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Voltus Insight AI在高性能CPU核物理实现上的全流程应用
1
作者
姜姝
李峄
陈俊杰
《电子技术应用》
2025年第8期16-21,共6页
随着高性能计算芯片设计向先进工艺节点演进,芯片集成度的飞跃式增长使得晶体管密度突破每平方毫米数亿门级,导致电源分配网络(PDN)的金属线宽持续收窄,通孔电阻呈非线性上升,加上高密度逻辑单元在吉赫兹级时钟频率下的同步翻转行为,显...
随着高性能计算芯片设计向先进工艺节点演进,芯片集成度的飞跃式增长使得晶体管密度突破每平方毫米数亿门级,导致电源分配网络(PDN)的金属线宽持续收窄,通孔电阻呈非线性上升,加上高密度逻辑单元在吉赫兹级时钟频率下的同步翻转行为,显著加剧了电压降(IR Drop)风险。基于Cadence Voltus Insight AI feature,提出了一种针对高性能CPU核的物理实现的全流程电压降优化方案,通过整合AI驱动的IR感知布局(IR-Aware Placement)、电源网络加强(reinforce_pg)及Watch Box修复技术,能够动态预测电源网格的电流分布热点,对高功耗逻辑单元进行摆放优化,实现IR热点区域的提前预防和高效修复。结果表明,在相同条件下,不仅能节约时间,提高效率,电压降修复率也从过去的66%显著提升至96%,同时避免了时序(Timing)与设计规则(DRC)的恶化。
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关键词
芯片设计
Insight
AI
ir-aware
IR
Drop修复
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职称材料
题名
Voltus Insight AI在高性能CPU核物理实现上的全流程应用
1
作者
姜姝
李峄
陈俊杰
机构
上海云豹创芯智能科技有限公司
深圳云豹智能有限公司
西安云豹创芯智能科技有限公司
出处
《电子技术应用》
2025年第8期16-21,共6页
文摘
随着高性能计算芯片设计向先进工艺节点演进,芯片集成度的飞跃式增长使得晶体管密度突破每平方毫米数亿门级,导致电源分配网络(PDN)的金属线宽持续收窄,通孔电阻呈非线性上升,加上高密度逻辑单元在吉赫兹级时钟频率下的同步翻转行为,显著加剧了电压降(IR Drop)风险。基于Cadence Voltus Insight AI feature,提出了一种针对高性能CPU核的物理实现的全流程电压降优化方案,通过整合AI驱动的IR感知布局(IR-Aware Placement)、电源网络加强(reinforce_pg)及Watch Box修复技术,能够动态预测电源网格的电流分布热点,对高功耗逻辑单元进行摆放优化,实现IR热点区域的提前预防和高效修复。结果表明,在相同条件下,不仅能节约时间,提高效率,电压降修复率也从过去的66%显著提升至96%,同时避免了时序(Timing)与设计规则(DRC)的恶化。
关键词
芯片设计
Insight
AI
ir-aware
IR
Drop修复
Keywords
chip design
Insight AI
ir-aware
IR Drop fixing
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
Voltus Insight AI在高性能CPU核物理实现上的全流程应用
姜姝
李峄
陈俊杰
《电子技术应用》
2025
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