调制,优化漏极下方电场强度峰值分布。结果表明:漏场板的引入可显著提升器件的击穿电压,漏场板厚度在0.10~1.10μm范围时,器件的击穿电压随着漏场板厚度增大而增大;随着漏场板下方钝化层厚度的增大,漏场板边缘下方的沟道电场强度峰值减小,漏极下方的沟道电场强度峰值增大,当漏场板下方钝化层厚度增厚至0.25μm时,沟道电场强度峰值最小,器件的击穿电压提升至1370 V,增幅达53.6%。研究发现,击穿电压的提升主要是由于漏场板的电场调制效应降低了电场强度峰值。 展开更多
关键词 p-GaN帽层增强型algan/GaN/algan HEMT 漏场板 钝化层 击穿电压 电场强度
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日盲紫外AlGaN光电阴极性能提升研究 被引量:1
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作者 陈冠宇 罗伟科 +3 位作者 梁帅 陈鑫龙 王艳 程奎 《光电子技术》 2025年第2期105-111,共7页
通过调节Al组分,可使AlGaN光电阴极在获得更高灵敏度的同时,更好地兼顾光电倍增管的日盲特性。通过优化高Al组分AlGaN材料生长工艺,实现了AlGaN型紫外光电倍增管阴极灵敏度和日盲特性的提升。优化了气流调制生长法的生长温度,抑制了晶... 通过调节Al组分,可使AlGaN光电阴极在获得更高灵敏度的同时,更好地兼顾光电倍增管的日盲特性。通过优化高Al组分AlGaN材料生长工艺,实现了AlGaN型紫外光电倍增管阴极灵敏度和日盲特性的提升。优化了气流调制生长法的生长温度,抑制了晶体生长过程中预反应的发生,减少了AlGaN晶体中的缺陷。采用Mg‑In共掺的方法,提高了Mg的掺杂效率。制备了基于AlGaN光电阴极的日盲紫外光电倍增管,进行了AlGaN光电阴极灵敏度和光谱响应曲线的测试。实验结果表明:通过AlGaN外延材料生长工艺及光电阴极制备工艺的优化,AlGaN光电阴极日盲性能和灵敏度取得显著提升,最终制备出产品的灵敏度达到45 mA/W@270 nm,且截止波长(峰值响应的50%)小于280 nm。 展开更多
关键词 光电阴极 日盲紫外 灵敏度 光谱
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基于AlGaN日盲火焰探测器的智能监测系统关键技术研究
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作者 王林林 李琦 《实验室检测》 2025年第16期7-9,共3页
目的 日盲紫外波段因大气层强烈吸收太阳辐射形成“日盲区”,为火焰探测提供了天然优势。本研究针对传统探测器误报率高的问题,提出双通道时空特征融合模型(DSFFM)。方法 通过卷积神经网络(CNN)提取紫外信号空间模式,结合长短期记忆网络... 目的 日盲紫外波段因大气层强烈吸收太阳辐射形成“日盲区”,为火焰探测提供了天然优势。本研究针对传统探测器误报率高的问题,提出双通道时空特征融合模型(DSFFM)。方法 通过卷积神经网络(CNN)提取紫外信号空间模式,结合长短期记忆网络(LSTM)捕捉时序动态,引入空间-时间双注意力机制动态分配特征权重,如近距离火焰的空间分布差异、远距离火焰的脉冲周期性等,为复杂环境下探测器的精准识别提供算法支持。结果 系统在强干扰环境下具备大于50m探测距离、小于100ms响应速度和720h稳定运行能力,为复杂工业场景提供了高可靠性火灾预警解决方案。结论 本研究通过硬件与智能算法的深度融合,有效突破了传统探测技术在复杂环境中的局限性,为智慧消防、矿山安全等领域提供了核心技术支撑。 展开更多
关键词 algan 日盲火焰检测 智能检测系统 关键技术 深度学习 双通道时空融合
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氮空位在纳米GaN颗粒和InGaN AlGaN双异质结中的聚集(英文)
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作者 张泽 王岩国 李辉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期253-258,共6页
直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ... 直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ,纳米颗粒中心将出现空洞 ,同时使该区的金属镓离子迁移到颗粒的表面。电子显微分析及分子力学理论计算表明 ,这种新的调制结构系空位的有序排列所致。在此基础上 ,进一步研究了InGaN AlGaN的双异质结薄膜结构中直径约为 5 0nm的空洞存在与发光失效的关系 ,讨论了N 展开更多
关键词 氮空位 GaN ingan/algan 双异质结 聚集 氮化镓 氮铟镓 铝镓氮 纳米颗粒 调制结构 高分辨透射电子显微术 选区电子衍射 分子力学
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Numerical simulations on the photoelectric performance of AlGaN-based ultraviolet VCSELs with a slope-shaped p-type layer
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作者 WEN Xin-xin JIA Wei +4 位作者 ZHAI Guang-mei DONG Hai-liang ZHAO Chao LI Tian-bao XU Bing-she 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第3期499-509,共11页
Owing to the low p-type doping efficiency in the hole injection layers(HILs)of GaN-based ultra-violet(UV)vertical-cavity surface-emitting laser(VCSEL),effective hole injection in multi-quantum wells(MQW)is not achieve... Owing to the low p-type doping efficiency in the hole injection layers(HILs)of GaN-based ultra-violet(UV)vertical-cavity surface-emitting laser(VCSEL),effective hole injection in multi-quantum wells(MQW)is not achieved,significantly limiting the photoelectric performance of UV VCSELs.We developed a slope-shaped HIL and an EBL structure in AlGaN-based UV VCSELs.In this study,by improving hole in-jection efficiency,the hole concentration in the HIL is increased,and the hole barrier at the electron barrier layer(EBL)/HIL interface is decreased.This minimises the hindering effect of hole injection.A mathematic-al model of this structure was established using a commercial software,photonic integrated circuit simulator in three-dimension(PICS3D).We conducted simulations and theoretical analyses of the band structure and carrier concentration.Introducing polarisation doping through the Al composition gradient in the HIL en-hanced the hole concentration,thereby improving the hole injection efficiency.Furthermore,modifying the EBL eliminated the abrupt potential barrier for holes at the HIL/EBL interface,smoothing the valence band.This improved the stimulated radiative recombination rate in the MQW,increasing the laser power.There-fore,the sloped p-type layer can enhance the optoelectronic performance of UV VCSELs. 展开更多
关键词 UV VCSEL algan polarisation doping electron barrier layer(EBL) hole injection efficiency
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Si基InGaN可见光器件研究进展
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作者 刘力玮 肖嘉滢 +6 位作者 文灿 周楚翘 曹怡诺 林正梁 李彤彤 闫梓欣 王文樑 《金属世界》 2025年第1期13-24,共12页
Si基InGaN材料因其高电子迁移率,高抗辐射,带隙可调等光电特性,在可见光通信领域展现出良好的潜力。但其发展依旧面临着材料位错密度高、器件性能差及集成度低等问题。为了解决上述问题,研究人员在材料性能,器件设计与集成等方面开展系... Si基InGaN材料因其高电子迁移率,高抗辐射,带隙可调等光电特性,在可见光通信领域展现出良好的潜力。但其发展依旧面临着材料位错密度高、器件性能差及集成度低等问题。为了解决上述问题,研究人员在材料性能,器件设计与集成等方面开展系统地研究并取得了重要进展。本文从材料位错密度调控、器件结构设计与器件集成3个方面讨论了Si基InGaN可见光器件的研究进展及面临的问题,并展望了其发展前景。 展开更多
关键词 可见光通信 器件研究 位错密度 器件性能 器件结构 ingan 器件设计 光电特性
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基于超晶格结构的高电流密度增强型AlGaN/GaN HEMT
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作者 夏元治 吴春艳 +2 位作者 周世刚 钱君涵 于永强 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第10期1352-1356,共5页
凹槽栅是实现增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)的常见技术,但随着栅下AlGaN的刻蚀,极化效应减弱,二维电子气(two-dimensional electron gas,2DEG)浓度降低,电流密度显著降低。文章提出在凹... 凹槽栅是实现增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)的常见技术,但随着栅下AlGaN的刻蚀,极化效应减弱,二维电子气(two-dimensional electron gas,2DEG)浓度降低,电流密度显著降低。文章提出在凹槽栅金属-绝缘层-半导体(metal-insulator-semiconductor,MIS)结构栅下叠加4 nm GaN和1 nm AlN超晶格(superlattice,SL)结构,通过在AlGaN与GaN之间引入一层超晶格层、增加一层二维电子气沟道来提高电流密度,并利用Silvaco TCAD软件系统仿真凹槽深度、栅介质以及超晶格层对器件电流密度的影响。仿真结果表明:使用5 nm HfO_(2)栅介质层并增加一层超晶格层(4 nm GaN+1 nm AlN)的AlGaN/GaN SL-MISHEMT,阈值电压V_(th)为0.14 V,电流密度I_(ds)达到1014 mA/mm(V ds=10 V,V_(gs)=10 V);与常规AlGaN/GaN HEMT(V_(th)=-3.16 V)相比,器件阈值电压增加了3.28 V;与无超晶格层的AlGaN/GaN MISHEMT相比,电流密度提高了24%。 展开更多
关键词 algan/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT) 凹槽栅 超晶格(SL) 功率器件仿真
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栅极几何结构对MIS栅结构常关p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响
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作者 都继瑶 《沈阳理工大学学报》 CAS 2025年第1期72-77,共6页
高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGa... 高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响。栅极介质层采用5 nm厚的原位生长AlN,AlN/p-GaN界面呈现出更明显的能带弯曲和更宽的耗尽区,有利于阈值电压向正向偏移,且其相对较宽的能带错位有助于抑制栅极电流。实验结果表明:与栅极非覆盖区长度为0μm和6μm的MIS栅极相比,非覆盖区长度为3μm的MIS栅极可提高器件综合性能,有效抑制正向栅极电流,将阈值电压提高至3 V,并较好地保持电流密度为46 mA/mm;栅极结构中两侧没有栅极覆盖的区域在导通过程和导通状态下均可引起较大的沟道电阻,且沟道电阻随着非覆盖区长度增加而上升。 展开更多
关键词 p-GaN/algan/GaN异质结 AlN介质层 常关型器件 金属/绝缘体/半导体 栅极非覆盖区
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