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Design and Machining of the 15 20mA H-Cusp Source
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作者 贾先禄 张天爵 +5 位作者 吕银龙 姚红娟 陈荣范 钟俊晴 宋国芳 林军 《Chinese Physics C》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第z1期265-267,共3页
Cusp source is one of the essential elements in high density cyclotron,whose properties have a great impact on the extracted beam of the cyclotron.The article introduces the design and machining of the H-cusp source a... Cusp source is one of the essential elements in high density cyclotron,whose properties have a great impact on the extracted beam of the cyclotron.The article introduces the design and machining of the H-cusp source applied to the high intensity proton beam cyclotron.By investigating deeply the technology of high intensity plasma production, long life DC filament emission of electrons,magnetic confinement,electron filtering,residual gas and electron extraction control,we designed a new cusp source with an average beam density of 15—20mA based on the 10mA H-cusp source at CIAE. 展开更多
关键词 h-cusp source confinement field virtual filtering field
原文传递
15~20 mA多峰负氢离子源全三维数值模拟 被引量:1
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作者 陈颖 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期195-199,共5页
对自主开发的全三维粒子模拟/蒙特卡罗(PIC/MCC)算法进行了阐述,包括算法流程设计、碰撞处理机制等。采用该算法对中国原子能科学研究院研制的15~20mA负氢离子源进行数值模拟研究,结果显示:该多峰会切离子源能得到空间分布均匀的离子束... 对自主开发的全三维粒子模拟/蒙特卡罗(PIC/MCC)算法进行了阐述,包括算法流程设计、碰撞处理机制等。采用该算法对中国原子能科学研究院研制的15~20mA负氢离子源进行数值模拟研究,结果显示:该多峰会切离子源能得到空间分布均匀的离子束,采用优化后的虚拟过滤场,不仅能有效过滤高能电子,还将导致离子源下游区域低能电子增多,有效提高负氢离子体积产生效率。 展开更多
关键词 多峰负氢离子源 虚拟过滤场 粒子模拟 蒙特卡罗 碰撞处理机制
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21 mA强流多峰场负氢离子源的设计与实验研究
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作者 农竹杰 贾先禄 +8 位作者 张贺 郑侠 丁傲轩 吴聪 凌丽 贾心琦 马楚韵 颜利华 方明阳 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1137-1144,共8页
负氢离子源是强流质子回旋加速器的核心设备之一,其性能指标很大程度上决定了加速器最终束流的流强与品质。本文介绍了一种运用于强流质子回旋加速器上的多峰场负氢离子源的设计与实验研究,针对强流质子回旋加速器的高流强需求,通过深... 负氢离子源是强流质子回旋加速器的核心设备之一,其性能指标很大程度上决定了加速器最终束流的流强与品质。本文介绍了一种运用于强流质子回旋加速器上的多峰场负氢离子源的设计与实验研究,针对强流质子回旋加速器的高流强需求,通过深入研究高密度等离子体的产生和约束、高效虚拟过滤场、强流负氢离子引出等关键问题,解决制约提高负氢束流强度的瓶颈,在中国原子能科学研究院原有15 mA多峰场负氢离子源的基础上,基本保留原有的多峰场设计,通过采用四圆环灯丝结构,优化虚拟过滤场和引出结构,并改善真空系统,将平均引出束流提高至21 mA,实现了我国加速器领域灯丝驱动直流负氢离子源20 mA流强的突破。 展开更多
关键词 回旋加速器 负氢离子源 多峰约束场 虚拟过滤场
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