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InGaAs/GaAsP应变补偿多量子阱MOCVD生长 被引量:4
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作者 王旭 王海珠 +4 位作者 张彬 王曲惠 范杰 邹永刚 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期448-454,共7页
利用金属有机化学气相沉积技术在GaAs衬底上开展了大失配InGaAs多量子阱的外延生长研究。针对InGaAs与GaAs之间较大晶格失配的问题,设计了GaAsP应变补偿层结构;通过理论模拟与实验相结合的方式,调控了GaAsP材料体系中的P组分,设计了P组... 利用金属有机化学气相沉积技术在GaAs衬底上开展了大失配InGaAs多量子阱的外延生长研究。针对InGaAs与GaAs之间较大晶格失配的问题,设计了GaAsP应变补偿层结构;通过理论模拟与实验相结合的方式,调控了GaAsP材料体系中的P组分,设计了P组分分别为0,0.128,0.184,0.257的三周期In_(x)Ga_(1-x)As/GaAs_(1-y)P_(y)多量子阱结构;通过PL、XRD、AFM测试对比发现,高势垒GaAsP材料的张应变补偿可以改善晶体质量。综合比较,在P组分为0.184时,PL波长1043.6 nm,半峰宽29.9 nm,XRD有多级卫星峰且半峰宽较小,AFM粗糙度为0.130 nm,表面形貌显示为台阶流生长模式。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 ingaas/gaasp 应变补偿 多量子阱 晶格失配
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晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池 被引量:1
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作者 蒋卓宇 李娟 +2 位作者 孔祥力 代盼 孙强健 《半导体技术》 北大核心 2025年第4期365-371,共7页
为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起... 为了避免直接外延生长引起晶格失配问题,利用晶圆键合技术开发了GaAs/InGaAs双结太阳电池。采用金属固态源分子束外延(MBE)生长方法,在GaAs衬底上生长GaAs顶电池,在InP衬底上生长InGaAs底电池。通过晶圆键合技术将这些子电池键合在一起,制备了晶圆键合GaAs/InGaAs双结太阳电池。测试结果显示,通过晶圆键合技术制备的双结太阳电池具有较低的电损耗,在聚光下获得了超过31.7%的光电转换效率。双结太阳电池的晶圆键合技术改善了常规直接材料生长方法因晶格失配造成的位错问题,可以更灵活地实现双结太阳电池的优化设计。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) ingaas GAAS 晶圆键合 双结太阳电池
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基于线阵InGaAs相机的亮环境下光伏电池板缺陷检测方法
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作者 徐晗 钱芸生 +2 位作者 张益军 郎怡政 黄益东 《应用光学》 北大核心 2025年第1期156-162,共7页
亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modu... 亮环境下太阳光容易淹没光伏电池板光致发光(photoluminescence,PL)现象的缺陷信息,使检测设备无法直接感知缺陷。针对此问题,提出了一种基于时域误差的检测方法,能够有效降低亮环境下太阳光的干扰。该方法利用快速PWM(pulse width modulation)斩波恒流电源输出高频调制电流信号,驱动850 nm光源输出调制光激励光伏电池板,使用短波红外线阵InGaAs相机捕捉具有调制特性的图像序列,经现场可编程门阵列(field programmable gate array,FPGA)从图像序列中提取光伏电池板的缺陷信息。实验结果表明,该方法能够在2.9 lx~(12580±5)lx的照度范围内有效地检测缺陷图案信息,实现亮环境下光伏电池板的连续性缺陷检测。 展开更多
关键词 光致发光 线阵ingaas相机 亮环境 缺陷检测
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基于XRD和PL光谱分析的InGaAs/GaAs量子阱生长温度依赖性研究
4
作者 李博 马淑芳 +9 位作者 阳智 程睿思 刘思敏 王嘉惠 郝晓东 尚林 仇伯仓 董海亮 韩丹 许并社 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第6期1584-1591,共8页
InGaAs/GaAs多量子阱(MQWs)结构因其具有独特的量子限制效应和优异的光电性能,使其作为激光器的有源区在光通信和光电器件中具有广泛应用。在该结构中通过改变In组分来调控带隙宽度进而满足不同波长的需求,分子束外延(MBE)生长MQWs时可... InGaAs/GaAs多量子阱(MQWs)结构因其具有独特的量子限制效应和优异的光电性能,使其作为激光器的有源区在光通信和光电器件中具有广泛应用。在该结构中通过改变In组分来调控带隙宽度进而满足不同波长的需求,分子束外延(MBE)生长MQWs时可以高精度的控制材料的组分和厚度,从而优化光学性能。尽管InGaAs/GaAs MQWs在许多方面取得了进展,但在In组分较高的InGaAs量子阱中,由于晶格失配会导致位错产生,进而引发界面缺陷,影响材料的晶体质量和光学性能,所以通过MBE生长调控来提高晶体质量对改善光学性质极具意义。在MBE生长过程中,利用生长温度来优化生长动力学,进而调控原子在界面的迁移,尤其是In、Ga原子的迁移,对于提高InGaAs/GaAs MQWs的界面质量和晶体质量有着至关重要的作用。为了探究生长温度对MQWs晶体质量、界面质量和发光性能的影响,我们采用MBE方法分别在505和490℃下生长了两组InGaAs/GaAs MQWs样品,并使用高分辨率X射线衍射(HRXRD)、光致发光(PL)进行了晶体质量和光学性能表征分析。HRXRD结果表明,由于高温下生长有利于提高Ⅲ族原子动力学和原子扩散长度,使得生长工艺中In和Ga原子的迁移增加,这有利于原子在外延层表面找到能量较低的位置形核;因此,在505℃生长的MQWs样品的缺陷密度为1.02×10^(5) cm^(-2),较小,缺陷少应力小,具有较好的晶体质量和界面质量。此外,光致发光性能测试分析结果表明,在505℃生长的MQWs样品发光强度高,发光均匀性良好,并进一步证明其晶体质量优于490℃生长的样品。说明了合适的生长温度有利于提高InGaAs/GaAs MQWs的界面质量和光学性能。该工艺参数对MBE制备MQWs材料具有重要的参考意义。 展开更多
关键词 ingaas/GaAs多量子阱 MBE生长 高分辨率X射线衍射谱 光致发光谱
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基于等离子体氢化的PIN型InGaAs探测器性能研究
5
作者 冯斌耀 乔辉 +4 位作者 于一榛 杨力怡 贺香荣 夏润泽 李雪 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期64-73,共10页
等离子氢化技术能够在室温条件下改善材料的性能,因而该方法在基于化合物半导体材料的红外探测器中具有重要的应用前景。短波红外铟镓砷(InGaAs)探测器是一种重要的红外器件,具有室温高量子效率和高灵敏度的特点,因而能应用于广泛的领... 等离子氢化技术能够在室温条件下改善材料的性能,因而该方法在基于化合物半导体材料的红外探测器中具有重要的应用前景。短波红外铟镓砷(InGaAs)探测器是一种重要的红外器件,具有室温高量子效率和高灵敏度的特点,因而能应用于广泛的领域。暗电流是短波红外InGaAs探测器的重要性能参数,降低各偏压下的暗电流能够提升器件在不同应用场景下的探测能力。针对等离子氢化技术在PIN型InGaAs探测器中的应用开展了研究,并分析其与暗电流机制及噪声特性的关系。通过I-V测试结果发现InGaAs探测器经氢化后暗电流显著降低,在-1 V的较大偏压下暗电流密度均值从36.13 nA/cm^(2)降低到17.42 nA/cm^(2),在-0.02 V的近零偏条件下暗电流密度均值从6.54 nA/cm^(2)降低到2.44 nA/cm^(2),不同偏压下暗电流密均降低了2~3倍。进一步开展暗电流机制分析,发现扩散电流、产生-复合电流和分路电流都得到不同程度的抑制,0~-0.27 V的偏压范围内氢化前后都以扩散电流占主导,在大偏压下分路电流在氢化后的占比略有增加。由于InGaAs少子寿命经过氢化从10.7μs增加6倍到75.2μs,同时零偏电阻增大了1.75倍,因而探测器的暗噪声降低了约40%。因此,采用室温等离子体氢化处理能够对PIN型InGaAs探测器的暗电流和噪声进行改善,对InGaAs探测器在更高灵敏度的应用场景下具有重要的技术参考价值。 展开更多
关键词 铟镓砷 氢化 暗电流 暗噪声
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高密度平面型InGaAs焦平面像元耦合作用数学模型
6
作者 杜爱博 于春蕾 +6 位作者 邵秀梅 于金瀛 宝鹏飞 陆劲速 杨波 朱宪亮 李雪 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第4期496-502,共7页
InGaAs焦平面探测器的应用追求高密度、小中心距,中心距的减小加强了面阵像元间的相互耦合作用。本文通过制备不同规模5μm中心距InGaAs小面阵器件,研究高密度焦平面像元耦合作用,创新地引入矩阵方程描述各部分的暗电流贡献,构建像元耦... InGaAs焦平面探测器的应用追求高密度、小中心距,中心距的减小加强了面阵像元间的相互耦合作用。本文通过制备不同规模5μm中心距InGaAs小面阵器件,研究高密度焦平面像元耦合作用,创新地引入矩阵方程描述各部分的暗电流贡献,构建像元耦合数学模型,定量分析了耦合作用导致的暗电流贡献。结果表明,在-0.1V偏压下,面阵中反偏状态像元对邻近反偏状态像元的暗电流抑制程度为像元本底暗电流的21.39%;零偏状态像元对邻近反偏状态像元的暗电流增幅程度可达219.42%。利用高密度焦平面像元耦合模型,总结了像元耦合对暗电流的影响规律,为高密度InGaAs焦平面的暗电流研究提供了新的思路。 展开更多
关键词 铟镓砷 焦平面 5μm中心距 暗电流 像元耦合作用
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InGaAs-Si基光电探测器异质集成技术研究进展
7
作者 李宛励 周鑫 +5 位作者 孔繁林 陈庆敏 梁丕刚 舒域鑫 代千 宋海智 《激光技术》 北大核心 2025年第4期617-625,共9页
短波红外波段包含目标的多种光谱信息,具有良好的大气传输特性,是光电探测、激光通信等应用领域的重要波段之一。硅基光电子器件具有低功耗、高带宽等优势,但其光谱响应范围局限于可见光波段,难以直接进行短波红外波段的高响应度光电探... 短波红外波段包含目标的多种光谱信息,具有良好的大气传输特性,是光电探测、激光通信等应用领域的重要波段之一。硅基光电子器件具有低功耗、高带宽等优势,但其光谱响应范围局限于可见光波段,难以直接进行短波红外波段的高响应度光电探测,将具有较高短波红外波段吸收能力的铟镓砷(InGaAs)材料与硅(Si)材料进行光电集成、研制新型高灵敏度光电探测器件成为了当前研究的热点方向。光电集成技术作为超高速、低功耗、小型化的半导体光电器件核心技术,有力支撑了大数据、云计算、物联网等新一代信息技术实现跨越式发展。通过梳理光电集成技术的国内外研究发展历程、现状和趋势,聚焦于InGaAs-Si基光电探测器,分别对材料外延生长、倒装芯片集成、芯片/晶圆键合和其他新型光电集成技术进行讨论,分析了不同光电集成技术的特点、优势、不足及应用场景,并展望了未来光电集成技术的发展方向。 展开更多
关键词 集成光学 光电集成技术 异质异构集成 铟镓砷 硅基光电子 探测器
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InGaAs焦平面探测器可见光波长拓展技术
8
作者 张圆圆 张夏琦 +4 位作者 任江 陈扬 张金龙 姚彬彬 刘琨 《电子工业专用设备》 2025年第5期46-48,58,共4页
研究了“减薄/腐蚀”厚度比例分配、腐蚀液优化、读出电路金属PAD保护、减反膜设计制备等技术,获得表面光亮、最终厚度3~6μm、对0.4~1.7μm光谱范围内可见光和短波红外光同时响应的焦平面探测器。器件性能测试结果表明,可实现0.4~1.7μ... 研究了“减薄/腐蚀”厚度比例分配、腐蚀液优化、读出电路金属PAD保护、减反膜设计制备等技术,获得表面光亮、最终厚度3~6μm、对0.4~1.7μm光谱范围内可见光和短波红外光同时响应的焦平面探测器。器件性能测试结果表明,可实现0.4~1.7μm波长的响应。 展开更多
关键词 ingaas焦平面 衬底移除 可见光波长
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1.74μm大应变InGaAs/InGaAsP半导体锁模激光器
9
作者 段阳 林中晞 苏辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第6期90-97,共8页
针对光频梳、医学光声成像及痕量气体探测等应用需要,研制了一种InP基碰撞锁模半导体激光器,可在1.74μm波段实现重复频率为19.3GHz的高效锁模,其射频(RF)谱半高全宽(FWHM)约14kHz。在可饱和吸收区未加偏压时,激光器的阈值电流为83mA,... 针对光频梳、医学光声成像及痕量气体探测等应用需要,研制了一种InP基碰撞锁模半导体激光器,可在1.74μm波段实现重复频率为19.3GHz的高效锁模,其射频(RF)谱半高全宽(FWHM)约14kHz。在可饱和吸收区未加偏压时,激光器的阈值电流为83mA,最大出光功率可达到25.83mW。固定吸收区偏置电压在-1.6V,增益区驱动电流高于130mA时,锁模激光器开始输出微波射频信号,并且RF谱的FWHM随着电流增加可下降至十几kHz。固定驱动电流为520mA,在吸收区偏置电压从-1.4V降至-2V过程中,激光发射光谱逐渐展宽,在-2V偏压下,光谱的FWHM为9.88nm,包含40多个间隔为0.2nm的纵模。对比分析了不同驱动电流和偏置电压下的射频频谱和发射光谱的变化趋势,证明了该锁模器件具有高效、稳定的锁模机制。 展开更多
关键词 半导体激光器 碰撞锁模 InP基材料 ingaas/ingaasP多量子阱
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不同光敏元尺寸对InGaAs探测器光电流的影响
10
作者 黄郑东 《应用物理》 2025年第5期405-412,共8页
InGaAs光电探测器因其优异的短波红外响应特性、低暗电流和高响应度,在红外成像、激光通信和光谱检测等领域具有广泛应用。光敏元作为探测器的核心结构,其面积大小不仅影响光通量的吸收效率,还关系到器件的空间分辨率和光电性能。然而,... InGaAs光电探测器因其优异的短波红外响应特性、低暗电流和高响应度,在红外成像、激光通信和光谱检测等领域具有广泛应用。光敏元作为探测器的核心结构,其面积大小不仅影响光通量的吸收效率,还关系到器件的空间分辨率和光电性能。然而,光敏元面积对光电流特性的具体影响规律仍需系统实验验证。为此,本文设计并制备了光敏元面积从30 × 30 μm2至500 × 500 μm2的InGaAs探测器样品,测试并分析了其在暗态和光照条件下的电流–电压(I-V)特性。结果表明,随着光敏面积的增加,光电流呈明显增强趋势,且I-V曲线形状保持一致,反映出材料制程的一致性。在暗态下,暗电流随光敏元面积的增大而增大,但单位面积暗电流密度基本稳定,说明其主要来源为体电流。在光照条件下,不同面积器件的光电流接近线性增长,验证了光敏面积对光响应能力的直接影响。研究结果为InGaAs光电探测器在高分辨率与多像元集成应用中的结构设计提供了重要参考。This InGaAs photodetector, with its excellent short-wavelength infrared response, low dark current, and high responsivity, has been widely applied in infrared imaging, laser communication, and spectral detection. As the core structure of the detector, the area of the photosensitive element not only affects the efficiency of light flux absorption but also relates closely to the spatial resolution and photoelectric performance of the device. However, the specific influence of the photosensitive area on photocurrent characteristics still requires systematic experimental verification. To this end, this study designs and fabricates InGaAs detector samples with photosensitive areas ranging from 30 × 30 μm2 to 500 × 500 μm2, and investigates their current-voltage (I-V) characteristics under both dark and illuminated conditions. The results show that as the photosensitive area increases, the photocurrent exhibits a significant rising trend, while the overall I-V curve shape remains consistent, reflecting the uniformity of the material fabrication process. Under dark conditions, the dark current increases with the photosensitive area, but the dark current density per unit area remains nearly constant, indicating that the primary source is bulk current. Under illumination, the photocurrent of devices with different areas increases nearly linearly, confirming the direct impact of the photosensitive area on light response capability. These findings provide valuable reference for structural design in high-resolution and multi-pixel integrated applications of InGaAs photodetectors. 展开更多
关键词 ingaas光电探测器 光敏元 光电流 电流–电压特性
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含InGaAsP的InP DHBT复合式集电区结构设计 被引量:3
11
作者 程伟 金智 +1 位作者 于进勇 刘新宇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期943-946,共4页
为了降低InPDHBT的B-C之间的导带势垒,抑制电流阻挡效应,采用了一种含InGaAsP的复合式集电区结构.第一次从理论上分析了此种类型的复合式集电区各个参数对于DHBT性能的影响并给出了优化方案,为此类型的复合式集电区结构的设计提供了理... 为了降低InPDHBT的B-C之间的导带势垒,抑制电流阻挡效应,采用了一种含InGaAsP的复合式集电区结构.第一次从理论上分析了此种类型的复合式集电区各个参数对于DHBT性能的影响并给出了优化方案,为此类型的复合式集电区结构的设计提供了理论指导和设计参考.基于文中所述的理论,对文献中的数据进行了分析,得到了令人满意的结果. 展开更多
关键词 INP/ingaas HBT 复合式集电区 势垒尖峰
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高性能512×2元线列InGaAs短波红外探测器
12
作者 朱琴 范明国 +4 位作者 宋欣波 齐浩泽 方莉媛 管涛 龚晓霞 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第7期826-830,共5页
针对色选行业对高均匀性、低暗电流、低盲元率的线列InGaAs短波红外探测器的迫切需求,本文基于MOCVD生长的n-i-n型InP/InGaAs/InP外延材料,采用扩散、钝化膜制备、电极生长等工艺,制备了512×2元线列InGaAs短波红外探测器。通过优... 针对色选行业对高均匀性、低暗电流、低盲元率的线列InGaAs短波红外探测器的迫切需求,本文基于MOCVD生长的n-i-n型InP/InGaAs/InP外延材料,采用扩散、钝化膜制备、电极生长等工艺,制备了512×2元线列InGaAs短波红外探测器。通过优化器件结构及钝化膜制备工艺,器件暗电流得到了有效的抑制;通过对倒装互联工艺参数进行优化,实现了高可靠性、高连通率的512×2元线列探测器的制备。室温下(25℃)对探测器组件进行测试,其峰值探测率为1.13×10^(12) cm×Hz^(1/2)/W,暗电流密度为12.8 nA/cm^(2),有效像元率≥99.5%,响应非均匀性低至0.63%。 展开更多
关键词 ingaas 钝化 暗电流 倒装互联
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InGaAs/InGaAsP量子阱激光器材料带隙蓝移研究 被引量:1
13
作者 刘超 李国辉 +3 位作者 韩德俊 姬成周 陈涌海 叶小玲 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期170-173,共4页
为了在光开关器件的制作中实现低传输损耗的光波导 ,对InGaAs/InGaAsP分别限制异质结多量子阱 (SCH MQW )激光器结构进行了一系列带隙蓝移实验 .将能量 12MeV、注量 15×10 13cm- 2 的P+注入到实验样品后 ,在 70 0℃下快速热退火 9... 为了在光开关器件的制作中实现低传输损耗的光波导 ,对InGaAs/InGaAsP分别限制异质结多量子阱 (SCH MQW )激光器结构进行了一系列带隙蓝移实验 .将能量 12MeV、注量 15×10 13cm- 2 的P+注入到实验样品后 ,在 70 0℃下快速热退火 90s.发现光致发光谱的峰值位置发生蓝移 989nm .蓝移量随着注入能量和注量的增大而增大 ,并且能量比注量对蓝移的影响更大 . 展开更多
关键词 半导体激光器 量子阱混合 波长蓝移 ingaas/ingaasP 光致发光谱
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InGaAsP/InP MQW电流控制型双稳/非线性增益开关激光器 被引量:1
14
作者 张权生 石志文 +2 位作者 杜云 颜学进 赵军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第11期813-816,共4页
一种电流控制型二端及三端MQW(多量子阱)InGaAsP/InP双区共腔双稳/非线性增益开关激光器业已研制成功,文中报道了部分结果.
关键词 双稳激光器 ingaas 磷化铟 多量子阱
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HCl/HF/CrO_3溶液对InGaAs/InGaAsP的选择性湿法刻蚀——应用于楔形结构的制备 被引量:1
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作者 黄辉 王兴妍 +4 位作者 任晓敏 王琦 黄永清 高俊华 马晓宇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1469-1474,共6页
利用动态掩膜湿法腐蚀技术,研究了HCl/HF/CrO3溶液对与InP衬底晶格匹配的InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4,0.6)材料的腐蚀特性.对于HCl(36wt%)/HF(40wt%)/CrO3(10wt%)的体积比为x∶0.5∶1的溶液,随着x由0增加到1.25,相应的腐蚀液对In0.53Ga... 利用动态掩膜湿法腐蚀技术,研究了HCl/HF/CrO3溶液对与InP衬底晶格匹配的InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4,0.6)材料的腐蚀特性.对于HCl(36wt%)/HF(40wt%)/CrO3(10wt%)的体积比为x∶0.5∶1的溶液,随着x由0增加到1.25,相应的腐蚀液对In0.53Ga0.47As/In0.72Ga0.28As0.6P0.4的选择性由42.4降到1.4;通过调节腐蚀液的选择性,在In0.72Ga0.28As0.6P0.4外延层上制备出了倾角从1.35°到35.9°的各种楔形结构;当x为0.025和1.25时,相应的In0.72Ga0.28As0.6P0.4腐蚀表面的均方根粗糙度分别为1.1nm和1.6nm.还研究了溶液的组分与InxGa1-xAs1-yPy(y=0,0.2,0.4)的腐蚀速率间的关系,并对腐蚀机理进行了分析. 展开更多
关键词 半导体器件 制造工艺 楔形结构 动态掩膜湿法腐蚀技术 刻蚀 选择性湿法 HCl/HF/CrO3溶液 ingaasP ingaas
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MBE脱氧条件与InGaAs/InP APD性能的相关性 被引量:1
16
作者 郭子路 王文娟 +7 位作者 曲会丹 范柳燕 诸毅诚 王亚杰 郑长林 王兴军 陈平平 陆卫 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期63-69,共7页
InP基InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)对近红外光具有高敏感度,使其成为微弱信号和单光子探测的理想光电器件。然而随着先进器件结构越来越复杂,厚度尺寸从量子点到几微米不等,性能越来越受材料中晶格缺陷的影响和工艺条件的制约。采用... InP基InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)对近红外光具有高敏感度,使其成为微弱信号和单光子探测的理想光电器件。然而随着先进器件结构越来越复杂,厚度尺寸从量子点到几微米不等,性能越来越受材料中晶格缺陷的影响和工艺条件的制约。采用固态源分子束外延(MBE)技术分别在As和P气氛保护下对InP衬底进行脱氧处理并外延生长晶格匹配的In_(0.53)Ga_(0.47)As薄膜和APD结构材料。实验结果表明,As脱氧在MBE材料质量方面比P脱氧具有明显的优势,可获得陡直明锐的异质结界面,降低载流子浓度,提高霍尔迁移率,延长少子寿命,并抑制器件中点缺陷或杂质缺陷引起的暗电流。因此,As脱氧可以有效提高MBE材料的质量,这项工作优化了InP衬底InGaAs/InP外延生长参数和器件制造条件。 展开更多
关键词 分子束外延 P/As切换 异质界面扩散 ingaas/InP雪崩光电二极管
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用离子注入的方法实现InGaAs/InGaAsP激光器材料的量子阱混合
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作者 刘超 李国辉 韩德俊 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第3期236-239,共4页
为了在光开关器件的局部区域实现量子阱混合,选用1~2MeV、1×1013~5×1013cm-2的P+离子注入到InGaAs/InGaAsP分别限制多量子阱(SCH-MQW)激光器结构,在700oC下快速热退火90s。发现光致发光谱的峰值位置发生蓝移9~89nm... 为了在光开关器件的局部区域实现量子阱混合,选用1~2MeV、1×1013~5×1013cm-2的P+离子注入到InGaAs/InGaAsP分别限制多量子阱(SCH-MQW)激光器结构,在700oC下快速热退火90s。发现光致发光谱的峰值位置发生蓝移9~89nm。蓝移的大小随着注入能量和剂量的增大而增大,并且能量比剂量对蓝移的影响更大。 展开更多
关键词 量子阱混合 ingaas/ingaasP 离入注入 激光器
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GSMBE-Grown InGaAs/InGaAsP Strained Quantum Well Lasers at 1.84 Micron Wavelength 被引量:1
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作者 柏劲松 方祖捷 +3 位作者 张云妹 陈高庭 李爱珍 陈建新 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期126-129,共4页
GSMBE grown 1 84 micron wavelength InGaAs/InGaAsP/InP strained quantum well lasers are reported. Lasers with 800 micron long cavity and 40 micron wide planar electrical stripe have been operated under the pulsed r... GSMBE grown 1 84 micron wavelength InGaAs/InGaAsP/InP strained quantum well lasers are reported. Lasers with 800 micron long cavity and 40 micron wide planar electrical stripe have been operated under the pulsed regime at room temperature. At 20℃, the threshold current density is 3 8kA/cm 2 and the external different quantum efficiency is 9 3%. 展开更多
关键词 GSMBE midinfrared band strained quantum well laser
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基于线阵InGaAs相机的光伏电池板光致发光成像系统研究 被引量:1
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作者 黄益东 钱芸生 +1 位作者 张益军 徐晗 《电子测量技术》 北大核心 2024年第5期9-15,共7页
现有光伏电池板缺陷检测多采用电致发光激励以及面阵相机检测等方法,存在操作复杂、效率低等问题,为此开展基于线阵InGaAs相机的光伏电池板光致发光成像系统研究。首先,设计线阵InGaAs相机硬件框架与逻辑框架,以FPGA驱动线阵InGaAs相机... 现有光伏电池板缺陷检测多采用电致发光激励以及面阵相机检测等方法,存在操作复杂、效率低等问题,为此开展基于线阵InGaAs相机的光伏电池板光致发光成像系统研究。首先,设计线阵InGaAs相机硬件框架与逻辑框架,以FPGA驱动线阵InGaAs相机完成数据采集与图像显示。通过固定模式噪声去除算法与直方图双向均衡算法,去除了缺陷图像中固定模式噪声,同时提升了图像的对比度和清晰度。最后通过搭建整体成像系统,通过光致发光成像对不同种类的光伏电池板的多种缺陷进行成像实验,检测精度达到0.2 mm/pixel。实验结果表明该系统可以完成对单晶硅与多晶硅光伏电池板中隐裂、黑斑、坏片、混档和脏污等缺陷的检测。 展开更多
关键词 光致发光 FPGA 缺陷检测 ingaas传感器 光伏电池板
原文传递
低压低能耗应用的InGaAs/AlGaAsPHEMT单片微波SPDT开关 被引量:2
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作者 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期244-251,共8页
提出了微波频率下PHEMT在作开关运用时一种简化的等效电路模型,其模型参数可从对实际PHEMT芯片的在片微波测试方便地确定。对于电路中元件采用不同尺寸组合情形下所进行的开关性能(插入损耗,隔离度,输入及输出反射损耗)... 提出了微波频率下PHEMT在作开关运用时一种简化的等效电路模型,其模型参数可从对实际PHEMT芯片的在片微波测试方便地确定。对于电路中元件采用不同尺寸组合情形下所进行的开关性能(插入损耗,隔离度,输入及输出反射损耗)的模拟计算表明,与实验结果符合良好。在对串/并联PHEMT型SPDT开关的CAD优化设计基础上进行了InGaAs/AlGaAsPHEMT单片SPDT微波开关的实验研制。从研制的MMIC芯片上在片测试得到的结果为:对应新的个人通信频段的应用,在0~2GHZ范围内,插入损耗<1.0dB,隔离度>50dB,输入及输出反射损耗均优于24dB。研制的这种高性能单片开关还可在低至-2.0V的控制电压下工作。 展开更多
关键词 微波集成电路 微波半导体器件
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