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Preparation and Interface Studies on HgCdTe/CdTe/GaAs Grown by MOCVD
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +2 位作者 陈记安 杨臣华 陈美霓 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第2期102-106,共5页
When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.... When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.The electrical properties of CMT depend upon the thickness of CdTe epi-layers.The CdTe/GaAs interface was examined by both scanning electron microscope(SEM)and electron auger spectra (EAS).The influence of defects observed at interface on electrical and optical properties of CMT fihns was dis- cussed. 展开更多
关键词 MOCVD hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas buffer layers INTERFACE Electrical property of CMT
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MOCVD法生长HgCdTe/CdTe/GaAs多层异质材料工艺研究
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +1 位作者 陈记安 杨臣华 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1990年第3期42-45,共4页
用自已设计的MOCVD设备,国产的DMCd和DETe金属有机源,采用变通的多层互扩散工艺生长了HgCdTe/CdTe/GaAs外延片,获得良好的n型HgCdTe外延层。研究了生长速率与温度的关系;组份与DMCd/DETe之比的关系;x值与汞源温度的关系。生长CdTe和HgC... 用自已设计的MOCVD设备,国产的DMCd和DETe金属有机源,采用变通的多层互扩散工艺生长了HgCdTe/CdTe/GaAs外延片,获得良好的n型HgCdTe外延层。研究了生长速率与温度的关系;组份与DMCd/DETe之比的关系;x值与汞源温度的关系。生长CdTe和HgCdTe外延层的衬底温度分别约为:370℃和420℃。汞源温度约为280℃,汞压约0.02atm。DMCd/DETe随生长x值不同而不同。气流在2.6~3.7cm/s之间。 展开更多
关键词 hgcdte cdte/gaas 异质材料 MOCVD
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CdTe/GaAs(111)B薄膜的MBE生长研究 被引量:1
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作者 杨玉林 赵俊 +1 位作者 杨宇 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2007年第2期88-90,共3页
采用分子束外延方法,在GaAs(111)B衬底上,生长CdTe薄膜,以求研制出用于液相外延生长碲镉汞(HgCdTe)薄膜的CdTe/GaAs(111)B复合衬底。通过理论分析和实验探索,优化了生长温度和Te/Cd束流比等重要生长参数,获得了质量较好的CdTe薄膜,再通... 采用分子束外延方法,在GaAs(111)B衬底上,生长CdTe薄膜,以求研制出用于液相外延生长碲镉汞(HgCdTe)薄膜的CdTe/GaAs(111)B复合衬底。通过理论分析和实验探索,优化了生长温度和Te/Cd束流比等重要生长参数,获得了质量较好的CdTe薄膜,再通过循环热处理,使CdTe/GaAs(111)B复合衬底的质量得到进一步的提高,X-射线回摆曲线半峰宽(FWHM)有明显的降低。为LPE-HgCdTe薄膜的生长打下了较好基础。 展开更多
关键词 MBE cdte gaas hgcdte
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(112)面CdTe/Cd_(1-y)Zn_yTe,Hg_(1-x)Cd_xTe/CdTe和CdTe/GaAs异质结的方向倾斜
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作者 刘义族 于福聚 《应用科学学报》 CAS CSCD 2001年第3期261-264,共4页
用 X射线双晶衍射 ( XDCD)法测得分子束外延 ( MBE)法生长的 Cd Te/ Cd0 .959Zn0 .0 4 1 Te( 112 ) B异质结的倾斜角为 0 .2 185°,而且朝 [1- 1- 1]晶体学方向倾斜 .为了获得较精确的倾斜角值 ,绘制了外延层和衬底衍射角的差值Δ... 用 X射线双晶衍射 ( XDCD)法测得分子束外延 ( MBE)法生长的 Cd Te/ Cd0 .959Zn0 .0 4 1 Te( 112 ) B异质结的倾斜角为 0 .2 185°,而且朝 [1- 1- 1]晶体学方向倾斜 .为了获得较精确的倾斜角值 ,绘制了外延层和衬底衍射角的差值Δθ与绕样品表面法线旋转的角度 之间的准正弦函数 .为高分辨率透射电子显微镜 ( HRTEM)分析制备了 MBE法生长的 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te/ Ga As( 1- 12 ) B多层异质结的横截面薄膜 .Cd Te/ Ga As异质结的 HRTEM明场象表明 Cd Te( 1- 12 )缓冲层相对于 Ga As( 1- 12 )衬底朝 [1- 11- ]方向倾斜约 3°,并且在 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te异质结 ,Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te( 1- 12 )外延膜相对于 Cd Te( 1- 12 )缓冲层在 [11- 1]方向 ,即 [1- 11- ]的反方向倾斜约 1°.也分析了 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te/ Ga As多层膜之间的倾斜角关系 . 展开更多
关键词 分子束外延法 异质结 倾斜角 X射线双晶衍射法 hgcdte/cdte/gaas多层膜 失配位错
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Preparation and Characterization of Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te Epilayers Grown by Hot Wall MOCVD
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +5 位作者 韦光宇 陈纪安 李贤春 张玉平 刘克岳 赵振香 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1993年第3期175-180,共6页
Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-... Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-ray diffraction,TEM,DCXD,FTIR and Van der Pauw technique were employed to determine the crystalline,optical and electrical properties of CMT epilayers,which are effectively im- proved as compared with the previous data. 展开更多
关键词 Hot wall MOCVD hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas Buffer layers Optoelectronic properties CMT
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Hg_(1-x)Cd_xTe多层薄膜材料结构缺陷的透射电子显微镜测定
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作者 于福聚 《红外技术》 EI CSCD 北大核心 1998年第1期9-12,47,共5页
用透射电镜对Hg1-xCdTe/CdTe和CdTe/GaAs两种异质结的横截面进行了观测分析,对异质结附近的某些结构缺陷,如微孪晶的尺寸、几何形态、层错、界面失配位错的组态特征进行了研究,并对多层膜之间的取向差进行了... 用透射电镜对Hg1-xCdTe/CdTe和CdTe/GaAs两种异质结的横截面进行了观测分析,对异质结附近的某些结构缺陷,如微孪晶的尺寸、几何形态、层错、界面失配位错的组态特征进行了研究,并对多层膜之间的取向差进行了分析。说明在GaAs衬底上用分子束外延法制备的Hg1-xCdxTe/CdTe/GaAs多层膜,就大量结构缺陷而言,CdTe缓冲层对Hg1-xCdxTe外延层起到了屏障作用。在Hg1-xCdxTe/CdTe和CdTe/GaAs异质结之间所存在的生长取向差分别取决于其两者间的晶格失配度,一般说来,晶格失配度越大两者间的生长取向差就越大。另外,对CdTe缓冲层中堆垛层错和孪晶的相互作用也进行了讨论。 展开更多
关键词 碲镉汞 碲化镉 砷化镓 多层膜异质结 结构缺陷
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8~12μm量子阱超晶格红外探测器材料与器件 被引量:1
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作者 陈世达 《红外技术》 CSCD 1991年第5期10-16,共7页
介绍了近年来迅速发展的8~12μmGaAs-GaAlAs多量子阱红外探测器、InAsSb和InAs-Ga_(1-x)In_xSb应变超晶格材料和器件以及HgTe-CdTe超晶格材料的简单原理、特点及国外最新动态。预计在90年代它们将与HgCdTe材料和器件同样受到人们的关... 介绍了近年来迅速发展的8~12μmGaAs-GaAlAs多量子阱红外探测器、InAsSb和InAs-Ga_(1-x)In_xSb应变超晶格材料和器件以及HgTe-CdTe超晶格材料的简单原理、特点及国外最新动态。预计在90年代它们将与HgCdTe材料和器件同样受到人们的关注与重视。 展开更多
关键词 红外探测器 量子阱 材料 红外器件
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