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Effect of GaInP and GaAsP inserted into waveguide/barrier interface on carrier leakage in InAlGaAs quantum well 808-nm laser diode
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作者 FU Meng-jie DONG Hai-liang +3 位作者 JIA Zhi-gang JIA Wei LIANG Jian XU Bing-she 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第1期186-197,共12页
There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresse... There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresses carrier leakage by inserting n-Ga_(0.55)In_(0.45)P and p-GaAs_(0.6)P_(0.4) between barriers and waveguide layers,respectively,to modulate the energy band structure and to increase the height of barrier.The results show that the leakage current density reduces by 87.71%,compared to traditional structure.The nonradiative recombination current density of novel structure reduces to 37.411 A/cm^(2),and the output power reaches 12.80 W with wall-plug efficiency of 78.24%at an injection current density 5 A/cm^(2) at room temperature.In addition,the temperature drift coefficient of center wavelength is 0.206 nm/℃at the temperature range from 5℃to 65℃,and the slope of fitted straight line of threshold current with temperature variation is 0.00113.The novel epitaxial structure provides a theoretical basis for achieving high-power laser diode. 展开更多
关键词 808-nm laser diode Ga_(0.55)In_(0.45)P and GaAs_(0.6)P_(0.4)insertion layers inalgaas quantum well carrier leakage
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AlGaAs插入结构对InAlGaAs/AlGaAs多量子阱发光特性的影响
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作者 赵书存 王海珠 +4 位作者 王登魁 甘露露 王祯胜 吕明辉 马晓辉 《发光学报》 北大核心 2025年第4期683-690,共8页
InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理... InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理论计算,探究插入层结构对量子阱发光性质的影响。设计并生长了无插入层的InAlGaAs量子阱及不同厚度不同Al组分的AlGaAs插入层。实验结果表明,插入层的引入显著提高了量子阱的发光强度,虽然样品中本身存在局域态,但插入层的存在并未引入更多局域态,同时插入层的存在不会改变量子阱中载流子复合机制。研究结果为InAlGaAs量子阱的结构优化及插入层技术提供了重要的理论分析和实验数据,表明通过合理设计插入层可以显著提高InAlGaAs量子阱的光学性能。 展开更多
关键词 inalgaas多量子阱 插入层 金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)
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作者 王凯 顾溢 +4 位作者 方祥 周立 李成 李好斯白音 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期385-388,398,共5页
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着A... 采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法. 展开更多
关键词 化合物半导体 分子束外延 inalgaas X射线衍射 光致发光
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InP基多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列的结构和光学性质
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作者 黄秀颀 刘峰奇 +3 位作者 车晓玲 刘俊岐 雷文 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期309-313,共5页
在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对I... 在InP(0 0 1)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAlGaAs量子点阵列结构 .根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析 ,认为引入与InP衬底晶格匹配的InAlGaAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构 ,而InAlGaAs层的表面特性对InAs量子点的结构及光学性质有很大影响 .对InP基InAlGaAs缓冲层上自组织量子点的形核和演化机制进行了探讨 ,提出量子点的演化过程表现为量子点的合并长大并伴随着自身的徙动 ,以获得能量最优的分布状态 . 展开更多
关键词 量子点 分子束外延 inalgaas缓冲层
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级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管暗电流成分分析
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作者 张承 黄晓峰 +6 位作者 迟殿鑫 唐艳 王立 柴松刚 崔大健 莫才平 高新江 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第1期20-24,共5页
实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗... 实验制备了级联倍增InAlAs/InAlGaAs雪崩光电二极管,对二极管暗电流随台面直径和温度的变化进行了研究分析。结合暗电流函数模型,利用Matlab软件对暗电流的各成分进行了数值计算,并仿真研究了芯片结构的缺陷浓度Nt和表面复合速率S对暗电流的影响。结果表明,二极管暗电流主要来自于体暗电流,而非表面漏电流。在工作点偏压90V处,受缺陷影响的缺陷辅助隧穿电流Itat在暗电流中占据了主导,并推算出了芯片结构的缺陷浓度Nt约为1019 m-3、吸收区中的缺陷浓度NInGaAs约为7×1015 m-3。由于芯片结构的缺陷主要来源于InAlAs/InAlGaAs倍增区和InGaAs吸收区,而吸收区缺陷占比很少,因此认为缺陷主要来自于异质结InAlAs/InAlGaAs倍增区。 展开更多
关键词 InAlAs/inalgaas雪崩光电二极管 暗电流 表面漏电流 缺陷辅助隧穿电流 缺陷浓度
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低阈值高效率InAlGaAs量子阱808nm激光器 被引量:9
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作者 李建军 韩军 +2 位作者 邓军 邹德恕 沈光地 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1159-1162,共4页
以Al0.3Ga0.7As/InAlGaAs/Al0.3Ga0.7As压应变量子阱代替传统的无应变量子阱作为有源区,实现降低808 nm半导体激光器的阈值电流,并提高器件的效率。首先优化设计了器件结构,并利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)进行了器件的外延生长。... 以Al0.3Ga0.7As/InAlGaAs/Al0.3Ga0.7As压应变量子阱代替传统的无应变量子阱作为有源区,实现降低808 nm半导体激光器的阈值电流,并提高器件的效率。首先优化设计了器件结构,并利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)进行了器件的外延生长。通过优化外延生长条件,保证了5.08 cm片内的量子阱(QW)光致发光(PL)光谱峰值波长均匀性达0.1%。对于条宽为50μm,腔长为750μm的器件,经镀膜后的阈值电流为81mA,斜率效率为1.22 W/A,功率转换效率达53.7%。变腔长实验得到器件的腔损耗仅为2 cm-1,内量子效率达90%。结果表明,压应变量子阱半导体激光器具有更优异的特性。 展开更多
关键词 激光器 inalgaas量子阱 金属有机物化学气相淀积
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1.55μm波长InAs/InAlGaAs量子点DFB激光器
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作者 陈裕权 《半导体信息》 2008年第5期8-9,共2页
关键词 InAs/inalgaas 量子点 阈值电流 特征温度 分布反馈 连续波 单模激光 异质外延 工作温度 光器件
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1.55μm脊波导大功率DFB激光器的研究
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作者 魏树威 朱尧 +1 位作者 周志强 黄楚云 《湖北工业大学学报》 2023年第5期48-51,共4页
为了提高1.55μm波段DFB激光器的输出性能及高温特性,制作了两种不同结构的InAlGaAs/InP大光腔激光器。两种激光器芯片均在外延设计上采用非对称结构,能够有效减少器件内吸收损耗,从而提高输出功率。对两种芯片均进行了不同腔长、发散... 为了提高1.55μm波段DFB激光器的输出性能及高温特性,制作了两种不同结构的InAlGaAs/InP大光腔激光器。两种激光器芯片均在外延设计上采用非对称结构,能够有效减少器件内吸收损耗,从而提高输出功率。对两种芯片均进行了不同腔长、发散角及高温性能测试,可以观测到采用较厚n侧限制层的芯片的输出功率更大。 展开更多
关键词 大功率激光器 inalgaas 高温特性 脊波导结构 非对称波导
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