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InP基多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列的结构和光学性质
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作者 黄秀颀 刘峰奇 +3 位作者 车晓玲 刘俊岐 雷文 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期309-313,共5页
在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对I... 在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对InAs量子点的结构及光学性质有很大影响 .对InP基InAlGaAs缓冲层上自组织量子点的形核和演化机制进行了探讨 ,提出量子点的演化过程表现为量子点的合并长大并伴随着自身的徙动 ,以获得能量最优的分布状态 . 展开更多
关键词 量子点 分子束外延 inalgaas缓冲层
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1.55μm波长InAs/InAlGaAs量子点DFB激光器
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作者 陈裕权 《半导体信息》 2008年第5期8-9,共2页
关键词 inas/inalgaas 量子点 阈值电流 特征温度 分布反馈 连续波 单模激光 异质外延 工作温度 光器件
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AlGaAs插入结构对InAlGaAs/AlGaAs多量子阱发光特性的影响
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作者 赵书存 王海珠 +4 位作者 王登魁 甘露露 王祯胜 吕明辉 马晓辉 《发光学报》 北大核心 2025年第4期683-690,共8页
InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理... InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理论计算,探究插入层结构对量子阱发光性质的影响。设计并生长了无插入层的InAlGaAs量子阱及不同厚度不同Al组分的AlGaAs插入层。实验结果表明,插入层的引入显著提高了量子阱的发光强度,虽然样品中本身存在局域态,但插入层的存在并未引入更多局域态,同时插入层的存在不会改变量子阱中载流子复合机制。研究结果为InAlGaAs量子阱的结构优化及插入层技术提供了重要的理论分析和实验数据,表明通过合理设计插入层可以显著提高InAlGaAs量子阱的光学性能。 展开更多
关键词 inalgaas多量子阱 插入层 金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
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Effect of GaInP and GaAsP inserted into waveguide/barrier interface on carrier leakage in InAlGaAs quantum well 808-nm laser diode
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作者 FU Meng-jie DONG Hai-liang +3 位作者 JIA Zhi-gang JIA Wei LIANG Jian XU Bing-she 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第1期186-197,共12页
There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresse... There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresses carrier leakage by inserting n-Ga_(0.55)In_(0.45)P and p-GaAs_(0.6)P_(0.4) between barriers and waveguide layers,respectively,to modulate the energy band structure and to increase the height of barrier.The results show that the leakage current density reduces by 87.71%,compared to traditional structure.The nonradiative recombination current density of novel structure reduces to 37.411 A/cm^(2),and the output power reaches 12.80 W with wall-plug efficiency of 78.24%at an injection current density 5 A/cm^(2) at room temperature.In addition,the temperature drift coefficient of center wavelength is 0.206 nm/℃at the temperature range from 5℃to 65℃,and the slope of fitted straight line of threshold current with temperature variation is 0.00113.The novel epitaxial structure provides a theoretical basis for achieving high-power laser diode. 展开更多
关键词 808-nm laser diode Ga_(0.55)In_(0.45)P and GaAs_(0.6)P_(0.4)insertion layers inalgaas quantum well carrier leakage
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 inas/GASB超晶格 长波 焦平面
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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)
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作者 王凯 顾溢 +4 位作者 方祥 周立 李成 李好斯白音 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期385-388,398,共5页
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着A... 采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法. 展开更多
关键词 化合物半导体 分子束外延 inalgaas X射线衍射 光致发光
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级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管暗电流成分分析
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作者 张承 黄晓峰 +6 位作者 迟殿鑫 唐艳 王立 柴松刚 崔大健 莫才平 高新江 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第1期20-24,共5页
实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗... 实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗电流的影响。结果表明,二极管暗电流主要来自于体暗电流,而非表面漏电流。在工作点偏压90V处,受缺陷影响的缺陷辅助隧穿电流Itat在暗电流中占据了主导,并推算出了芯片结构的缺陷浓度Nt约为1019 m-3、吸收区中的缺陷浓度NInGaAs约为7×1015 m-3。由于芯片结构的缺陷主要来源于InAlAs/InAlGaAs倍增区和InGaAs吸收区,而吸收区缺陷占比很少,因此认为缺陷主要来自于异质结InAlAs/InAlGaAs倍增区。 展开更多
关键词 inalAs/inalgaas雪崩光电二极管 暗电流 表面漏电流 缺陷辅助隧穿电流 缺陷浓度
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基于仿真的势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器性能优化研究 被引量:1
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作者 谢宁 祝连庆 +2 位作者 刘炳锋 娄小平 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期178-186,共9页
为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方... 为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方法,通过精确调控吸收层掺杂、势垒层掺杂、势垒层厚度、温度和组分等,构建出高能量势垒以有效阻挡多数载流子,允许少数载流子迁移,实现价带偏移(Valence Band Offset,VBO)接近于零的要求,从而有效降低暗电流。研究结果表明,在1×10^(15)~1×10^(17)cm^(-3)范围内降低势垒层掺杂浓度,VBO和暗电流开启电压绝对值均会减小,当AlAs1-xSbx势垒中Sb组分为0.91时,VBO接近于零。对于吸收层,随着掺杂浓度的提高,暗电流呈现减小趋势,但趋势较不明显。在-0.5V偏压,140 K工作条件下,吸收层和势垒层掺杂浓度分别为1×10^(13)cm^(-3),1×10^(15)cm^(-3),吸收层与势垒层厚度分别为3μm,80 nm,得到器件结构参数优化后的暗电流低至4.5×10^(-7)A/cm^(2),证明InAs/InAsSb中波红外探测器具有高温工作的应用前景,可广泛应用于导弹预警、红外制导、航空航天等领域。 展开更多
关键词 中波红外探测器 inas/inasSb 暗电流 二类超晶格 势垒优化
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非均匀离散化有限差分法应用于InAs/GaSb超晶格微带计算
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作者 蒋志 周旭昌 +1 位作者 杨晋 孔金丞 《红外技术》 北大核心 2025年第11期1382-1389,共8页
基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波... 基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格的总矩阵。通过计算超晶格总哈密顿矩阵的本征值对超晶格在波矢空间的E-k关系进行数值求解,得到长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格在波矢空间高对称点附近的微带(mini-band)结构。其中中波和长波超晶格的有效带隙分别为0.247 eV和0.109 eV,与均匀网格离散化方案的计算结果一致,并与以相同超晶格结构作吸收层的器件100%截止波长测试结果一致。非均匀网格离散化方案与均匀网格离散化方案相比,在保证精算准确性的前提下,能显著提升InAs/GaSb超晶格微带结构的数值计算效率。 展开更多
关键词 inas/GASB超晶格 k·p模型 有限差分法 非均匀离散化
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中波InAs/InAsSb超晶格红外探测器设计及势垒外延优化制备
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作者 刘炳锋 祝连庆 +3 位作者 鹿利单 房晨 陈伟强 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期106-115,共10页
针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统... 针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统分析了InAs和InAsSb层的厚度及Sb组分比例对带隙的耦合调控机制,实现响应波长在3~5μm波段的精确覆盖。通过分子束外延技术制备了应变平衡的InAs/InAs_(0.6)Sb_(0.4)超晶格材料,HRXRD表征显示超晶格周期厚度偏差仅为2.46%,实现了高均匀性材料外延。构建了基于AlAsSb三元合金势垒层的完整nBn结构,并对AlAsSb层在385℃、400℃及420℃三种生长温度下进行表面形貌和结构特性优化,AFM与RSM结果表明400℃时表面粗糙度仅0.252 nm、位错密度及应变均达到最低。结合钝化工艺完成器件制备并对其在77 K及-0.6 V偏置条件下进行性能测试。结果表明,Al_(2)O_(3)钝化后器件暗电流密度降至5.30×10^(-6) A/cm^(2),RA值提升至4.13×10^(4)Ω·cm^(2);峰值探测率达8.35×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W(λ_(peak)=4.49μm),50%截止波长5.00μm处D*为5.01×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W。研究验证了所设计的势垒结构与外延工艺优化的可行性,为高性能中波红外Ⅱ类超晶格探测器在高工作温度和大面积阵列化应用中奠定了技术基础。 展开更多
关键词 inas/inasSb 分子束外延 二类超晶格 中波红外探测器 势垒结构
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低缺陷3 in中波InAs/InAsSb材料分子束外延工艺研究
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作者 闫勇 周朋 +3 位作者 游聪娅 刘铭 胡雨农 金姝沛 《红外》 2025年第4期11-19,共9页
通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料... 通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料表面上直径在3μm以上的缺陷密度为64 cm^(-2),总厚度偏差为8.16μm,材料相对于基准面的粗糙度均方根值为0.339 nm,-1级衍射卫星峰的半高宽为16 arcsec。所生长的材料平整均匀,具有较好的晶格质量。光致发光(Photo-luminescence,PL)光谱结果显示,材料在75 K下的发光峰位于4.69μm处;随着温度的升高,峰位产生红移。研究Sb束流大小与实验工艺的对应关系以及材料生长温度与材料缺陷的影响规律,对于生长高质量3 in InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料具有重要意义。 展开更多
关键词 分子束外延 inas/inasSb GaSb衬底
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Effect of nitrogen incorporation and surface passivation on photoluminescence properties of InAs-based nanowires
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作者 Ratmir Ustimenko Danila Karaulov +5 位作者 Maxim Vinnichenko Ilya Norvatov Andrey Kaveev Vladimir Fedorov Ivan Mukhin Dmitry Firsov 《Journal of Semiconductors》 2025年第12期102-107,共6页
InAsN nanowires on InAs stems were obtained using plasma-assisted molecular beam epitaxy on a SiOx/Si(111)sub-strate.Also,heterostructured InAs/InAsN and InAsN/InP nanowires were grown in the core/shell geometry.In th... InAsN nanowires on InAs stems were obtained using plasma-assisted molecular beam epitaxy on a SiOx/Si(111)sub-strate.Also,heterostructured InAs/InAsN and InAsN/InP nanowires were grown in the core/shell geometry.In the low-temperature photoluminescence spectra of the grown structures,spectral features are observed that correspond to the polytypic structure of nanowires with a predominance of the wurtzite phase and parasitic islands of the sphalerite phase.It was shown that the interband photoluminescence spectral features of InAsN nanowires experience a red shift relative to the pristine InAs nanowires.The incorporation of nitrogen reduces the bandgap by splitting the conduction band into two subbands.The position of the spectral features in the photoluminescence spectra confirms the formation of a nitride solid solution with a poly-typic hexagonal structure,having a concentration of nitrogen atoms of up to 0.7%.Additional passivation of the nanowire surface with InP leads to a decrease in the intensity of nonradiative recombination and an improvement in the photoluminescent response of the nanowires,which makes it possible to detect photoluminescence emission at room temperature.Thus,by changing the composition and morphology of nanowires,it is possible to control their electronic structure,which allows varying the operating range of detectors and mid-IR radiation sources based on them. 展开更多
关键词 NANOWIRES PHOTOLUMINESCENCE inasN inas INP core/shell PASSIVATION
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 inas/GaSb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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320×256元InAs/GaSb II类超晶格中波红外双色焦平面探测器 被引量:9
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作者 白治中 徐志成 +5 位作者 周易 姚华城 陈洪雷 陈建新 丁瑞军 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期716-720,共5页
报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ... 报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ML InAs/7 ML GaSb和10 ML InAs/10 ML GaSb.焦平面阵列像元中心距为30μm.在77 K时测试,器件双色波段的50%响应截止波长分别为4.2μm和5.5μm,其中N-on-P器件平均峰值探测率达到6.0×10^(10) cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为8.6%;P-on-N器件平均峰值探测率达到2.3×10~9 cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为9.8%.红外焦平面偏压调节成像测试得到较为清晰的双波段成像. 展开更多
关键词 inas/GASB 超晶格 双色 焦平面
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长波InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器 被引量:11
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作者 周易 陈建新 +5 位作者 徐庆庆 徐志成 靳川 许佳佳 金巨鹏 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期210-213,224,共5页
报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度... 报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度下测试了单元器件的电流-电压(Ⅰ-Ⅴ)特性,响应光谱和黑体响应.在该温度下,光敏元大小为100μm×100μm的单元探测器RmaxA为2.5Ωcm2,器件的电流响应率为1.29A/W,黑体响应率为2.1×109cmHz1/2/W,11μm处量子效率为14.3%.采用四种暗电流机制对器件反向偏压下的暗电流密度曲线进行了拟合分析,结果表明起主导作用的暗电流机制为产生复合电流. 展开更多
关键词 inas/GaSbⅡ类超晶格 长波12.5μm 暗电流
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InAs/GaSb超晶格中波焦平面材料的分子束外延技术 被引量:7
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作者 徐庆庆 陈建新 +3 位作者 周易 李天兴 吕翔 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期406-408,438,共4页
报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长技术研究.通过改变GaSb衬底上分子束外延InAs/GaSb超晶格材料的衬底温度,以及界面的优化等,改善超晶格材料的表面形貌和晶格失配,获得了晶格失配Δa/a=1.5×10-4,原子级平整表面的InA... 报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长技术研究.通过改变GaSb衬底上分子束外延InAs/GaSb超晶格材料的衬底温度,以及界面的优化等,改善超晶格材料的表面形貌和晶格失配,获得了晶格失配Δa/a=1.5×10-4,原子级平整表面的InAs/GaSb超晶格材料,材料77 K截止波长为4.87μm. 展开更多
关键词 inas/GASB 超晶格 分子束外延
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GaAs基GaSb体材料及InAs/GaSb超晶格材料的MBE生长 被引量:5
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作者 郝瑞亭 徐应强 +2 位作者 周志强 任正伟 牛智川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1088-1091,共4页
采用分子束外延方法在GaAs(100)衬底上生长GaSb体材料,以此GaSb为缓冲层生长了不同InAs厚度的InAs/GaSb超晶格,其10K光致发光谱峰值波长在2.0~2.6μm.高分辨透射电子显微镜观察证实超晶格界面清晰,周期完整.
关键词 分子束外延 GAAS GASB inas/GASB超晶格
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InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料的ICP刻蚀 被引量:6
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作者 陈永远 邓军 +2 位作者 史衍丽 苗霈 杨利鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期433-437,共5页
分别采用Cl2/Ar和SiCl4/Ar作为刻蚀气体对InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料进行ICP(Inductively Couple Plasma)刻蚀。结果表明,两种刻蚀气体的刻蚀深度与刻蚀时间都呈线性关系;在2 mTorr气压下,RF功率为50 W,SiCl4流量为3 sccm,Ar为9 s... 分别采用Cl2/Ar和SiCl4/Ar作为刻蚀气体对InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料进行ICP(Inductively Couple Plasma)刻蚀。结果表明,两种刻蚀气体的刻蚀深度与刻蚀时间都呈线性关系;在2 mTorr气压下,RF功率为50 W,SiCl4流量为3 sccm,Ar为9 sccm时,刻蚀速率为100 nm/min,且与材料的掺杂浓度无关。实验还表明,SiCl4/Ar作为刻蚀气体时,Ar流量在很大范围内对刻蚀速率没用明显影响,但Ar的流量越大,刻蚀的均匀性越好;用Cl2/Ar作为刻蚀气体时,刻蚀速率也是100 nm/min,但Ar流量对刻蚀速率有影响:当Ar流量小于3 sccm时,刻蚀速率随Ar流量的减小而明显降低。 展开更多
关键词 ICP刻蚀 inas GASB 二类超晶格 SiCl4 AR CL2 AR
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InAs/GaSbⅡ型超晶格的拉曼和光致发光光谱 被引量:4
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作者 郭杰 孙维国 +3 位作者 彭震宇 周志强 徐应强 牛智川 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第2期278-281,共4页
采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数... 采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数方向移动5cm-1,频移温度系数约为0.023cm-1/K。光致发光(PL)峰在2.4~2.8μm,由带间辐射复合和束缚激子复合构成,2.55μmPL峰随温度变化(15~150K)发生微小红移,超晶格中InAs电子带与GaSb空穴带带间距随温度变化比体材料的禁带宽度小。PL发光强度在15~50K随温度升高而升高,在60~150K则相反,并在不同温度段表现出不同的温度依赖关系。 展开更多
关键词 超晶格 inas/GASB 拉曼光谱 光致发光 温度
原文传递
nBn型InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器光电特性研究 被引量:6
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作者 胡锐 邓功荣 +5 位作者 张卫锋 何雯谨 冯江敏 袁俊 莫镜辉 史衍丽 《红外技术》 CSCD 北大核心 2014年第11期863-867,共5页
设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温... 设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温度下,nBn器件的暗电流要比p-i-n器件暗电流小2个量级。温度升高到150 K时,nBn器件暗电流变大2个量级,而p-i-n器件暗电流变大4个量级;nBn器件峰值探测率下降到1/5,p-i-n器件峰值探测率下降2个量级。可见nBn器件适合高温工作,适合高性能红外焦平面探测器的研制。 展开更多
关键词 NBN 超晶格 inas/GASB 暗电流 Shockley-Read-Hall
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