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InP基多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列的结构和光学性质
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作者 黄秀颀 刘峰奇 +3 位作者 车晓玲 刘俊岐 雷文 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期309-313,共5页
在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对I... 在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对InAs量子点的结构及光学性质有很大影响 .对InP基InAlGaAs缓冲层上自组织量子点的形核和演化机制进行了探讨 ,提出量子点的演化过程表现为量子点的合并长大并伴随着自身的徙动 ,以获得能量最优的分布状态 . 展开更多
关键词 量子点 分子束外延 inalgaas缓冲层
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AlGaAs插入结构对InAlGaAs/AlGaAs多量子阱发光特性的影响
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作者 赵书存 王海珠 +4 位作者 王登魁 甘露露 王祯胜 吕明辉 马晓辉 《发光学报》 北大核心 2025年第4期683-690,共8页
InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理... InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理论计算,探究插入层结构对量子阱发光性质的影响。设计并生长了无插入层的InAlGaAs量子阱及不同厚度不同Al组分的AlGaAs插入层。实验结果表明,插入层的引入显著提高了量子阱的发光强度,虽然样品中本身存在局域态,但插入层的存在并未引入更多局域态,同时插入层的存在不会改变量子阱中载流子复合机制。研究结果为InAlGaAs量子阱的结构优化及插入层技术提供了重要的理论分析和实验数据,表明通过合理设计插入层可以显著提高InAlGaAs量子阱的光学性能。 展开更多
关键词 inalgaas多量子阱 插入层 金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
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Effect of GaInP and GaAsP inserted into waveguide/barrier interface on carrier leakage in InAlGaAs quantum well 808-nm laser diode
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作者 FU Meng-jie DONG Hai-liang +3 位作者 JIA Zhi-gang JIA Wei LIANG Jian XU Bing-she 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第1期186-197,共12页
There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresse... There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresses carrier leakage by inserting n-Ga_(0.55)In_(0.45)P and p-GaAs_(0.6)P_(0.4) between barriers and waveguide layers,respectively,to modulate the energy band structure and to increase the height of barrier.The results show that the leakage current density reduces by 87.71%,compared to traditional structure.The nonradiative recombination current density of novel structure reduces to 37.411 A/cm^(2),and the output power reaches 12.80 W with wall-plug efficiency of 78.24%at an injection current density 5 A/cm^(2) at room temperature.In addition,the temperature drift coefficient of center wavelength is 0.206 nm/℃at the temperature range from 5℃to 65℃,and the slope of fitted straight line of threshold current with temperature variation is 0.00113.The novel epitaxial structure provides a theoretical basis for achieving high-power laser diode. 展开更多
关键词 808-nm laser diode Ga_(0.55)In_(0.45)P and GaAs_(0.6)P_(0.4)insertion layers inalgaas quantum well carrier leakage
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 inas/GASB超晶格 长波 焦平面
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基于仿真的势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器性能优化研究 被引量:1
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作者 谢宁 祝连庆 +2 位作者 刘炳锋 娄小平 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期178-186,共9页
为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方... 为提高势垒型中波InAs/InAsSb二类超晶格红外探测器器件性能,研究并设计了nBn势垒型InAs/InAsSb器件结构。针对InAs/InAsSb红外探测器器件结构特征,分析了暗电流的主导机制和能带特性,采用基于泊松方程、连续性方程和热方程的数值计算方法,通过精确调控吸收层掺杂、势垒层掺杂、势垒层厚度、温度和组分等,构建出高能量势垒以有效阻挡多数载流子,允许少数载流子迁移,实现价带偏移(Valence Band Offset,VBO)接近于零的要求,从而有效降低暗电流。研究结果表明,在1×10^(15)~1×10^(17)cm^(-3)范围内降低势垒层掺杂浓度,VBO和暗电流开启电压绝对值均会减小,当AlAs1-xSbx势垒中Sb组分为0.91时,VBO接近于零。对于吸收层,随着掺杂浓度的提高,暗电流呈现减小趋势,但趋势较不明显。在-0.5V偏压,140 K工作条件下,吸收层和势垒层掺杂浓度分别为1×10^(13)cm^(-3),1×10^(15)cm^(-3),吸收层与势垒层厚度分别为3μm,80 nm,得到器件结构参数优化后的暗电流低至4.5×10^(-7)A/cm^(2),证明InAs/InAsSb中波红外探测器具有高温工作的应用前景,可广泛应用于导弹预警、红外制导、航空航天等领域。 展开更多
关键词 中波红外探测器 inas/inasSb 暗电流 二类超晶格 势垒优化
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中波InAs/InAsSb超晶格红外探测器设计及势垒外延优化制备
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作者 刘炳锋 祝连庆 +3 位作者 鹿利单 房晨 陈伟强 董明利 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期106-115,共10页
针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统... 针对中波红外探测器在抑制暗电流、提升材料外延质量与优化势垒结构方面的关键问题,开展了基于InAs/InAsSb Ⅱ类超晶格材料的nBn势垒型中波红外探测器的设计与AlAsSb势垒层优化研究。采用k∙p能带理论模型对超晶格能带结构进行建模,系统分析了InAs和InAsSb层的厚度及Sb组分比例对带隙的耦合调控机制,实现响应波长在3~5μm波段的精确覆盖。通过分子束外延技术制备了应变平衡的InAs/InAs_(0.6)Sb_(0.4)超晶格材料,HRXRD表征显示超晶格周期厚度偏差仅为2.46%,实现了高均匀性材料外延。构建了基于AlAsSb三元合金势垒层的完整nBn结构,并对AlAsSb层在385℃、400℃及420℃三种生长温度下进行表面形貌和结构特性优化,AFM与RSM结果表明400℃时表面粗糙度仅0.252 nm、位错密度及应变均达到最低。结合钝化工艺完成器件制备并对其在77 K及-0.6 V偏置条件下进行性能测试。结果表明,Al_(2)O_(3)钝化后器件暗电流密度降至5.30×10^(-6) A/cm^(2),RA值提升至4.13×10^(4)Ω·cm^(2);峰值探测率达8.35×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W(λ_(peak)=4.49μm),50%截止波长5.00μm处D*为5.01×10^(11) cm·Hz^(1/2)/W。研究验证了所设计的势垒结构与外延工艺优化的可行性,为高性能中波红外Ⅱ类超晶格探测器在高工作温度和大面积阵列化应用中奠定了技术基础。 展开更多
关键词 inas/inasSb 分子束外延 二类超晶格 中波红外探测器 势垒结构
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低缺陷3 in中波InAs/InAsSb材料分子束外延工艺研究
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作者 闫勇 周朋 +3 位作者 游聪娅 刘铭 胡雨农 金姝沛 《红外》 2025年第4期11-19,共9页
通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料... 通过改变材料源的束流大小和材料生长温度对3 in数字合金(Digital Alloy,DA)-nBn型InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料进行分子束外延工艺研究。结果表明,当Sb束流大小为3×10^(-7)torr、生长温度为470℃时生长的材料质量最好,材料表面上直径在3μm以上的缺陷密度为64 cm^(-2),总厚度偏差为8.16μm,材料相对于基准面的粗糙度均方根值为0.339 nm,-1级衍射卫星峰的半高宽为16 arcsec。所生长的材料平整均匀,具有较好的晶格质量。光致发光(Photo-luminescence,PL)光谱结果显示,材料在75 K下的发光峰位于4.69μm处;随着温度的升高,峰位产生红移。研究Sb束流大小与实验工艺的对应关系以及材料生长温度与材料缺陷的影响规律,对于生长高质量3 in InAs/InAs_(1-x)Sb xⅡ类超晶格材料具有重要意义。 展开更多
关键词 分子束外延 inas/inasSb GaSb衬底
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1.55μm波长InAs/InAlGaAs量子点DFB激光器
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作者 陈裕权 《半导体信息》 2008年第5期8-9,共2页
关键词 inas/inalgaas 量子点 阈值电流 特征温度 分布反馈 连续波 单模激光 异质外延 工作温度 光器件
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 inas/GaSb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +6 位作者 徐志成 周易 梁钊铭 姚华城 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期437-441,共5页
本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外... 本文报道了1280×1024元InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面阵列探测器的研究结果。探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用叠层双色结构和顺序读出方式。运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为中波1:6 ML InAs/7 ML GaSb和中波2:9 ML InAs/7 ML GaSb。焦平面阵列像元中心距为12μm。在80 K时测试,器件双波段的工作谱段为中波1:3~4μm,中波2:3.8~5.2μm。中波1器件平均峰值探测率达到6.32×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1),中波2器件平均峰值探测率达到2.84×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1)。红外焦平面偏压调节成像测试得到清晰的双波段成像。本文是国内首次报道1280×1024规模InAs/GaSb II类超晶格中/中波双色红外焦平面探测器。 展开更多
关键词 焦平面 inas/GASB 超晶格 双色
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12.5μm 1024×1024长波InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面探测器
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作者 白治中 黄敏 +7 位作者 徐志成 周易 朱艺红 沈益铭 张君玲 陈洪雷 丁瑞军 陈建新 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期738-743,共6页
报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024&#... 报道了12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外焦平面探测器。实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料。吸收区超晶格结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb)。探测器采用PBπBN的双势垒结构以抑制长波探测器暗电流。研制了规模为1024×1024、像元中心距为18μm的长波焦平面探测器。采用金属杜瓦封装,与制冷机耦合形成超晶格长波探测器制冷组件。在60 K温度下测试了探测器各项性能。探测器50%截止波长为12.5µm,平均峰值探测率达到6.6×10^(10)cmHz^(1/2)/W,盲元率为1.05%,噪声等效温差NETD为21.2 mK。红外焦平面成像测试得到了清晰的长波图像。 展开更多
关键词 焦平面 inas/GASB 超晶格 长波
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基于AlAsSb/InAsSb超晶格势垒的InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外探测器 被引量:3
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作者 单一凡 吴东海 +8 位作者 谢若愚 周文广 常发冉 李农 王国伟 蒋洞微 郝宏玥 徐应强 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期450-456,共7页
InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测... InAs/InAsSbⅡ类超晶格避免了InAs/GaSbⅡ类超晶格中与Ga原子相关的缺陷复合中心,具有更高的少数载流子寿命,在高工作温度中波红外探测器制备方面有着良好的应用前景。少数载流子单极势垒结构通常被用来抑制探测器暗电流,如nBn结构探测器。在InAs/InAsSbⅡ类超晶格nBn中波红外光电探测器中,势垒层常采用AlAsSb等多元合金材料,阻挡多数载流子的输运。然而,势垒层与吸收层存在的价带偏移(VBO)使得光电流往往需要在大偏压下饱和,从而增大了探测器暗电流。本文设计了一种AlAsSb/InAsSb超晶格势垒,旨在消除VBO并降低量子效率对偏压的依赖性。研究结果显示,150 K下,设计制备的nBn光电探测器的50%截止波长为4.5μm,探测器光响应在-50 mV的小反向偏压下达到了饱和,3.82μm处的峰值响应度为1.82 A/W,对应量子效率为58.8%。在150 K和-50 mV偏压下,探测器的暗电流密度为2.01×10^(-5)A/cm^(2),计算得到在3.82μm的峰值探测率为6.47×10^(11)cm·Hz^(1/2)/W。 展开更多
关键词 inas/inasSb Ⅱ类超晶格 AlAsSb/inasSb势垒 中波红外 势垒探测器
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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)
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作者 王凯 顾溢 +4 位作者 方祥 周立 李成 李好斯白音 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期385-388,398,共5页
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着A... 采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法. 展开更多
关键词 化合物半导体 分子束外延 inalgaas X射线衍射 光致发光
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级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管暗电流成分分析
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作者 张承 黄晓峰 +6 位作者 迟殿鑫 唐艳 王立 柴松刚 崔大健 莫才平 高新江 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第1期20-24,共5页
实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗... 实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗电流的影响。结果表明,二极管暗电流主要来自于体暗电流,而非表面漏电流。在工作点偏压90V处,受缺陷影响的缺陷辅助隧穿电流Itat在暗电流中占据了主导,并推算出了芯片结构的缺陷浓度Nt约为1019 m-3、吸收区中的缺陷浓度NInGaAs约为7×1015 m-3。由于芯片结构的缺陷主要来源于InAlAs/InAlGaAs倍增区和InGaAs吸收区,而吸收区缺陷占比很少,因此认为缺陷主要来自于异质结InAlAs/InAlGaAs倍增区。 展开更多
关键词 inalAs/inalgaas雪崩光电二极管 暗电流 表面漏电流 缺陷辅助隧穿电流 缺陷浓度
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InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料的Si离子注入研究 被引量:1
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作者 何苗 周易 +7 位作者 应翔霄 梁钊铭 黄敏 王志芳 朱艺红 廖科才 王楠 陈建新 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期15-22,共8页
Ⅱ类超晶格红外探测器一般通过台面结实现对红外辐射的探测,而通过离子注入实现横向PN结,一方面材料外延工艺简单,同时可以利用超晶格材料横向扩散长度远高于纵向的优势改善光生载流子的输运,且易于制作高密度平面型阵列。本文利用多种... Ⅱ类超晶格红外探测器一般通过台面结实现对红外辐射的探测,而通过离子注入实现横向PN结,一方面材料外延工艺简单,同时可以利用超晶格材料横向扩散长度远高于纵向的优势改善光生载流子的输运,且易于制作高密度平面型阵列。本文利用多种材料表征技术,研究了不同能量的Si离子注入以及退火前后对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料性能的影响。研究通过Si离子注入,外延材料由P型变为N型,超晶格材料中产生了垂直方向的拉伸应变,晶格常数变大,且失配度随着注入能量的增大而增大,注入前失配度为-0.012%,当注入能量到200 keV时,失配度达到0.072%,超晶格部分弛豫,弛豫程度为14%,而在300℃ 60 s退火后,超晶格恢复完全应变状态,且晶格常数变小,这种张应变是退火引起的Ga-In相互扩散以及Si替位导致的晶格收缩而造成的。 展开更多
关键词 inas/GaSbⅡ类超晶格 离子注入 平面结 退火 HRXRD
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原子层沉积Al_(2)O_(3)钝化对InAs/InGaAsSbⅡ类超晶格发光特性的影响 被引量:1
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作者 项超 王登魁 +5 位作者 方铉 房丹 闫昊 李金华 王晓华 杜鹏 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期85-93,共9页
提出一种基于干法刻蚀与原子层沉积相结合的钝化方法,采用干法刻蚀去除InAs/InGaAsSb超晶格表面及端面固有的氧化层,利用原子层沉积Al_(2)O_(3)薄膜钝化刻蚀表面,对钝化前后光致发光光谱的表征研究其发光性能与长期稳定性。处理后超晶格... 提出一种基于干法刻蚀与原子层沉积相结合的钝化方法,采用干法刻蚀去除InAs/InGaAsSb超晶格表面及端面固有的氧化层,利用原子层沉积Al_(2)O_(3)薄膜钝化刻蚀表面,对钝化前后光致发光光谱的表征研究其发光性能与长期稳定性。处理后超晶格的As 3d谱中As-O键相关的峰消失表明其表面的氧化物被有效去除。样品的发光强度与激发光功率之间的拟合系数α从1.17减小为1.02,表明激子主导的发光占比增加。连续五天的红外光谱测试发现,处理后样品发光强度降低为原来的89%,而未处理样品的发光强度降低为原来的76%,表明处理后超晶格表现出更好发光稳定性。本研究为提升InAs/InGaAsSb超晶格性能、促进其光电探测领域的应用提供参考。 展开更多
关键词 inas/InGaAsSb超晶格 钝化 Al_(2)O_(3) 原子层沉积 发光特性
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InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺研究综述
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作者 张翔宇 蒋洞微 +1 位作者 贺雯 王金忠 《航空兵器》 CSCD 北大核心 2024年第5期41-49,共9页
本文综述了InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺研究。从湿法和干法刻蚀的物理化学机理以及参数调控等方面进行分析,旨在阐明工艺条件对台面形貌的影响,以抑制带隙较窄的长波和甚长波超晶格表面漏电流。结果表明,湿法刻蚀中恰当的腐蚀液配比可... 本文综述了InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺研究。从湿法和干法刻蚀的物理化学机理以及参数调控等方面进行分析,旨在阐明工艺条件对台面形貌的影响,以抑制带隙较窄的长波和甚长波超晶格表面漏电流。结果表明,湿法刻蚀中恰当的腐蚀液配比可以实现两种组分的均匀性刻蚀,而不会导致粗糙的表面和严重的下切;干法刻蚀中,采用Cl_(2)基和CH 4基混合气体,通过调整刻蚀气体类型及比例可实现物理和化学刻蚀两个过程的平衡,保证台面侧壁平滑性和倾角的垂直度。另外,对于不同组分的超晶格,需要选择不同的工艺参数才能满足InAs和GaSb的协同性刻蚀。最后对InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺作出了展望。 展开更多
关键词 inas/GASB超晶格 湿法刻蚀 干法刻蚀 刻蚀机理 工艺优化
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Structural design of mid-infrared waveguide detectors based on InAs/GaAsSb superlattice
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作者 PEI Jin-Di CHAI Xu-Liang +1 位作者 WANG Yu-Peng ZHOU Yi 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期457-463,共7页
In the realm of near-infrared spectroscopy,the detection of molecules has been achieved using on-chip waveguides and resonators.In the mid-infrared band,the integration and sensitivity of chemical sensing chips are of... In the realm of near-infrared spectroscopy,the detection of molecules has been achieved using on-chip waveguides and resonators.In the mid-infrared band,the integration and sensitivity of chemical sensing chips are often constrained by the reliance on off-chip light sources and detectors.In this study,we demonstrate an InAs/GaAsSb superlattice mid-infrared waveguide integrated detector.The GaAsSb waveguide layer and the InAs/GaAsSb superlattice absorbing layer are connected through evanescent coupling,facilitating efficient and highquality detection of mid-infrared light with minimal loss.We conducted a simulation to analyze the photoelectric characteristics of the device.Additionally,we investigated the factors that affect the integration of the InAs/GaAs⁃Sb superlattice photodetector and the GaAsSb waveguide.Optimal thicknesses and lengths for the absorption lay⁃er are determined.When the absorption layer has a thickness of 0.3μm and a length of 50μm,the noise equiva⁃lent power reaches its minimum value,and the quantum efficiency can achieve a value of 68.9%.The utilization of waveguide detectors constructed with Ⅲ-Ⅴ materials offers a more convenient means of integrating mid-infra⁃red light sources and achieving photoelectric detection chips. 展开更多
关键词 inas/GaAsSb superlattice waveguide detector evanescent coupling GaAsSb waveguide
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基于INA117高压电池组单体电压测量的漏电流分析
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作者 王玉宝 汪嵩 +2 位作者 杨肖锋 张英健 张晔 《电器与能效管理技术》 2025年第4期66-70,共5页
针对高压电池组单体电压测量中存在的共模电压高的问题,提出一种使用INA117为采样芯片的采样电路。在详细介绍INA117特性的基础上,完成采样电路的设计。对每节蓄电池组的漏电流进行理论计算,并通过增加均衡电阻的方式增加单体一致性,成... 针对高压电池组单体电压测量中存在的共模电压高的问题,提出一种使用INA117为采样芯片的采样电路。在详细介绍INA117特性的基础上,完成采样电路的设计。对每节蓄电池组的漏电流进行理论计算,并通过增加均衡电阻的方式增加单体一致性,成功解决了某卫星用70 V蓄电池管理系统单体电压相差较大的问题,达到了长期使用或贮存的目的。所提每节蓄电池组的漏电流计算公式为后续其他高压电池管理系统产品的设计提供了理论依据,提高了产品可靠性,减少了设计时间。 展开更多
关键词 高压电池组 单体电压测量 ina117 漏电流
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