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Ge-SiO2薄膜的结构和光学特性研究
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作者 栾彩霞 侯东华 +1 位作者 柴跃生 张敏刚 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F04期52-53,共2页
用射频共溅射技术和后退火的方法,制备出埋入SiO2基质中的Ge纳米晶复合膜(nc-Ge/SiO2)。通过拉曼散射、光致发光和透射电子显微镜等手段研究了该复合膜的光学特性和薄膜结构。
关键词 ge-sio2薄膜 特性研究 透射电子显微镜 Ge纳米晶 溅射技术 拉曼散射 薄膜结构 光学特性 光致发光 复合膜
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退火温度对Ge-SiO_2薄膜结构的影响 被引量:2
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作者 汤乃云 叶春暖 +3 位作者 吴雪梅 诸葛兰剑 俞跃辉 姚伟国 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期324-325,331,共3页
用射频磁控溅射制备了Ge SiO2 薄膜。在N2 的保护下对薄膜进行了不同温度的退火处理。使用傅里叶变换红外光谱分析 (FTIR)技术 ,X射线衍射谱 (XRD) ,X射线光电子能谱(XPS)分析样品的微结构 ,研究样品在退火中发生的结构、组分的变化。... 用射频磁控溅射制备了Ge SiO2 薄膜。在N2 的保护下对薄膜进行了不同温度的退火处理。使用傅里叶变换红外光谱分析 (FTIR)技术 ,X射线衍射谱 (XRD) ,X射线光电子能谱(XPS)分析样品的微结构 ,研究样品在退火中发生的结构、组分的变化。结果表明退火温度对薄膜的结构 ,尤其是薄膜中的GeO含量和GeO晶粒的大小的影响是显著的 。 展开更多
关键词 退火温度 ge-sio2薄膜 结构 溅射
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Ge-SiO_2薄膜的结构及其发光特性的研究 被引量:1
3
作者 叶春暖 汤乃云 +3 位作者 吴雪梅 诸葛兰剑 俞跃辉 姚伟国 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2002年第2期103-107,共5页
采用射频磁控溅射技术制备了Ge-SiO2薄膜,在N2气氛下进行了不同温度的退火处理,分析了样品在室温下的光致发光(PL)特性。为探讨其发光机制,对薄膜的结构进行了表征。XRD、XPS、FTIR谱分析说明样品的发光特性与其结构相对应,394nmPL由Ge... 采用射频磁控溅射技术制备了Ge-SiO2薄膜,在N2气氛下进行了不同温度的退火处理,分析了样品在室温下的光致发光(PL)特性。为探讨其发光机制,对薄膜的结构进行了表征。XRD、XPS、FTIR谱分析说明样品的发光特性与其结构相对应,394nmPL由GeO缺陷引起,580nmPL与Ge纳米晶粒和基质SiO2界面处的发光中心相联系。 展开更多
关键词 ge-sio2薄膜 磁控溅射 光致发光 结构
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Ge-SiO_2薄膜的XPS研究 被引量:1
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作者 叶春暖 汤乃云 +3 位作者 吴雪梅 诸葛兰剑 余跃辉 姚伟国 《微细加工技术》 2002年第1期36-39,共4页
采用射频磁控溅射技术制备了Ge SiO2 薄膜 ,在N2 气氛下进行 30 0℃到 1 0 0 0℃的退火处理 30分钟 ,对样品进行XPS分析 ,研究了在不同退火温度下薄膜样品的成分与化学状态 ,为进一步探讨薄膜的光致发光机理提供了依据。结合XRD谱图分... 采用射频磁控溅射技术制备了Ge SiO2 薄膜 ,在N2 气氛下进行 30 0℃到 1 0 0 0℃的退火处理 30分钟 ,对样品进行XPS分析 ,研究了在不同退火温度下薄膜样品的成分与化学状态 ,为进一步探讨薄膜的光致发光机理提供了依据。结合XRD谱图分析结果可发现 ,退火处理对纳米晶粒的形成与长大起着关键作用。随着退火温度的升高 ,样品中的Si向高价态转化 ,Ge则向低价态转化 ;GeO含量在 80 0℃退火样品中为最大 ,高于 80 展开更多
关键词 ge-sio2薄膜 溅射 XPS谱 退火
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纳米Ge-SiO_2薄膜对1342nm激光的被动调Q 被引量:2
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作者 王燕飞 王加贤 +1 位作者 张培 杨先才 《华侨大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2011年第4期385-388,共4页
采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅(Ge-SiO2)薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm.将纳米Ge-SiO2薄膜作为可饱和吸收体插入激... 采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅(Ge-SiO2)薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm.将纳米Ge-SiO2薄膜作为可饱和吸收体插入激光二极管泵浦的平-凹腔Nd∶YVO4激光器内,实现1 342 nm激光的被动调Q运转,获得脉冲宽度约为40 ns,重复频率为33.3 kHz的调Q脉冲序列输出.根据实验现象并结合薄膜结构,认为纳米Ge-SiO2薄膜的界面态和缺陷态是产生调Q的主要原因. 展开更多
关键词 激光技术 Nd∶YVO4激光器 纳米锗镶嵌二氧化硅薄膜 被动调Q 可饱和吸收体
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掺锗SiO_2玻璃的发光现象 被引量:2
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作者 冯玉英 顾晓天 +3 位作者 周家宏 姚杰 莫祥银 包建春 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第8期926-928,共3页
SiO2 glassy materials with Ge crystals embedded were formed by heating GeO2/SiO2 glass at 700 in the presence of hydrogen. GeO2/SiO2 glass was prepared with the sol-gel technique. The Ge/SiO2 samples show a special ph... SiO2 glassy materials with Ge crystals embedded were formed by heating GeO2/SiO2 glass at 700 in the presence of hydrogen. GeO2/SiO2 glass was prepared with the sol-gel technique. The Ge/SiO2 samples show a special photoluminescence property and exhibit strong luminescence at 392 nm(3.12 eV), secondary strong luminescence at 600 nm(2.05 eV) and weak luminescence at 770 nm(1.60 eV) when excited under 246 nm(5.01 eV) ultra-violet light at room temperature. The structure of this new luminescence material was studied with XRD, XPS, and TEM. The results show that the presence of nanometer sized(around 10 nm) Ge and GeO crystals in the SiO2 may cause the three-band photoluminescence. The GeO2/SiO2 glass without going through the reducing process only has GeO2 in the SiO2 glass, and does not show the photo-(luminescence). 展开更多
关键词 Ge/SiO2玻璃 Ge纳米晶粒 溶胶-凝胶 光致发光
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SiO_2/Si(111)表面Ge量子点的生长研究 被引量:3
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作者 王科范 盛斌 +3 位作者 刘金锋 徐彭寿 潘海滨 韦世强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期358-361,366,共5页
Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化... Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化学反应,并形成与Si(111)表面直接外延的Ge量子点。在650℃时,只有Ge的厚度达到0.5nm时,Ge量子点才开始形成。 展开更多
关键词 GE量子点 SIO2薄膜 SI(111) 原子力显微镜(AFM) 反射高能电子衍射(RHEED)
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Al^(3+)对Ge/Al-SiO_2薄膜光致发光的影响 被引量:1
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作者 陈虎 王加贤 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期32-35,共4页
采用磁控溅射及后退火技术制备了不同组份和不同退火温度的Ge、Al共掺SiO2薄膜。通过对样品的X射线光电子能谱(XPS)测试,确定了薄膜的成分和结构特征;同时还测试了样品的光致发光谱(PL谱),得到了峰值位于420 nm附近的紫光发射峰和峰值位... 采用磁控溅射及后退火技术制备了不同组份和不同退火温度的Ge、Al共掺SiO2薄膜。通过对样品的X射线光电子能谱(XPS)测试,确定了薄膜的成分和结构特征;同时还测试了样品的光致发光谱(PL谱),得到了峰值位于420 nm附近的紫光发射峰和峰值位于470 nm的蓝光发射峰。实验结果表明,Al的掺杂不仅可以显著地提高GeNOV中心和SiNOV中心的光发射效率,还可以促进GeNOV缺陷和SiNOV缺陷中心的形成,进而有利于薄膜的光致发光。 展开更多
关键词 光致发光 Ge/Al-SiO2薄膜 缺陷中心 磁控溅射
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退火温度对镶嵌于SiO_2膜中的Ge纳米晶结构的影响 被引量:1
9
作者 张佳雯 高斐 +4 位作者 晏春愉 孙杰 权乃承 刘伟 方晓玲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期143-147,共5页
采用磁控溅射及退火的方法制备了含Ge纳米晶的SiO2复合膜,应用拉曼散射和X射线衍射技术研究不同退火温度下的Ge纳米晶结构。结果表明:Ge纳米晶的结晶温度约为750℃。运用声子限域模型(RWL model)对样品的拉曼散射光谱进行拟合,确定出样... 采用磁控溅射及退火的方法制备了含Ge纳米晶的SiO2复合膜,应用拉曼散射和X射线衍射技术研究不同退火温度下的Ge纳米晶结构。结果表明:Ge纳米晶的结晶温度约为750℃。运用声子限域模型(RWL model)对样品的拉曼散射光谱进行拟合,确定出样品中Ge纳米晶的尺寸。通过XRD谱计算复合膜的内部压应力,得出由其引起的拉曼峰位的蓝移量,得出结论:压应力是造成拉曼模拟曲线与实验曲线峰位偏离的主要原因。 展开更多
关键词 Ge纳米晶 磁控溅射 退火 SIO2 声子限域模型
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Ge,Al共掺SiO_2薄膜的发光性能研究 被引量:1
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作者 陈虎 王加贤 张培 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期212-215,234,共5页
用射频磁控溅射法制备Ge,Al共掺SiO2复合薄膜并以不同温度进行退火,得到具有特定光致发光性质的复合材料。经600℃退火的薄膜样品在260 nm谱线激发下,主要有398和494 nm发光峰。通过对样品的X射线衍射谱和X射线光电子能谱的测试,确定了... 用射频磁控溅射法制备Ge,Al共掺SiO2复合薄膜并以不同温度进行退火,得到具有特定光致发光性质的复合材料。经600℃退火的薄膜样品在260 nm谱线激发下,主要有398和494 nm发光峰。通过对样品的X射线衍射谱和X射线光电子能谱的测试,确定了薄膜的结构特征,同时对观察到的光致发光从理论上做了重点分析,认为双重配位的Si孤对中心和GeO色心中的三重激发态到基态(T1→S0)之间的辐射跃迁分别是产生414和398 nm发光峰的主要原因。实验结果表明,Al的掺入可能在GeO2晶粒中引入了新缺陷能级,从而产生494 nm这一特殊的发光带,同时Al的掺入也提高了398 nm发光峰的发光效率。 展开更多
关键词 光致发光 Ge Al共掺SiO2复合薄膜 PL谱 缺陷中心 磁控溅射
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nc-Ge/SiO_2薄膜的光发射和光吸收研究
11
作者 张培 王加贤 +2 位作者 王燕飞 郭亨群 吴志军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1067-1070,共4页
采用射频磁控反应溅射技术和后退火法制备了nc-Ge/SiO2薄膜材料。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行测试,随着退火温度的升高,衍射峰的半高宽减小,表明Ge纳米晶粒的平均尺寸逐渐增大,发现经过1 000℃退火后的薄膜具有三个明显的... 采用射频磁控反应溅射技术和后退火法制备了nc-Ge/SiO2薄膜材料。采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行测试,随着退火温度的升高,衍射峰的半高宽减小,表明Ge纳米晶粒的平均尺寸逐渐增大,发现经过1 000℃退火后的薄膜具有三个明显的纳米锗衍射峰。薄膜的傅里叶红外吸收谱表明,随着退火温度的升高,薄膜的红外吸收增强。室温下,测量了不同温度退火下薄膜的光致发光谱,观察到了紫外光、紫光和橙色光。而且不同退火温度的薄膜,其光致发光谱有所不同,理论上着重讨论了紫光和橙光的发光机制。 展开更多
关键词 nc-Ge/SiO2薄膜 光吸收 发光机制 与氧相关的缺陷 射频磁控反应溅射技术
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Au/Ge/SiO_2/p-Si结构中的电流输运特性
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作者 陈彦 马书懿 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2006年第6期44-47,共4页
用射频磁控溅射双靶交替淀积的方法在p-Si(100)衬底上制备了Ge/SiO2薄膜,利用Au/Ge/SiO2/p-Si结构的I-V特性曲线研究了该结构的电流输运机制.分析表明,在较低的正向偏压和反向偏压下,电流输运机制分别为Schottky发射和欧姆输运电流;而... 用射频磁控溅射双靶交替淀积的方法在p-Si(100)衬底上制备了Ge/SiO2薄膜,利用Au/Ge/SiO2/p-Si结构的I-V特性曲线研究了该结构的电流输运机制.分析表明,在较低的正向偏压和反向偏压下,电流输运机制分别为Schottky发射和欧姆输运电流;而在较高的正向偏压下,Frenkel-Poole发射和空间电荷限制电流两种机制共同作用. 展开更多
关键词 Ge/SiO2薄膜 射频磁控溅射 电流输运
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温度对SiO_2表面上磁控溅射制备Ge纳米点的生长模式和尺寸的影响 被引量:2
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作者 夏中高 王茺 +2 位作者 鲁植全 李亮 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期961-965,共5页
采用磁控溅射技术在SiO2/Si(100)表面上制备了一系列不同生长温度的Ge纳米点样品。原子力显微镜(AFM)的实验结果表明:不同衬底温度下Ge纳米点在SiO2薄膜上的生长模式和尺寸分布有所不同。当衬底生长温度达到500℃时,SiO2开始与Ge原子发... 采用磁控溅射技术在SiO2/Si(100)表面上制备了一系列不同生长温度的Ge纳米点样品。原子力显微镜(AFM)的实验结果表明:不同衬底温度下Ge纳米点在SiO2薄膜上的生长模式和尺寸分布有所不同。当衬底生长温度达到500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化学反应,并形成"Ge纳米点的Si窗口"。在此温度条件下,外延生长实验可获得尺寸均匀且密度高达3.2×1010cm-2的Ge纳米点。 展开更多
关键词 磁控溅射 Ge纳米点 SIO2薄膜
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Ge/SiO_2和Ge/ZnO/SiO_2薄膜的磁控溅射制备及电学性能 被引量:1
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作者 余乐 刘劲松 +7 位作者 李子全 陈建康 何明霞 彭洁 曹安 刘建宁 蒋维娜 万龙 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期103-105,共3页
采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团... 采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团簇结构,并且加入ZnO中间层可以有效的改善Ge层的质量。同时,对所得薄膜材料的电流-电压性能进行了研究,结果发现,Ge/SiO2薄膜的I-V曲线拟合后为斜线,相当于电阻;ZnO/SiO2薄膜为直线,可以认为是绝缘体;Ge/ZnO/SiO2薄膜在-10~10V之间电流电压呈线性关系,其电阻比Ge/SiO2薄膜小,当电压值超过15V之后,电流急剧增加而迅速使薄膜击穿,薄膜导通。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 Ge/SiO2薄膜 Ge/ZnO/SiO2薄膜 电流-电压性能
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Density Functional Theory Study on the Structural and Electronic Properties of Ge(SiO_2)_n Clusters
15
作者 葛桂贤 闫红霞 +3 位作者 井群 周龙 曹海宾 张建军 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2011年第6期913-919,共7页
The geometry,stability,binding energy and electronic properties of(SiO2)n and Ge(SiO2)n clusters(n = 7) have been investigated by Density functional theory(DFT).The results show that the lowest energy structur... The geometry,stability,binding energy and electronic properties of(SiO2)n and Ge(SiO2)n clusters(n = 7) have been investigated by Density functional theory(DFT).The results show that the lowest energy structures of Ge(SiO2)n are obtained by adding one Ge on the end site of the O atom or the Si near end site of the O atom in(SiO2)n.The chemical activation of Ge-(SiO2)n is improved compared with(SiO2)n.The calculated second-order difference of energies and fragmentation energies show that the Ge(SiO2)n clusters with n = 2 or 5 are stable. 展开更多
关键词 (SiO2)n and Ge(SiO2)n clusters GEOMETRIES electronic properties PACC:3640 3640B
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Anisotropy and thickness effects on reflection coefficients and acoustic signatures of bulk and thin Ge and μ-Ge deposited on SiO2 substrates
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作者 Doghmane Abdellaziz Bouziane Nabil Hadjoub Zahia 《材料科学与工程(中英文版)》 2009年第8期8-14,共7页
关键词 各向异性 SIO2 签名 散装 厚度 系数和 声反射 基板
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纳米半导体复合薄膜的非线性光学性质及其在激光器中的应用 被引量:3
17
作者 王加贤 林正怀 +1 位作者 张培 吴志军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期20-25,共6页
采用射频磁控溅射技术制备了Ge掺二氧化硅(Ge-SiO2)和Ge,Al共掺二氧化硅(Ge/Al-SiO2)两种复合薄膜,并进行了热退火处理形成了纳米Ge镶嵌结构。通过紫外-可见吸收谱测量,确定了两种薄膜中纳米Ge的光学带隙,并采用皮秒激光Z-扫描技术研究... 采用射频磁控溅射技术制备了Ge掺二氧化硅(Ge-SiO2)和Ge,Al共掺二氧化硅(Ge/Al-SiO2)两种复合薄膜,并进行了热退火处理形成了纳米Ge镶嵌结构。通过紫外-可见吸收谱测量,确定了两种薄膜中纳米Ge的光学带隙,并采用皮秒激光Z-扫描技术研究了薄膜的非线性光学性质。测试结果显示,在1 064nm激发下得到的Ge-SiO2和Ge/Al-SiO2薄膜的非线性吸收系数分别为-1.23×10-7 m/V和4.35×10-8 m/W,前者为饱和吸收,而后者为双光子吸收。把两种薄膜作为可饱和吸收体均可实现1.06μm激光的被动调Q和被动锁模运转。与Ge-SiO2薄膜比较,采用Ge/Al-SiO2薄膜可以获得较窄的调Q脉冲和锁模脉冲。最后,理论分析和实验比较了两种薄膜实现被动调Q和锁模的机理。 展开更多
关键词 半导体复合薄膜 ge-sio2薄膜 Ge/Al-SiO2薄膜 非线性吸收 被动调Q 被动锁模
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锗 -二氧化硅复合薄膜的光电特性(英文)
18
作者 甘润今 《北京机械工业学院学报》 2000年第1期1-5,共5页
采用射频共溅射技术在石英玻璃和硅片衬底上制备出Ge SiO2 复合薄膜 ,然后在真空气氛中进行热处理。利拉曼散射、X射线衍射、UV/VIS/NIR透射和反射谱、变温电导测试等手段对薄膜的光、电特性进行了研究。实验结果表明 ,用热处理的方法... 采用射频共溅射技术在石英玻璃和硅片衬底上制备出Ge SiO2 复合薄膜 ,然后在真空气氛中进行热处理。利拉曼散射、X射线衍射、UV/VIS/NIR透射和反射谱、变温电导测试等手段对薄膜的光、电特性进行了研究。实验结果表明 ,用热处理的方法可以在薄膜中形成Ge纳米颗粒 ,Ge纳米颗粒的平均尺度约 5 .0nm时 ,薄膜的光学带宽约 1.42ev ,电导激活能的最小值约 0 .43ev。 展开更多
关键词 复合薄膜 光学带宽 电导激活解 ge-sio2
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锗/多孔硅和锗/氧化硅薄膜光致发光的比较研究 被引量:4
19
作者 孙小菁 马书懿 +1 位作者 魏晋军 徐小丽 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期2033-2037,共5页
采用磁控溅射技术,以锗为溅射靶,在多孔硅上沉积锗薄膜,沉积时间分别为4,8和12min,及以锗-二氧化硅复合靶为溅射靶,在n型硅衬底上沉积了含纳米锗颗粒的氧化硅薄膜,锗与总靶的面积比分别为5%,15%,30%。各样品在氮气氛中分别经过300,600及... 采用磁控溅射技术,以锗为溅射靶,在多孔硅上沉积锗薄膜,沉积时间分别为4,8和12min,及以锗-二氧化硅复合靶为溅射靶,在n型硅衬底上沉积了含纳米锗颗粒的氧化硅薄膜,锗与总靶的面积比分别为5%,15%,30%。各样品在氮气氛中分别经过300,600及900℃退火30min。对锗/多孔硅和锗/氧化硅薄膜进行了光致发光谱的对比研究,用红外吸收谱分析了锗/多孔硅的薄膜结构。实验结果显示,锗/多孔硅薄膜的发光峰位于517nm附近,沉积时间对发光峰的强度有显著影响,锗层越厚峰强越弱。锗/氧化硅薄膜的发光峰位于580nm附近,锗与总靶的面积比对发光峰的强度影响较大,锗/氧化硅薄膜中的锗含量越高峰强越弱。不同的退火温度对样品的发光峰强及峰位均没有明显影响。可以认为锗/多孔硅的发光峰是由多孔硅与孔间隙中的锗纳米晶粒两者界面的锗相关缺陷引起的,而锗/氧化硅的发光峰来自于二氧化硅的发光中心。 展开更多
关键词 锗/多孔硅 锗/氧化硅 光致发光 红外吸收
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纳米锗镶嵌二氧化硅薄膜的光学性质及其应用的研究 被引量:1
20
作者 林正怀 张培 王加贤 《量子光学学报》 CSCD 北大核心 2012年第4期377-381,共5页
采用射频磁控溅射技术与热退火处理制备了纳米锗镶嵌二氧化硅(nc-Ge/SiO2)复合薄膜。对薄膜的光吸收谱进行分析,得到了纳米Ge晶粒的光学带隙。单光束Z-扫描的实验结果表明薄膜具有较强的可饱和吸收特性。将薄膜作为可饱和吸收体插入LD... 采用射频磁控溅射技术与热退火处理制备了纳米锗镶嵌二氧化硅(nc-Ge/SiO2)复合薄膜。对薄膜的光吸收谱进行分析,得到了纳米Ge晶粒的光学带隙。单光束Z-扫描的实验结果表明薄膜具有较强的可饱和吸收特性。将薄膜作为可饱和吸收体插入LD端面抽运的Nd:YVO4激光器内,分别实现1 342nm和1 064nm激光的被动调Q,得到脉宽分别为29ns和22ns的脉冲序列。理论分析认为,纳米Ge晶粒形成的界面态和缺陷态对1 342nm激光产生的饱和吸收作用,是导致被动调Q的主要原因。 展开更多
关键词 nc-Ge SIO2薄膜 磁控溅射技术 非线性吸收 被动调Q
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