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GaInAsSb/GaSb红外探测器抗反膜的研究 被引量:2
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作者 刘延祥 夏冠群 +2 位作者 唐绍裘 李志怀 程宗权 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期327-332,共6页
简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件... 简单介绍了单层抗反膜的增透原理,并以Si片作为基片采用磁控溅射的方法制备了A l2O3、SiO2和ZrO2三种抗反膜。膜层的反射率测试结果表明:生长ZrO2膜后表面反射率下降可达30%;同时通过对GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器蒸镀抗反膜前后的器件的I-V特性及黑体探测率的测试表明:蒸镀ZrO2膜后GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器的黑体探测率平均提高了60.28%,远大于蒸镀A l2O3、SiO2后的48.91%和40.04%,说明ZrO2膜是一种较理想的单层抗反膜,使器件性能有所提高。 展开更多
关键词 抗反膜 GAinassb/gasb 反射率I-V 黑体探测率
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Room-temperature operating extended short wavelength infrared photodetector based on interband transition of InAsSb/GaSb quantum well 被引量:1
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作者 Ling Sun Lu Wang +7 位作者 Jin-Lei Lu Jie Liu Jun Fang Li-Li Xie Zhi-Biao Hao Hai-Qiang Jia Wen-Xin Wang Hong Chen 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第4期396-400,共5页
Here in this paper,we report a room-temperature operating infrared photodetector based on the interband transition of an In As Sb/Ga Sb quantum well.The interband transition energy of 5-nm thick In As(0.91)Sb(0.09... Here in this paper,we report a room-temperature operating infrared photodetector based on the interband transition of an In As Sb/Ga Sb quantum well.The interband transition energy of 5-nm thick In As(0.91)Sb(0.09) embedded in the Ga Sb barrier is calculated to be 0.53 e V(2.35μm),which makes the absorption range of In As Sb cover an entire range from short-wavelength infrared to long-wavelength infrared spectrum.The fabricated photodetector exhibits a narrow response range from 2.0μm to 2.3μm with a peak around 2.1μm at 300 K.The peak responsivity is 0.4 A/W under-500-m Vapplied bias voltage,corresponding to a peak quantum efficiency of 23.8%in the case without any anti-reflection coating.At 300 K,the photodetector exhibits a dark current density of 6.05×10^-3A/cm^2 under-400-m V applied bias voltage and 3.25×10^-5A/cm^2 under zero,separately.The peak detectivity is 6.91×10^10cm·Hz^1/2/W under zero bias voltage at 300 K. 展开更多
关键词 inassb/gasb quantum well interband transition PHOTODETECTOR room temperature operating
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GaInAsSb/GaSb PIN红外探测器及其Ⅰ-Ⅴ特性的研究 被引量:1
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作者 刘延祥 夏冠群 +1 位作者 唐绍裘 程宗权 《红外》 CAS 2004年第5期1-4,共4页
本文简单介绍了GaInAsSb/GaSb PIN探测器的结构及工作原理,重点分析了生长窗口层和硫钝化两种不同的改善探测器Ⅰ-Ⅴ反向偏软的特性的方法。
关键词 红外探测器 I-V特性 镓铟砷锑材料 锑化镓材料 禁带宽度
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 INAS/gasb超晶格 长波 焦平面
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基于仿真的势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器性能优化研究 被引量:1
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作者 谢宁 祝连庆 +2 位作者 刘炳锋 娄小平 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期178-186,共9页
为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方... 为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方法,通过精确调控吸收层掺杂、势垒层掺杂、势垒层厚度、温度和组分等,构建出高能量势垒以有效阻挡多数载流子,允许少数载流子迁移,实现价带偏移(Valence Band Offset,VBO)接近于零的要求,从而有效降低暗电流。研究结果表明,在1×10^(15)~1×10^(17)cm^(-3)范围内降低势垒层掺杂浓度,VBO和暗电流开启电压绝对值均会减小,当AlAs1-xSbx势垒中Sb组分为0.91时,VBO接近于零。对于吸收层,随着掺杂浓度的提高,暗电流呈现减小趋势,但趋势较不明显。在-0.5V偏压,140 K工作条件下,吸收层和势垒层掺杂浓度分别为1×10^(13)cm^(-3),1×10^(15)cm^(-3),吸收层与势垒层厚度分别为3μm,80 nm,得到器件结构参数优化后的暗电流低至4.5×10^(-7)A/cm^(2),证明InAs/InAsSb中波红外探测器具有高温工作的应用前景,可广泛应用于导弹预警、红外制导、航空航天等领域。 展开更多
关键词 中波红外探测器 InAs/inassb 暗电流 二类超晶格 势垒优化
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中波InAs/InAsSb超晶格红外探测器设计及势垒外延优化制备
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作者 刘炳锋 祝连庆 +3 位作者 鹿利单 房晨 陈伟强 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期106-115,共10页
针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统... 针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统分析了InAs和InAsSb层的厚度及Sb组分比例对带隙的耦合调控机制,实现响应波长在3~5μm波段的精确覆盖。通过分子束外延技术制备了应变平衡的InAs/InAs_(0.6)Sb_(0.4)超晶格材料,HRXRD表征显示超晶格周期厚度偏差仅为2.46%,实现了高均匀性材料外延。构建了基于AlAsSb三元合金势垒层的完整nBn结构,并对AlAsSb层在385℃、400℃及420℃三种生长温度下进行表面形貌和结构特性优化,AFM与RSM结果表明400℃时表面粗糙度仅0.252 nm、位错密度及应变均达到最低。结合钝化工艺完成器件制备并对其在77 K及-0.6 V偏置条件下进行性能测试。结果表明,Al_(2)O_(3)钝化后器件暗电流密度降至5.30×10^(-6) A/cm^(2),RA值提升至4.13×10^(4)Ω·cm^(2);峰值探测率达8.35×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W(λ_(peak)=4.49μm),50%截止波长5.00μm处D*为5.01×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W。研究验证了所设计的势垒结构与外延工艺优化的可行性,为高性能中波红外Ⅱ类超晶格探测器在高工作温度和大面积阵列化应用中奠定了技术基础。 展开更多
关键词 InAs/inassb 分子束外延 二类超晶格 中波红外探测器 势垒结构
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低缺陷3 in中波InAs/InAsSb材料分子束外延工艺研究
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作者 闫勇 周朋 +3 位作者 游聪娅 刘铭 胡雨农 金姝沛 《红外》 2025年第4期11-19,共9页
通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料... 通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料表面上直径在3μm以上的缺陷密度为64 cm^(-2),总厚度偏差为8.16μm,材料相对于基准面的粗糙度均方根值为0.339 nm,-1级衍射卫星峰的半高宽为16 arcsec。所生长的材料平整均匀,具有较好的晶格质量。光致发光(Photo-luminescence,PL)光谱结果显示,材料在75 K下的发光峰位于4.69μm处;随着温度的升高,峰位产生红移。研究Sb束流大小与实验工艺的对应关系以及材料生长温度与材料缺陷的影响规律,对于生长高质量3 in InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料具有重要意义。 展开更多
关键词 分子束外延 InAs/inassb gasb衬底
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 InAs/gasb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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Mixed‑Dimensional Nanowires/Nanosheet Heterojunction of GaSb/Bi_(2)O_(2)Se for Self‑Powered Near‑Infrared Photodetection and Photocommunication
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作者 Guangcan Wang Zixu Sa +6 位作者 Zeqi Zang Pengsheng Li Mingxu Wang Bowen Yang Xiaoyue Wang Yanxue Yin Zai‑xing Yang 《Nano-Micro Letters》 2025年第11期572-583,共12页
With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narr... With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narrow band gap semiconductor of Bi_(2)O_(2)Se nanosheets(NSs)is adopted to construct mixed-dimensional heterojunctions with GaSb nanowires(NWs)for demonstrating the impressive self-powered NIR photodetection.Benefiting from the built-in electric field of~140 meV,the as-constructed NW/NS mixeddimensional heterojunction self-powered photodetector shows the low dark current of 0.07 pA,high I_(light)/I_(dark)ratio of 82 and fast response times of<2/2 ms at room temperature.The self-powered photodetector performance can be further enhanced by fabricating the NW array/NS mixed-dimensional heterojunction by using a contact printing technique.The excellent photodetection performance promises the asconstructed NW/NS mixed-dimensional heterojunction self-powered photodetector in imaging and photocommunication. 展开更多
关键词 Near-infrared photodetection Self-powered photodetection Mixed-dimensional heterojunction gasb nanowire Bi_(2)O_(2)Se nanosheet
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GaSb单晶研究进展 被引量:5
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作者 刘京明 杨俊 +3 位作者 赵有文 杨成奥 蒋洞微 牛智川 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期1-11,共11页
近年来,锑化物红外技术发展迅速,成为半导体技术的重要发展方向之一。锑化镓(GaSb)作为典型的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,凭借优异的性能成为锑化物红外光电器件的关键衬底材料。随着锑化物红外技术逐步成熟和应用逐渐开展,人们对GaSb单晶片... 近年来,锑化物红外技术发展迅速,成为半导体技术的重要发展方向之一。锑化镓(GaSb)作为典型的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,凭借优异的性能成为锑化物红外光电器件的关键衬底材料。随着锑化物红外技术逐步成熟和应用逐渐开展,人们对GaSb单晶片的需求日益剧增的同时也对其质量提出更高的要求。GaSb单晶片质量直接影响着外延材料和器件性能,这就要求GaSb单晶片具有大尺寸、更低的缺陷密度、更好的表面质量和一致性。本文就GaSb晶体材料的性质、制备方法、国内外机构的研究进展及其应用情况进行了综述,并对其发展前景和趋势进行了展望。 展开更多
关键词 锑化镓 化合物半导体 锑化物 晶体 红外光电器件
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1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +6 位作者 徐志成 周易 梁钊铭 姚华城 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期437-441,共5页
本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外... 本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为中波1:6 ML InAs/7 ML GaSb和中波2:9 ML InAs/7 ML GaSb。焦平面阵列像元中心距为12μm。在80 K时测试,器件双波段的工作谱段为中波1:3~4μm,中波2:3.8~5.2μm。中波1器件平均峰值探测率达到6.32×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1),中波2器件平均峰值探测率达到2.84×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1)。红外焦平面偏压调节成像测试得到清晰的双波段成像。本文是国内首次报道1280×1024规模InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器。 展开更多
关键词 焦平面 INAS/gasb 超晶格 双色
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12.5μm 1024×1024长波InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +7 位作者 徐志成 周易 朱艺红 沈益铭 张君玲 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期738-743,共6页
报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024&#... 报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024×1024、像元中心距为18μm的长波焦平面探测器。采用金属杜瓦封装,与制冷机耦合形成超晶格长波探测器制冷组件。在60 K温度下测试了探测器各项性能。探测器50%截止波长为12.5µm,平均峰值探测率达到6.6×10^(10)cmHz^(1/2)/W,盲元率为1.05%,噪声等效温差NETD为21.2 mK。红外焦平面成像测试得到了清晰的长波图像。 展开更多
关键词 焦平面 INAS/gasb 超晶格 长波
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基于AlAsSb/InAsSb超晶格势垒的InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外探测器 被引量:3
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作者 单一凡 吴东海 +8 位作者 谢若愚 周文广 常发冉 李农 王国伟 蒋洞微 郝宏玥 徐应强 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期450-456,共7页
InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测... InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测器。在InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外光电探测器中,势垒层常采用AlAsSb等多元合金材料,阻挡多数载流子的输运。然而,势垒层与吸收层存在的价带偏移(VBO)使得光电流往往需要在大偏压下饱和,从而增大了探测器暗电流。本文设计了一种AlAsSb/InAsSb超晶格势垒,旨在消除VBO并降低量子效率对偏压的依赖性。研究结果显示,150 K下,设计制备的nBn光电探测器的50%截止波长为4.5μm,探测器光响应在-50 mV的小反向偏压下达到了饱和,3.82μm处的峰值响应度为1.82 A/W,对应量子效率为58.8%。在150 K和-50 mV偏压下,探测器的暗电流密度为2.01×10^(-5)A/cm^(2),计算得到在3.82μm的峰值探测率为6.47×10^(11)cm·Hz^(1/2)/W。 展开更多
关键词 InAs/inassb Ⅱ类超晶格 AlAsSb/inassb势垒 中波红外 势垒探测器
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GaSb衬底上InAsSb材料的电学性能研究
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作者 孙庆灵 姚官生 +6 位作者 曹先存 王禄 王文奇 孙令 王文新 贾海强 陈弘 《航空兵器》 2016年第3期59-61,共3页
采用分子束外延(MBE)法在GaSb衬底上生长了不同组分的InAsSb外延膜。通过引入Al GaSb插层,实现对导电GaSb衬底上InAsSb材料电学性质的定性表征,并研究了生长温度和晶格失配对InAsSb外延层电学性能的影响。测试结果表明,在较低生长温度... 采用分子束外延(MBE)法在GaSb衬底上生长了不同组分的InAsSb外延膜。通过引入Al GaSb插层,实现对导电GaSb衬底上InAsSb材料电学性质的定性表征,并研究了生长温度和晶格失配对InAsSb外延层电学性能的影响。测试结果表明,在较低生长温度下获得的样品表面会形成缺陷,且其电学性能较差。对于一定晶格失配的样品,提高生长温度能获得较好的电学性能。 展开更多
关键词 inassb 电学性能 分子束外延
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料的Si离子注入研究 被引量:1
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作者 何苗 周易 +7 位作者 应翔霄 梁钊铭 黄敏 王志芳 朱艺红 廖科才 王楠 陈建新 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期15-22,共8页
Ⅱ类超晶格红外探测器一般通过台面结实现对红外辐射的探测,而通过离子注入实现横向PN结,一方面材料外延工艺简单,同时可以利用超晶格材料横向扩散长度远高于纵向的优势改善光生载流子的输运,且易于制作高密度平面型阵列。本文利用多种... Ⅱ类超晶格红外探测器一般通过台面结实现对红外辐射的探测,而通过离子注入实现横向PN结,一方面材料外延工艺简单,同时可以利用超晶格材料横向扩散长度远高于纵向的优势改善光生载流子的输运,且易于制作高密度平面型阵列。本文利用多种材料表征技术,研究了不同能量的Si离子注入以及退火前后对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料性能的影响。研究通过Si离子注入,外延材料由P型变为N型,超晶格材料中产生了垂直方向的拉伸应变,晶格常数变大,且失配度随着注入能量的增大而增大,注入前失配度为-0.012%,当注入能量到200 keV时,失配度达到0.072%,超晶格部分弛豫,弛豫程度为14%,而在300℃ 60 s退火后,超晶格恢复完全应变状态,且晶格常数变小,这种张应变是退火引起的Ga-In相互扩散以及Si替位导致的晶格收缩而造成的。 展开更多
关键词 InAs/gasbⅡ类超晶格 离子注入 平面结 退火 HRXRD
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非制冷势垒型InAsSb基高速中波红外探测器
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作者 贾春阳 邓功荣 +3 位作者 赵鹏 朱之贞 赵俊 张逸韵 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期166-173,共8页
高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/A... 高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/AlSb中波红外光探测器材料,并通过微纳加工工艺制备了可用于射频响应特性测试的GSG结构探测器。XRD和AFM的测试结果表明,两种结构的外延片都具有较好的晶体质量。器件暗电流测试结果表明,相较于nBn器件,在室温和反向偏压400 mV的工作条件下,直径90μm的pBn器件表现出更低的暗电流密度0.145 A/cm^(2),说明该器件在室温非制冷环境下表现出较低的噪声水平。不同台面直径的探测器的暗电流测试表明,pBn器件的表面电阻率低于对照的nBn器件的表面电阻率。另外,根据探测器的电容测试结果,可零偏压工作的pBn探测器具有完全耗尽的势垒层和部分耗尽的吸收区,nBn的吸收区也存在部分耗尽。探测器的射频响应特性表明,直径90μm的pBn器件的响应速度在室温和3 V反向偏压下可达2.62 GHz,对照的nBn器件的响应速度仅为2.02 GHz,响应速度提升了29.7%,初步实现了在中红外波段下可快速探测的室温非制冷势垒型光电探测器。 展开更多
关键词 inassb 非制冷 高速 中波红外 势垒型探测器
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GaSb电池热控温度与辐射源温度的匹配性分析
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作者 柳秀丽 李潇磊 +2 位作者 陈学 孙创 夏新林 《工程热物理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期2475-2482,共8页
能量转换效率低是制约热光伏发电进一步开发与应用的重要原因。为了突破这一壁垒,提升能量转换效率,本文以GaSb电池为研究对象,利用半导体物理和普朗克热辐射理论,探究以黑体为辐射源,温度分别设置为1000 K,1500 K,2000 K,2500K,3000 K... 能量转换效率低是制约热光伏发电进一步开发与应用的重要原因。为了突破这一壁垒,提升能量转换效率,本文以GaSb电池为研究对象,利用半导体物理和普朗克热辐射理论,探究以黑体为辐射源,温度分别设置为1000 K,1500 K,2000 K,2500K,3000 K,光谱区间0.4~2.0μm,电池温度变化范围0~200℃时,GaSb电池性能参数的变化以及能量转换效率;结合物性参数变化,确定电池在特定的光谱区间内,电池在热控温度下与辐射源的最佳匹配温度。结果表明:电池在不同的热控温度时,电池的能量转换性能不同;当电池热控温度在0~110℃时,最佳黑体辐射源温度为2000 K;当电池热控温度在110~200℃时,辐射源温度应该保持在2500 K。 展开更多
关键词 热光伏 gasb电池 温度依赖性 量子效率曲线 匹配性分析
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p~+-GaInAsSb/p-GaInAsSb/n-GaSb异质结红外控测器
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作者 李树玮 金亿鑫 +4 位作者 张宝林 周天明 蒋红 宁永强 元光 《高技术通讯》 CAS CSCD 1996年第2期7-11,共5页
GaInAsSb是红外探测器中重要的半导体材料之一。我们用水平常压金属氧化物化学气相淀积(MOCVD)技术在n型GaSb衬底上成功地生长了GaInAsSb外延层,用PL谱、红外吸收谱、X射线衍射和扫描电子超声显微镜(... GaInAsSb是红外探测器中重要的半导体材料之一。我们用水平常压金属氧化物化学气相淀积(MOCVD)技术在n型GaSb衬底上成功地生长了GaInAsSb外延层,用PL谱、红外吸收谱、X射线衍射和扫描电子超声显微镜(ScanningElectronAcousticMicroscopy,SEAM)等实验手段对GaInAsSb外延层进行了表征。用GaInAsSb材料制作的红外探测器的光谱响应的截止波长达2.4μm,室温探测率D*达1×109cmHz(1/2)/W,2.25μm波长时的量子效率为30%。本文首次给出了GaInAsSb外延层的扫描电子超声显微镜像(SEAM像),为扫描电子超声显微镜在半导体材料方面的应用开辟了一个新的领域。 展开更多
关键词 红外探测器 电子超声显微镜 红外辐射
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Te掺杂的GaSb材料载流子特性研究 被引量:3
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作者 金姝沛 胡雨农 +2 位作者 刘铭 孙浩 王成刚 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期561-568,共8页
非故意掺杂的GaSb材料呈现p型导电,限制了GaSb材料在InAs/GaSb超晶格红外探测器等领域的应用。探究N型GaSb薄膜电学特性对估算超晶格载流子浓度以及制备超晶格衬底、缓冲层、电极接触层等提供了一定的理论依据。Te掺杂能够以抑制GaSb本... 非故意掺杂的GaSb材料呈现p型导电,限制了GaSb材料在InAs/GaSb超晶格红外探测器等领域的应用。探究N型GaSb薄膜电学特性对估算超晶格载流子浓度以及制备超晶格衬底、缓冲层、电极接触层等提供了一定的理论依据。Te掺杂能够以抑制GaSb本征缺陷的方式实现N型GaSb薄膜的制备,利用分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)技术,设置GaTe源温分别为420℃、450℃、480℃,分别在GaSb衬底与GaAs衬底上生长不同GaTe源温度下掺杂的GaSb薄膜,通过霍尔测试探究GaSb薄膜的电学特性。在77 K的霍尔测试中,发现在GaAs衬底上生长的GaSb薄膜均显示为N型半导体,载流子浓度随源温升高而增加。与非故意掺杂的GaSb相比,源温为420℃、450℃时由于载流子浓度增加而导致的杂质散射,迁移率大幅提高,且随温度升高而增加,但在480℃时,由于缺陷密度减小,迁移率大大减小。在GaSb衬底上生长7000ABe掺杂的GaSb缓冲层,再生长5000ATe掺杂的GaSb薄膜。结果发现,由于P型缓冲层的存在,当源温为420℃时,薄膜显示为P型半导体,空穴载流子的存在导致薄膜整体载流子浓度增加,且空穴和电子的补偿作用使迁移率大幅降低。源温为450℃、480℃时,薄膜仍为N型半导体,载流子浓度随温度增加,且为GaAs衬底上生长的GaSb薄膜载流子浓度的2~3倍;迁移率在450℃时最高,480℃时减小。设置GaTe源温为450℃时GaSb薄膜的载流子浓度较高且迁移率较高,参与超晶格材料的制备能够使整个材料的效果最佳。 展开更多
关键词 GaTe掺杂 gasb 载流子浓度 霍尔测试
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GaSb 衬底厚度对超晶格电学特性影响的研究
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作者 金姝沛 胡雨农 +1 位作者 周朋 刘铭 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第10期227-234,共8页
非故意掺杂的GaSb存在施主缺陷,呈现p型导电,导电性较好。对于分子束外延制备的Sb基超晶格材料,通常用GaSb做衬底,而GaSb衬底厚度远大于超晶格材料厚度,因此对锑基二类超晶格材料进行霍尔测试时GaSb衬底厚度对超晶格电学性能容易产生较... 非故意掺杂的GaSb存在施主缺陷,呈现p型导电,导电性较好。对于分子束外延制备的Sb基超晶格材料,通常用GaSb做衬底,而GaSb衬底厚度远大于超晶格材料厚度,因此对锑基二类超晶格材料进行霍尔测试时GaSb衬底厚度对超晶格电学性能容易产生较大影响。而在红外探测器制备过程中,为了增加材料对红外辐射的吸收,通常在器件制备完成后对衬底进行减薄,通过背入射的方式对红外辐射进行探测,因此探究GaSb厚度对超晶格电学特性的影响能够为超晶格材料的结构设计提供理论依据。讨论了n型超晶格薄膜及p型超晶格薄膜的电学特性受GaSb衬底厚度的影响。使用由分子束外延技术在弱n型GaSb衬底上生长GaSb缓冲层后,分别生长Si掺杂的n型InAs/GaSbⅡ类超晶格及Be掺杂的p型InAs/GaSbⅡ类超晶格,衬底进行不同厚度的减薄,并进行霍尔测试。结果表明:在77 K温度下的霍尔测试中,虽然缓冲层减弱了衬底对超晶格薄膜的影响,但不能完全消除衬底对超晶格薄膜电学特性的影响。n型超晶格及p型超晶格的电学特性仍随衬底厚度变化产生:衬底厚度的减薄导致表面复合效应增加、杂质浓度重分布,因此超晶格材料载流子浓度的减小,载流子迁移率在相同的温度下受杂质散射影响较大,载流子浓度的减小降低了电子散射的可能性,因此迁移率随衬底厚度减薄而增加。n型超晶格载流子浓度及迁移率的变化均在同一量级,与缓冲层极性相反的薄膜材料减薄前的电学特性可以为减薄后的电学特性进行标定。p型超晶格载流子浓度变化相对较大,与缓冲层材料极性相同的材料在需要考虑载流子浓度时,材料生长过程中需要进行高浓度掺杂保证减薄后薄膜材料的载流子浓度,迁移率变化几乎可视为不变。该研究对标定不同类型掺杂浓度的超晶格材料可提供一定的参考意义。 展开更多
关键词 gasb衬底 Ⅱ类超晶格 超晶格载流子浓度 霍尔测试
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