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基于仿真的势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器性能优化研究 被引量:1
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作者 谢宁 祝连庆 +2 位作者 刘炳锋 娄小平 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期178-186,共9页
为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方... 为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方法,通过精确调控吸收层掺杂、势垒层掺杂、势垒层厚度、温度和组分等,构建出高能量势垒以有效阻挡多数载流子,允许少数载流子迁移,实现价带偏移(Valence Band Offset,VBO)接近于零的要求,从而有效降低暗电流。研究结果表明,在1×10^(15)~1×10^(17)cm^(-3)范围内降低势垒层掺杂浓度,VBO和暗电流开启电压绝对值均会减小,当AlAs1-xSbx势垒中Sb组分为0.91时,VBO接近于零。对于吸收层,随着掺杂浓度的提高,暗电流呈现减小趋势,但趋势较不明显。在-0.5V偏压,140 K工作条件下,吸收层和势垒层掺杂浓度分别为1×10^(13)cm^(-3),1×10^(15)cm^(-3),吸收层与势垒层厚度分别为3μm,80 nm,得到器件结构参数优化后的暗电流低至4.5×10^(-7)A/cm^(2),证明InAs/InAsSb中波红外探测器具有高温工作的应用前景,可广泛应用于导弹预警、红外制导、航空航天等领域。 展开更多
关键词 中波红外探测器 inas/inassb 暗电流 二类超晶格 势垒优化
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中波InAs/InAsSb超晶格红外探测器设计及势垒外延优化制备
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作者 刘炳锋 祝连庆 +3 位作者 鹿利单 房晨 陈伟强 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期106-115,共10页
针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统... 针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统分析了InAs和InAsSb层的厚度及Sb组分比例对带隙的耦合调控机制,实现响应波长在3~5μm波段的精确覆盖。通过分子束外延技术制备了应变平衡的InAs/InAs_(0.6)Sb_(0.4)超晶格材料,HRXRD表征显示超晶格周期厚度偏差仅为2.46%,实现了高均匀性材料外延。构建了基于AlAsSb三元合金势垒层的完整nBn结构,并对AlAsSb层在385℃、400℃及420℃三种生长温度下进行表面形貌和结构特性优化,AFM与RSM结果表明400℃时表面粗糙度仅0.252 nm、位错密度及应变均达到最低。结合钝化工艺完成器件制备并对其在77 K及-0.6 V偏置条件下进行性能测试。结果表明,Al_(2)O_(3)钝化后器件暗电流密度降至5.30×10^(-6) A/cm^(2),RA值提升至4.13×10^(4)Ω·cm^(2);峰值探测率达8.35×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W(λ_(peak)=4.49μm),50%截止波长5.00μm处D*为5.01×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W。研究验证了所设计的势垒结构与外延工艺优化的可行性,为高性能中波红外Ⅱ类超晶格探测器在高工作温度和大面积阵列化应用中奠定了技术基础。 展开更多
关键词 inas/inassb 分子束外延 二类超晶格 中波红外探测器 势垒结构
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低缺陷3 in中波InAs/InAsSb材料分子束外延工艺研究
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作者 闫勇 周朋 +3 位作者 游聪娅 刘铭 胡雨农 金姝沛 《红外》 2025年第4期11-19,共9页
通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料... 通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料表面上直径在3μm以上的缺陷密度为64 cm^(-2),总厚度偏差为8.16μm,材料相对于基准面的粗糙度均方根值为0.339 nm,-1级衍射卫星峰的半高宽为16 arcsec。所生长的材料平整均匀,具有较好的晶格质量。光致发光(Photo-luminescence,PL)光谱结果显示,材料在75 K下的发光峰位于4.69μm处;随着温度的升高,峰位产生红移。研究Sb束流大小与实验工艺的对应关系以及材料生长温度与材料缺陷的影响规律,对于生长高质量3 in InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料具有重要意义。 展开更多
关键词 分子束外延 inas/inassb GaSb衬底
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基于AlAsSb/InAsSb超晶格势垒的InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外探测器 被引量:3
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作者 单一凡 吴东海 +8 位作者 谢若愚 周文广 常发冉 李农 王国伟 蒋洞微 郝宏玥 徐应强 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期450-456,共7页
InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测... InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测器。在InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外光电探测器中,势垒层常采用AlAsSb等多元合金材料,阻挡多数载流子的输运。然而,势垒层与吸收层存在的价带偏移(VBO)使得光电流往往需要在大偏压下饱和,从而增大了探测器暗电流。本文设计了一种AlAsSb/InAsSb超晶格势垒,旨在消除VBO并降低量子效率对偏压的依赖性。研究结果显示,150 K下,设计制备的nBn光电探测器的50%截止波长为4.5μm,探测器光响应在-50 mV的小反向偏压下达到了饱和,3.82μm处的峰值响应度为1.82 A/W,对应量子效率为58.8%。在150 K和-50 mV偏压下,探测器的暗电流密度为2.01×10^(-5)A/cm^(2),计算得到在3.82μm的峰值探测率为6.47×10^(11)cm·Hz^(1/2)/W。 展开更多
关键词 inas/inassb Ⅱ类超晶格 AlAsSb/inassb势垒 中波红外 势垒探测器
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InAs/InAsSb超晶格红外中/中波双色焦平面探测器研制 被引量:3
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作者 何英杰 彭震宇 +8 位作者 曹先存 朱旭波 李墨 陶飞 丁嘉欣 姚官生 张利学 王雯 吕衍秋 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期545-550,共6页
超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。双波段红外探测器能够通过对比两个波段内的光谱信息差异,对复杂的背景进行抑制,提高探测效果,在需求中尤为重要。本文开展了InAs/InAsSb超晶格中/中双色焦平面探测器设计及制... 超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。双波段红外探测器能够通过对比两个波段内的光谱信息差异,对复杂的背景进行抑制,提高探测效果,在需求中尤为重要。本文开展了InAs/InAsSb超晶格中/中双色焦平面探测器设计及制备技术研究,从器件设计、材料外延、芯片加工等方面展开研究,制备了中心距30μm的320×256 InAs/InAsSb二类超晶格中/中波双色焦平面探测器。器件短中波峰值探测率达到7.2×10^(11)cm·Hz^(1/2)W^(-1),中波峰值探测率为6.7×10^(11)cm·Hz^(1/2)W^(-1),短中波有效像元率为99.51%,中波为99.13%,获得了高质量的成像效果,实现中中双色探测。 展开更多
关键词 inas/inassb 双色中/中波 焦平面 红外探测器
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Sb浸润界面对InAs/InAsSb超晶格晶体结构和探测器性能的影响 被引量:1
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作者 齐通通 郭杰 +3 位作者 王国伟 郝瑞亭 徐应强 常发然 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第S01期86-89,共4页
采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长了PIN型长波红外28 ML InAs/7 ML InAs0.48Sb0.52超晶格探测器材料,研究了Sb浸润界面对其表面形貌、晶体结构和光电性能的影响。结果发现:相对于无界面控制的超晶格,采用Sb浸润界面的超晶格表面更平... 采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长了PIN型长波红外28 ML InAs/7 ML InAs0.48Sb0.52超晶格探测器材料,研究了Sb浸润界面对其表面形貌、晶体结构和光电性能的影响。结果发现:相对于无界面控制的超晶格,采用Sb浸润界面的超晶格表面更平整,表面粗糙度仅为1.28;超晶格晶体结构更完整,界面起伏明显减小,与衬底的晶格失配度由3.26%减小到2.97%。InAs/InAsSb超晶格探测器的50%截止波长为10μm,量子效率为3.1%;Sb浸润界面的超晶格具有更低的暗电流和更高的微分阻抗,-50 mV偏压下暗电流密度为0.12 A/cm^ 2,零偏阻抗面积乘积(R 0A)为0.44Ω·cm^2,计算得到探测率为5.06×10^7 cm·Hz 1/2/W。Sb浸润界面有效抑制了Sb的扩散,提高了超晶格的晶体质量和探测性能,但失配应力依然很大。这些结果为高质量长波红外InAs/InAsSb超晶格的界面生长提供了依据。 展开更多
关键词 长波红外探测器 inas/inassb超晶格 分子束外延 界面生长
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势垒型InAs/InAsSbⅡ类超晶格红外探测器研究进展(特邀) 被引量:1
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作者 张春芳 柳渊 +9 位作者 巩明亮 刘炳锋 龚蕊芯 刘家伯 安和平 张东亮 郑显通 鹿利单 冯玉林 祝连庆 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第12期31-46,共16页
红外探测技术在卫星侦察、军事制导、天文观测、医疗检测、现代通信等重要领域发挥着关键作用。Ⅱ类超晶格(T2SLs)红外探测器作为继碲镉汞探测器之后的新一代红外探测材料,在稳定性、可制造性和成本等方面具有独特优势。势垒型InAs/InAs... 红外探测技术在卫星侦察、军事制导、天文观测、医疗检测、现代通信等重要领域发挥着关键作用。Ⅱ类超晶格(T2SLs)红外探测器作为继碲镉汞探测器之后的新一代红外探测材料,在稳定性、可制造性和成本等方面具有独特优势。势垒型InAs/InAsSb T2SLs红外探测器是最具潜力的T2SLs红外探测器之一,近年来其关键性能得到了稳步提高,但仍受吸收系数低、异质外延生长困难和暗电流大等因素的制约。文中综述了Ⅲ-Ⅴ族T2SLs的发展历程,分析了势垒型InAs/InAsSb T2SLs红外探测器的不同势垒结构、关键性能和发展趋势,指出了势垒型InAs/InAsSb T2SLs红外探测器需要解决的关键问题和未来发展方向。 展开更多
关键词 红外探测器 T2SLs inas/inassb 势垒结构
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利用分子束外延生长高质量应变平衡 InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格
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作者 魏国帅 郝瑞亭 +9 位作者 郭杰 马晓乐 李晓明 李勇 常发冉 庄玉 王国伟 徐应强 牛智川 王耀 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期595-604,共10页
利用分子束外延技术在GaSb衬底上生长了高质量的InAs/InAsSb(无Ga)Ⅱ类超晶格。超晶格的结构由100个周期组成,每个周期分别是3.8 nm厚的InAs层和1.4 nm厚的InAs_(0.66)Sb_(0.34)层。在实验过程中出现了一种特殊的尖峰状缺陷。利用高分辨... 利用分子束外延技术在GaSb衬底上生长了高质量的InAs/InAsSb(无Ga)Ⅱ类超晶格。超晶格的结构由100个周期组成,每个周期分别是3.8 nm厚的InAs层和1.4 nm厚的InAs_(0.66)Sb_(0.34)层。在实验过程中出现了一种特殊的尖峰状缺陷。利用高分辨率x射线衍射(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)对外延的超晶格进行了表征和分析。结果表明,优化后的样品几乎为零晶格失配,超晶格0级峰半峰宽为39.3 arcsec,表面均方根粗糙度在10μm×10μm范围内达到1.72Å。红外吸收光谱显示50%的截止波长为4.28μm,PL谱显示InAs/InAs_(0.66)Sb_(0.34)超晶格4.58μm处有清晰锐利的发光峰。这些结果表明,外延生长的InAs/InAsSb超晶格稳定性和重复性良好,值得进一步的研究。 展开更多
关键词 inas/inassb 超晶格 分子束外延 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料
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InAs/InAsSb type-Ⅱ superlattice with near room-temperature long-wave emission through interface engineering 被引量:6
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作者 Bo-Wen Zhang Dan Fang +5 位作者 Xuan Fang Hong-Bin Zhao Deng-Kui Wang Jin-Hua Li Xiao-Hua Wang Dong-Bo Wang 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第3期982-991,共10页
Ga-free InAs/InAsSb type-Ⅱ superlattices(T2SL) have extensive application prospective in infrared photodetectors. Achieving higher operation temperature is critical to its commercial applications. Here, a fractional ... Ga-free InAs/InAsSb type-Ⅱ superlattices(T2SL) have extensive application prospective in infrared photodetectors. Achieving higher operation temperature is critical to its commercial applications. Here, a fractional monolayer alloy method was used to grow InAsSb alloy with better controlled alloy composition. The as-grown T2SL gave eleven satellite peaks and a first satellite peak with a narrow full-width-half-maximum (FWHM) of 20.5arcsec (1 arcsec=0.01592°). Strain mapping results indicated limited Sb diffusion through the As-Sb exchange process at the interface. Moreover, unlike interface states caused by the As-Sb exchange effect, this relatively clear interface was distinctive with localized states with higher activation energies of the non-radiative recombination process ((18±1) meV and (84±12) meV at different temperature ranges), which means that this interface state introduced by fractional monolayer alloy growth method can effectively suppress Auger recombination process in T2SL. Through this interface engineering of InAs/InAsSb Type-Ⅱ superlattice, it achieved detective photoluminescence (PL) signal with the center wavelength of 9μm at 250K. 展开更多
关键词 inas/inassb SUPERLATTICE Interface states High operation temperature emission
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nBn型高温中波InAs/InAsSb超晶格红外焦平面探测器 被引量:1
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作者 刘炳锋 祝连庆 +2 位作者 鹿利单 陈伟强 董明利 《光学学报》 北大核心 2025年第7期75-83,共9页
针对中波红外探测器在高工作温度(HOT)条件下的需求,研究了基于InAs/InAsSbⅡ类超晶格中波红外焦平面探测器的设计与制备技术。通过nBn势垒型结构的优化,结合分子束外延技术实现了高质量的应变平衡外延生长,制备了640×512阵列规模... 针对中波红外探测器在高工作温度(HOT)条件下的需求,研究了基于InAs/InAsSbⅡ类超晶格中波红外焦平面探测器的设计与制备技术。通过nBn势垒型结构的优化,结合分子束外延技术实现了高质量的应变平衡外延生长,制备了640×512阵列规模的中波红外探测器。材料表征表明,超晶格外延层具有优异的晶体质量和精确的晶格匹配。器件测试结果显示,在130 K工作温度下,探测器的平均峰值探测率达到4.81×1011cm·Hz1/2·W-1,噪声等效温差(NETD)为15.8 mK,盲元率仅为0.16%,响应率非均匀性为4.67%。该探测器展现出优异的光电性能及成像质量,其在高工作温度下的优异性能表明其在红外成像和目标探测领域具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 中波红外探测器 inas/inassb II类超晶格 nBn结构 焦平面阵列 高工作温度
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 inas/GASB超晶格 长波 焦平面
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Mid-wavelength nBn photodetector with high operating temperature and low dark current based on InAs/InAsSb superlattice absorber 被引量:1
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作者 曹澎 王天财 +3 位作者 彭红玲 李占国 Qiandong Zhuang 郑婉华 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第1期123-127,共5页
In this paper,we demonstrate nBn InAs/InAsSb type II superlattice(T2SL)photodetectors with AlAsSb as the barrier that targets mid-wavelength infrared(MWIR)detection.To improve operating temperature and suppress dark c... In this paper,we demonstrate nBn InAs/InAsSb type II superlattice(T2SL)photodetectors with AlAsSb as the barrier that targets mid-wavelength infrared(MWIR)detection.To improve operating temperature and suppress dark current,a specific Sb soaking technique was employed to improve the interface abruptness of the superlattice with device passivation using a SiO_(2) layer.These result in ultralow dark current density of 6.28×10^(-6)A/cm^(2)and 0.31 A/cm^(2)under-600 mV at 97 K and297 K,respectively,which is lower than most reported InAs/InAsSb-based MWIR photodetectors.Corresponding resistance area product values of 3.20×10^(4)Ω·cm^(2)and 1.32Ω·cm^(2)were obtained at 97 K and 297 K.A peak responsivity of 0.39 A/W with a cutoff wavelength around 5.5μm and a peak detectivity of 2.1×10^(9)cm·Hz^(1/2)/W were obtained at a high operating temperature up to 237 K. 展开更多
关键词 mid-wavelength infrared photodetector inas/inassb superlattice high operating temperature dark current
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Design of long‐wavelength infrared InAs/InAsSb type‐II superlattice avalanche photodetector with stepped grading layer
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作者 Keming Cheng Kai Shen +3 位作者 Chuang Li Daqian Guo Hao Wang Jiang Wu 《Electron》 2024年第4期10-18,共9页
Weak response in long‐wavelength infrared(LWIR)detection has long been a perennial concern,significantly limiting the reliability of appli-cations.Avalanche photodetectors(APDs)offer excellent responsivity but are pl... Weak response in long‐wavelength infrared(LWIR)detection has long been a perennial concern,significantly limiting the reliability of appli-cations.Avalanche photodetectors(APDs)offer excellent responsivity but are plagued by high dark current during the multiplication process.Here,we propose a high‐performance type‐II superlattices(T2SLs)LWIR APD to address these issues.The low Auger recombination rate of the InAs/InAsSb T2SLs absorption layer is exploited to reduce the dark current initially.AlAsSb with a low k value is employed as the multiplication layer to suppress device noise while maintaining sufficient gain.To facilitate carrier transport,the conduction band discontinuity is opti-mized by inserting an InAs/AlSb T2SLs stepped grading layer between the absorption and multiplication layers.As a result,the device exhibits excellent photoresponse at 8.4μm at 100 K and maintains a low dark current density of 5.4810^(-2) A/cm^(2).Specifically,it achieves a maximum gain of 366,a responsivity of 650 A/W,and a quantum efficiency of 26.28%under breakdown voltage.This design offers a promising solution for the advancement of LWIR detection. 展开更多
关键词 AlAsSb avalanche photodetector inas/inassb type‐II superlattice
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非制冷势垒型InAsSb基高速中波红外探测器
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作者 贾春阳 邓功荣 +3 位作者 赵鹏 朱之贞 赵俊 张逸韵 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期166-173,共8页
高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/A... 高速响应的中波红外探测器在自由空间光通信和频率梳光谱学等新兴领域的需求逐渐增加。中长波XBnn势垒型红外光探测器对暗电流等散粒噪声具有显著抑制作用。本文在GaSb衬底上采用分子束外延技术生长了nBn和pBn两种结构的InAsSb/AlAsSb/AlSb中波红外光探测器材料,并通过微纳加工工艺制备了可用于射频响应特性测试的GSG结构探测器。XRD和AFM的测试结果表明,两种结构的外延片都具有较好的晶体质量。器件暗电流测试结果表明,相较于nBn器件,在室温和反向偏压400 mV的工作条件下,直径90μm的pBn器件表现出更低的暗电流密度0.145 A/cm^(2),说明该器件在室温非制冷环境下表现出较低的噪声水平。不同台面直径的探测器的暗电流测试表明,pBn器件的表面电阻率低于对照的nBn器件的表面电阻率。另外,根据探测器的电容测试结果,可零偏压工作的pBn探测器具有完全耗尽的势垒层和部分耗尽的吸收区,nBn的吸收区也存在部分耗尽。探测器的射频响应特性表明,直径90μm的pBn器件的响应速度在室温和3 V反向偏压下可达2.62 GHz,对照的nBn器件的响应速度仅为2.02 GHz,响应速度提升了29.7%,初步实现了在中红外波段下可快速探测的室温非制冷势垒型光电探测器。 展开更多
关键词 inassb 非制冷 高速 中波红外 势垒型探测器
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Investigation on p-type doping of PBn unipolar barrier InAsSb photodetectors
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作者 ZHANG Jian CHANG Chao +11 位作者 LI Hong-Fu SHI Yu-Na YIN Han-Xiang LI Yan-Hui YUE Biao WANG Hai-Peng YAN Chang-Shan DAI Xin-Ran DENG Gong-Rong KONG Jin-Cheng ZHAO Peng ZHAO Jun 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期472-478,共7页
The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attribute... The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attributed to the unipolar barrier,which blocks the majority carriers while allowing unhindered hole transport.To further explore the energy band and carrier transport mechanisms of the XBn unipolar barrier structure,this pa⁃per systematically investigates the influence of doping on the dark current,photocurrent,and tunneling character⁃istics of InAsSb photodetectors in the PBn structure.Three high-quality InAsSb samples with unintentionally doped absorption layers(AL)were prepared,with varying p-type doping concentrations in the GaSb contact layer(CL)and the AlAsSb barrier layer(BL).As the p-type doping concentration in the CL increased,the device’s turn-on bias voltage also increased,and p-type doping in the BL led to tunneling occurring at lower bias voltages.For the sample with UID BL,which exhibited an extremely low dark current of 5×10^(-6) A/cm^(2).The photocurrent characteristics were well-fitted using the back-to-back diode model,revealing the presence of two opposing space charge regions on either side of the BL. 展开更多
关键词 inassb PBN p-type doping dark current
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 inas/GaSb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +6 位作者 徐志成 周易 梁钊铭 姚华城 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期437-441,共5页
本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外... 本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为中波1:6 ML InAs/7 ML GaSb和中波2:9 ML InAs/7 ML GaSb。焦平面阵列像元中心距为12μm。在80 K时测试,器件双波段的工作谱段为中波1:3~4μm,中波2:3.8~5.2μm。中波1器件平均峰值探测率达到6.32×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1),中波2器件平均峰值探测率达到2.84×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1)。红外焦平面偏压调节成像测试得到清晰的双波段成像。本文是国内首次报道1280×1024规模InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器。 展开更多
关键词 焦平面 inas/GASB 超晶格 双色
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12.5μm 1024×1024长波InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +7 位作者 徐志成 周易 朱艺红 沈益铭 张君玲 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期738-743,共6页
报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024&#... 报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024×1024、像元中心距为18μm的长波焦平面探测器。采用金属杜瓦封装,与制冷机耦合形成超晶格长波探测器制冷组件。在60 K温度下测试了探测器各项性能。探测器50%截止波长为12.5µm,平均峰值探测率达到6.6×10^(10)cmHz^(1/2)/W,盲元率为1.05%,噪声等效温差NETD为21.2 mK。红外焦平面成像测试得到了清晰的长波图像。 展开更多
关键词 焦平面 inas/GASB 超晶格 长波
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非致冷InAsSb中长波红外探测器研究评述 被引量:1
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作者 孙常鸿 胡淑红 +3 位作者 王奇伟 吴杰 何家玉 戴宁 《中国电子科学研究院学报》 2010年第1期11-18,共8页
作为一种新兴的红外光电材料,InAsSb由于其禁带宽度窄、电子迁移率极高等优良特性受到了世界各国的广泛关注。InAsSb探测器的优势在于:对中长波红外波段的探测而言,其在室温下也具有很高的探测率,同时InAsSb探测器具有比HgCdTe探测器更... 作为一种新兴的红外光电材料,InAsSb由于其禁带宽度窄、电子迁移率极高等优良特性受到了世界各国的广泛关注。InAsSb探测器的优势在于:对中长波红外波段的探测而言,其在室温下也具有很高的探测率,同时InAsSb探测器具有比HgCdTe探测器更高的响应速度。这些优势使得InAsSb探测器可制成非致冷型红外探测器,容易实现仪器的小型化,大大降低成本,在某些场合成为能够取代HgCdTe的理想材料。文章分别对InAsSb探测器国内和国外的研究近况作一简要评述,从而显示出在中长波红外波段InAsSb材料广阔的应用前景。 展开更多
关键词 inassb 探测器 非致冷
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nBn型InAsSb探测器的材料及器件研究 被引量:3
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作者 周朋 温涛 +1 位作者 邢伟荣 刘铭 《红外》 CAS 2019年第11期7-12,共6页
nBn型红外探测器可有效抑制产生-复合电流,进而提高探测器的工作温度。由于制备工艺可移植于Ⅲ/Ⅴ族成熟工艺以及存在晶格完全匹配的衬底等优势,InAsSb/AlAsSb材料是nBn型红外探测器的首选。简单介绍了InAsSb/AlAsSb nBn型红外探测器的... nBn型红外探测器可有效抑制产生-复合电流,进而提高探测器的工作温度。由于制备工艺可移植于Ⅲ/Ⅴ族成熟工艺以及存在晶格完全匹配的衬底等优势,InAsSb/AlAsSb材料是nBn型红外探测器的首选。简单介绍了InAsSb/AlAsSb nBn型红外探测器的研究现状、工作原理以及近期的研究成果。通过生长试验实现了良好的材料表面质量、晶体质量和光学性能。相关结果表明,在制备器件时,nBn结构中势垒层的掺杂浓度不应低于8×10^16 cm^-3,否则就不利于减小nBn型器件的暗电流。 展开更多
关键词 nBn结构 inassb 高工作温度 暗电流
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