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GaInAsSb/GaSb红外探测器抗反膜的研究 被引量:2
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作者 刘延祥 夏冠群 +2 位作者 唐绍裘 李志怀 程宗权 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期327-332,共6页
简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件... 简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件的I-V特性及黑体探测率的测试表明:蒸镀ZrO2膜后GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器的黑体探测率平均提高了60.28%,远大于蒸镀A l2O3、SiO2后的48.91%和40.04%,说明ZrO2膜是一种较理想的单层抗反膜,使器件性能有所提高。 展开更多
关键词 抗反膜 GAinassb/gasb 反射率I-V 黑体探测率
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Room-temperature operating extended short wavelength infrared photodetector based on interband transition of InAsSb/GaSb quantum well 被引量:1
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作者 Ling Sun Lu Wang +7 位作者 Jin-Lei Lu Jie Liu Jun Fang Li-Li Xie Zhi-Biao Hao Hai-Qiang Jia Wen-Xin Wang Hong Chen 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第4期396-400,共5页
Here in this paper,we report a room-temperature operating infrared photodetector based on the interband transition of an In As Sb/Ga Sb quantum well.The interband transition energy of 5-nm thick In As(0.91)Sb(0.09... Here in this paper,we report a room-temperature operating infrared photodetector based on the interband transition of an In As Sb/Ga Sb quantum well.The interband transition energy of 5-nm thick In As(0.91)Sb(0.09) embedded in the Ga Sb barrier is calculated to be 0.53 e V(2.35μm),which makes the absorption range of In As Sb cover an entire range from short-wavelength infrared to long-wavelength infrared spectrum.The fabricated photodetector exhibits a narrow response range from 2.0μm to 2.3μm with a peak around 2.1μm at 300 K.The peak responsivity is 0.4 A/W under-500-m Vapplied bias voltage,corresponding to a peak quantum efficiency of 23.8%in the case without any anti-reflection coating.At 300 K,the photodetector exhibits a dark current density of 6.05×10^-3A/cm^2 under-400-m V applied bias voltage and 3.25×10^-5A/cm^2 under zero,separately.The peak detectivity is 6.91×10^10cm·Hz^1/2/W under zero bias voltage at 300 K. 展开更多
关键词 inassb/gasb quantum well interband transition PHOTODETECTOR room temperature operating
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GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器及其Ⅰ-Ⅴ特性的研究 被引量:1
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作者 刘延祥 夏冠群 +1 位作者 唐绍裘 程宗权 《红外》 CAS 2004年第5期1-4,共4页
本文简单介绍了GaInAsSb/GaSb PIN探测器的结构及工作原理,重点分析了生长窗口层和硫钝化两种不同的改善探测器Ⅰ-Ⅴ反向偏软的特性的方法。
关键词 红外探测器 I-V特性 镓铟砷锑材料 锑化镓材料 禁带宽度
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 INAS/gasb超晶格 长波 焦平面
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中/长波双色1280×1024 InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器研究
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作者 刘铭 游聪娅 +11 位作者 任昂 程雨 张轶 王静 王晓乾 闫勇 周蕾 常发冉 徐应强 张烨 梁岩 王国伟 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第12期78-84,共7页
双色红外探测器利用不同波段的响应特性差异,可有效提高探测识别能力。文中报道了中/长波双色超晶格红外探测器研究结果。探测器采用两个超晶格PN结二极管以背靠背形式形成PN-N P的叠层外延结构。双波段信号通过偏压调节顺序读出。通过... 双色红外探测器利用不同波段的响应特性差异,可有效提高探测识别能力。文中报道了中/长波双色超晶格红外探测器研究结果。探测器采用两个超晶格PN结二极管以背靠背形式形成PN-N P的叠层外延结构。双波段信号通过偏压调节顺序读出。通过台面制备、表面钝化、电极生长、倒装互连、衬底减薄等制备工艺,研制出了阵列规格1280×1024、像元中心距15μm×15μm中/长波双色超晶格红外探测器组件。经测试,探测器中波和长波的50%截止波长分别为4.99μm和9.53μm,在F/2、77 K条件下中波和长波噪声等效温差(NETD)分别达到18.9 m K和27.6 mK。中波和长波成像质量良好,双波段差异对比清晰,体现了中/长波双波段探测成像的优势。 展开更多
关键词 Ⅱ类超晶格 双色 焦平面阵列 INAS/gasb
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GaSb衬底上InAsSb材料的电学性能研究
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作者 孙庆灵 姚官生 +6 位作者 曹先存 王禄 王文奇 孙令 王文新 贾海强 陈弘 《航空兵器》 2016年第3期59-61,共3页
采用分子束外延(MBE)法在GaSb衬底上生长了不同组分的InAsSb外延膜。通过引入Al GaSb插层,实现对导电GaSb衬底上InAsSb材料电学性质的定性表征,并研究了生长温度和晶格失配对InAsSb外延层电学性能的影响。测试结果表明,在较低生长温度... 采用分子束外延(MBE)法在GaSb衬底上生长了不同组分的InAsSb外延膜。通过引入Al GaSb插层,实现对导电GaSb衬底上InAsSb材料电学性质的定性表征,并研究了生长温度和晶格失配对InAsSb外延层电学性能的影响。测试结果表明,在较低生长温度下获得的样品表面会形成缺陷,且其电学性能较差。对于一定晶格失配的样品,提高生长温度能获得较好的电学性能。 展开更多
关键词 inassb 电学性能 分子束外延
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基于仿真的势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器性能优化研究 被引量:1
7
作者 谢宁 祝连庆 +2 位作者 刘炳锋 娄小平 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期178-186,共9页
为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方... 为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方法,通过精确调控吸收层掺杂、势垒层掺杂、势垒层厚度、温度和组分等,构建出高能量势垒以有效阻挡多数载流子,允许少数载流子迁移,实现价带偏移(Valence Band Offset,VBO)接近于零的要求,从而有效降低暗电流。研究结果表明,在1×10^(15)~1×10^(17)cm^(-3)范围内降低势垒层掺杂浓度,VBO和暗电流开启电压绝对值均会减小,当AlAs1-xSbx势垒中Sb组分为0.91时,VBO接近于零。对于吸收层,随着掺杂浓度的提高,暗电流呈现减小趋势,但趋势较不明显。在-0.5V偏压,140 K工作条件下,吸收层和势垒层掺杂浓度分别为1×10^(13)cm^(-3),1×10^(15)cm^(-3),吸收层与势垒层厚度分别为3μm,80 nm,得到器件结构参数优化后的暗电流低至4.5×10^(-7)A/cm^(2),证明InAs/InAsSb中波红外探测器具有高温工作的应用前景,可广泛应用于导弹预警、红外制导、航空航天等领域。 展开更多
关键词 中波红外探测器 InAs/inassb 暗电流 二类超晶格 势垒优化
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p~+-GaInAsSb/p-GaInAsSb/n-GaSb异质结红外控测器
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作者 李树玮 金亿鑫 +4 位作者 张宝林 周天明 蒋红 宁永强 元光 《高技术通讯》 CAS CSCD 1996年第2期7-11,共5页
GaInAsSb是红外探测器中重要的半导体材料之一。我们用水平常压金属氧化物化学气相淀积(MOCVD)技术在n型GaSb衬底上成功地生长了GaInAsSb外延层,用PL谱、红外吸收谱、X射线衍射和扫描电子超声显微镜(... GaInAsSb是红外探测器中重要的半导体材料之一。我们用水平常压金属氧化物化学气相淀积(MOCVD)技术在n型GaSb衬底上成功地生长了GaInAsSb外延层,用PL谱、红外吸收谱、X射线衍射和扫描电子超声显微镜(ScanningElectronAcousticMicroscopy,SEAM)等实验手段对GaInAsSb外延层进行了表征。用GaInAsSb材料制作的红外探测器的光谱响应的截止波长达2.4μm,室温探测率D*达1×109cmHz(1/2)/W,2.25μm波长时的量子效率为30%。本文首次给出了GaInAsSb外延层的扫描电子超声显微镜像(SEAM像),为扫描电子超声显微镜在半导体材料方面的应用开辟了一个新的领域。 展开更多
关键词 红外探测器 电子超声显微镜 红外辐射
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中波InAs/InAsSb超晶格红外探测器设计及势垒外延优化制备
9
作者 刘炳锋 祝连庆 +3 位作者 鹿利单 房晨 陈伟强 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期106-115,共10页
针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统... 针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统分析了InAs和InAsSb层的厚度及Sb组分比例对带隙的耦合调控机制,实现响应波长在3~5μm波段的精确覆盖。通过分子束外延技术制备了应变平衡的InAs/InAs_(0.6)Sb_(0.4)超晶格材料,HRXRD表征显示超晶格周期厚度偏差仅为2.46%,实现了高均匀性材料外延。构建了基于AlAsSb三元合金势垒层的完整nBn结构,并对AlAsSb层在385℃、400℃及420℃三种生长温度下进行表面形貌和结构特性优化,AFM与RSM结果表明400℃时表面粗糙度仅0.252 nm、位错密度及应变均达到最低。结合钝化工艺完成器件制备并对其在77 K及-0.6 V偏置条件下进行性能测试。结果表明,Al_(2)O_(3)钝化后器件暗电流密度降至5.30×10^(-6) A/cm^(2),RA值提升至4.13×10^(4)Ω·cm^(2);峰值探测率达8.35×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W(λ_(peak)=4.49μm),50%截止波长5.00μm处D*为5.01×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W。研究验证了所设计的势垒结构与外延工艺优化的可行性,为高性能中波红外Ⅱ类超晶格探测器在高工作温度和大面积阵列化应用中奠定了技术基础。 展开更多
关键词 InAs/inassb 分子束外延 二类超晶格 中波红外探测器 势垒结构
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非均匀离散化有限差分法应用于InAs/GaSb超晶格微带计算
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作者 蒋志 周旭昌 +1 位作者 杨晋 孔金丞 《红外技术》 北大核心 2025年第11期1382-1389,共8页
基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波... 基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格的总矩阵。通过计算超晶格总哈密顿矩阵的本征值对超晶格在波矢空间的E-k关系进行数值求解,得到长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格在波矢空间高对称点附近的微带(mini-band)结构。其中中波和长波超晶格的有效带隙分别为0.247 eV和0.109 eV,与均匀网格离散化方案的计算结果一致,并与以相同超晶格结构作吸收层的器件100%截止波长测试结果一致。非均匀网格离散化方案与均匀网格离散化方案相比,在保证精算准确性的前提下,能显著提升InAs/GaSb超晶格微带结构的数值计算效率。 展开更多
关键词 INAS/gasb超晶格 k·p模型 有限差分法 非均匀离散化
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A method to extend wavelength into middle-wavelength infrared based on InAsSb/(Al)GaSb interband transition quantum well infrared photodetector
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作者 Xuan-Zhang Li Ling Sun +7 位作者 Jin-Lei Lu Jie Liu Chen Yue Li-Li Xie Wen-Xin Wang Hong Chen Hai-Qiang Jia Lu Wang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期468-472,共5页
We present a method to extend the operating wavelength of the interband transition quantum well photodetector from an extended short-wavelength infrared region to a middle-wavelength infrared region. In the modified I... We present a method to extend the operating wavelength of the interband transition quantum well photodetector from an extended short-wavelength infrared region to a middle-wavelength infrared region. In the modified In As Sb quantum well, Ga Sb is replaced with Al Sb/Al Ga Sb, the valence band of the barrier material is lowered, the first restricted energy level is higher than the valence band of the barrier material, the energy band structure forms type-II structure. The photocurrent spectrum manifest that the fabricated photodetector exhibits a response range from 1.9 μm to 3.2 μm with two peaks at 2.18 μm and 3.03 μm at 78 K. 展开更多
关键词 photodetector energy band calculation inassb/AlSb/Algasb quantum well interband transition
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低缺陷3 in中波InAs/InAsSb材料分子束外延工艺研究
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作者 闫勇 周朋 +3 位作者 游聪娅 刘铭 胡雨农 金姝沛 《红外》 2025年第4期11-19,共9页
通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料... 通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料表面上直径在3μm以上的缺陷密度为64 cm^(-2),总厚度偏差为8.16μm,材料相对于基准面的粗糙度均方根值为0.339 nm,-1级衍射卫星峰的半高宽为16 arcsec。所生长的材料平整均匀,具有较好的晶格质量。光致发光(Photo-luminescence,PL)光谱结果显示,材料在75 K下的发光峰位于4.69μm处;随着温度的升高,峰位产生红移。研究Sb束流大小与实验工艺的对应关系以及材料生长温度与材料缺陷的影响规律,对于生长高质量3 in InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料具有重要意义。 展开更多
关键词 分子束外延 InAs/inassb gasb衬底
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MOCVD法生长富GaSb和富InAs的GaInAsSb合金
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作者 苏宇欢 《电子材料快报》 1998年第7期17-17,共1页
关键词 MOVCD法 gasb INAS GaInAsAb 合金
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 InAs/gasb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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Mixed‑Dimensional Nanowires/Nanosheet Heterojunction of GaSb/Bi_(2)O_(2)Se for Self‑Powered Near‑Infrared Photodetection and Photocommunication
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作者 Guangcan Wang Zixu Sa +6 位作者 Zeqi Zang Pengsheng Li Mingxu Wang Bowen Yang Xiaoyue Wang Yanxue Yin Zai‑xing Yang 《Nano-Micro Letters》 2025年第11期572-583,共12页
With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narr... With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narrow band gap semiconductor of Bi_(2)O_(2)Se nanosheets(NSs)is adopted to construct mixed-dimensional heterojunctions with GaSb nanowires(NWs)for demonstrating the impressive self-powered NIR photodetection.Benefiting from the built-in electric field of~140 meV,the as-constructed NW/NS mixeddimensional heterojunction self-powered photodetector shows the low dark current of 0.07 pA,high I_(light)/I_(dark)ratio of 82 and fast response times of<2/2 ms at room temperature.The self-powered photodetector performance can be further enhanced by fabricating the NW array/NS mixed-dimensional heterojunction by using a contact printing technique.The excellent photodetection performance promises the asconstructed NW/NS mixed-dimensional heterojunction self-powered photodetector in imaging and photocommunication. 展开更多
关键词 Near-infrared photodetection Self-powered photodetection Mixed-dimensional heterojunction gasb nanowire Bi_(2)O_(2)Se nanosheet
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GaSb衬底上外延InAs_xSb_(1-x)材料的LP-MOCVD研究 被引量:4
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作者 李晓婷 王一丁 +5 位作者 汪韬 殷景致 王警卫 赛小锋 高鸿楷 张志勇 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1363-1366,共4页
采用自制的低压金属有机化学汽相淀积LP-MOCVD设备,在(100)面GaSb单晶衬底上外延生长了InAsSb材料.用X射线双晶衍射、光学显微镜和扫描电镜、电子探针能谱仪等对材料特性进行了表征,分析研究了生长温度、Ⅴ/Ⅲ比、过渡层等对外延层的影... 采用自制的低压金属有机化学汽相淀积LP-MOCVD设备,在(100)面GaSb单晶衬底上外延生长了InAsSb材料.用X射线双晶衍射、光学显微镜和扫描电镜、电子探针能谱仪等对材料特性进行了表征,分析研究了生长温度、Ⅴ/Ⅲ比、过渡层等对外延层的影响.并且获得了与GaSb衬底晶格失配度较低的表面光亮的晶体质量较好的InAsSb外延层. 展开更多
关键词 LP-MOCVD gasb inassb 生长温度
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320×256元InAs/GaSb II类超晶格中波红外双色焦平面探测器 被引量:11
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作者 白治中 徐志成 +5 位作者 周易 姚华城 陈洪雷 陈建新 丁瑞军 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期716-720,共5页
报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ... 报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ML InAs/7 ML GaSb和10 ML InAs/10 ML GaSb.焦平面阵列像元中心距为30μm.在77 K时测试,器件双色波段的50%响应截止波长分别为4.2μm和5.5μm,其中N-on-P器件平均峰值探测率达到6.0×10^(10) cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为8.6%;P-on-N器件平均峰值探测率达到2.3×10~9 cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为9.8%.红外焦平面偏压调节成像测试得到较为清晰的双波段成像. 展开更多
关键词 INAS/gasb 超晶格 双色 焦平面
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GaAs基GaSb体材料及InAs/GaSb超晶格材料的MBE生长 被引量:5
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作者 郝瑞亭 徐应强 +2 位作者 周志强 任正伟 牛智川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1088-1091,共4页
采用分子束外延方法在GaAs(100)衬底上生长GaSb体材料,以此GaSb为缓冲层生长了不同InAs厚度的InAs/GaSb超晶格,其10K光致发光谱峰值波长在2.0~2.6μm.高分辨透射电子显微镜观察证实超晶格界面清晰,周期完整.
关键词 分子束外延 GAAS gasb INAS/gasb超晶格
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长波InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器 被引量:11
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作者 周易 陈建新 +5 位作者 徐庆庆 徐志成 靳川 许佳佳 金巨鹏 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期210-213,224,共5页
报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度... 报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度下测试了单元器件的电流-电压(Ⅰ-Ⅴ)特性,响应光谱和黑体响应.在该温度下,光敏元大小为100μm×100μm的单元探测器RmaxA为2.5Ωcm2,器件的电流响应率为1.29A/W,黑体响应率为2.1×109cmHz1/2/W,11μm处量子效率为14.3%.采用四种暗电流机制对器件反向偏压下的暗电流密度曲线进行了拟合分析,结果表明起主导作用的暗电流机制为产生复合电流. 展开更多
关键词 InAs/gasbⅡ类超晶格 长波12.5μm 暗电流
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InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色红外焦平面探测器 被引量:13
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作者 朱旭波 彭震宇 +9 位作者 曹先存 何英杰 姚官生 陶飞 张利学 丁嘉欣 李墨 张亮 王雯 吕衍秋 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第11期91-96,共6页
InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。开展了InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色焦平面探测器器件结构设计、材料外延、芯片制备,对钝化方法进行了研究,制备出性能优良的320×256双色焦平面探测器。首先... InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。开展了InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色焦平面探测器器件结构设计、材料外延、芯片制备,对钝化方法进行了研究,制备出性能优良的320×256双色焦平面探测器。首先以双色叠层背靠背二极管电压选择结构作为基本结构,设计了中/短波双色芯片结构,然后采用分子束外延技术生长出结构完整、表面平整、低缺陷密度的PNP结构超晶格材料。采用硫化与SiO2复合钝化方法,最终制备的器件在77 K下中波二极管的RA值达到13.6 kΩ·cm^2,短波达到538 kΩ·cm^2。光谱响应特性表明短波响应波段为1.7~3μm,中波为3~5μm。双色峰值探测率达到中波3.7×10^11cm·Hz^1/2W^-1以上,短波2.2×10^11cm·Hz^1/2W^-1以上。响应非均匀性中波为9.9%,短波为9.7%。中波有效像元率为98.46%,短波为98.06%。 展开更多
关键词 INAS/gasb超晶格 双色 中短波 焦平面阵列 红外探测器
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