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GaInAsP/InP阶梯量子阱中电子-电子的散射率
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作者 王海龙 李正 +2 位作者 胡敏 李士玲 龚谦 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1408-1414,共7页
在有效质量近似下,利用打靶法和费米黄金定则计算出GaxIn1-xAsyP1-y/In P阶梯量子阱中两个及多个电子从第一激发态子带到基态子带的散射率及平均散射率。计算结果表明,电子-电子的散射率和平均散射率随Ga组分和阱宽的增大而升高,随As组... 在有效质量近似下,利用打靶法和费米黄金定则计算出GaxIn1-xAsyP1-y/In P阶梯量子阱中两个及多个电子从第一激发态子带到基态子带的散射率及平均散射率。计算结果表明,电子-电子的散射率和平均散射率随Ga组分和阱宽的增大而升高,随As组分的增大而降低。散射率随电子初态能和外加电场强度的增大而降低,平均散射率随载流子浓度的增大而升高。电子温度对平均散射率的影响不明显,平均散射率随着电子温度的升高而稍微降低。 展开更多
关键词 GaxIn1-xAsyP1-y/inp 阶梯量子阱 电子 费米黄金定则 散射率
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GaInAsP/InP跑道型环形谐振腔的制备及其性能测试 被引量:1
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作者 鲁德初 吕昊 《孝感学院学报》 2008年第3期31-34,共4页
采用等离子增强型化学汽相沉积和电子束刘蚀相结合方法制备了直径为1~20μm的GalnAsP/InP跑道型环形谐振腔,采用扫面电镜等方法对其进行了研究。结果表明;直径为4.5μm、跑道长度为5μm,直径为10.5μm、跑道长度为5μm和直径为19... 采用等离子增强型化学汽相沉积和电子束刘蚀相结合方法制备了直径为1~20μm的GalnAsP/InP跑道型环形谐振腔,采用扫面电镜等方法对其进行了研究。结果表明;直径为4.5μm、跑道长度为5μm,直径为10.5μm、跑道长度为5μm和直径为19.5μm、跑道长度为3μm的环形谐振腔的自由频谱范围分别为28nm、16nm和9.5nm;随着环形直径的增加,其自由频谱范围减小;在相同的直径下,随着跑道的长度增加,自由频谱范围减小。 展开更多
关键词 GalnAsP/inp环形谐振腔 自由频谱范围 跑道长度
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基于GaInAsP/InP材料的串联微环车比雪夫滤波器
3
作者 董姗姗 齐雪 曹浩 《蚌埠学院学报》 2022年第5期49-53,共5页
采用3 dB耦合器将微环谐振器相互耦合,设计出一种新型的串联微环车比雪夫滤波器。与传统串联、并联微环滤波器结构相比,在相邻两个微环间设置了一个耦合角度,从而控制光信号在微环谐振器中的增益,通过调节环间耦合器的耦合系数,设计出... 采用3 dB耦合器将微环谐振器相互耦合,设计出一种新型的串联微环车比雪夫滤波器。与传统串联、并联微环滤波器结构相比,在相邻两个微环间设置了一个耦合角度,从而控制光信号在微环谐振器中的增益,通过调节环间耦合器的耦合系数,设计出一种输出光谱顶部平坦的微环滤波器。采用GaInAsP/InP材料设计微环,能够很好地利用该材料在1.55μm处低色散的特点。数值模拟表明:耦合系数的偏差率越大,通带的平坦性越差;环间耦合系数增大,通带的带宽加宽;微环与直波导间耦合系数的增大,通带由三个尖锐的谐振峰逐渐过渡为单一的谐振峰。 展开更多
关键词 集成光学 微环谐振器 gainasp/inp 光学滤波器
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用GSMBE法生长匹配型GaInAsP/InP材料及量子阱、面发射激光器结构的研究 被引量:2
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作者 林世鸣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第5期339-343,共5页
本文报道通过在位组分调整,配合X射线双晶衍射测试和光致发光测试,生长了与InP精确匹配的GaInAsP(失配度达4×10-4).生长了GaInAs/InP量子阶结构的光致发光半峰宽达5.72meV.实验表明源炉挡... 本文报道通过在位组分调整,配合X射线双晶衍射测试和光致发光测试,生长了与InP精确匹配的GaInAsP(失配度达4×10-4).生长了GaInAs/InP量子阶结构的光致发光半峰宽达5.72meV.实验表明源炉挡板开启后生长速率是不均匀的,这对生长量子阶和DBR结构是个值得注意的问题,经考虑生长速率变化后生长的面发射激光器结构样片的反射率谱与理论计算的结果很好地相符. 展开更多
关键词 gainasp/inp 磷化铟 GSMBE法 生长 激光器 量子阱
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Broadband Telecom Single-Photon Emissions from InAs/InP Quantum Dots Grown by MOVPE Droplet Epitaxy
5
作者 Shichen Zhang Li Liu +6 位作者 Kai Guo Xingli Mu Yuanfei Gao Junqi Liu Fengqi Liu Quanyong Lu Zhiliang Yuan 《Chinese Physics Letters》 2026年第1期37-43,共7页
The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon ... The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon sources in the near-infrared band(λ∼700–1000 nm),several challenges have yet to be addressed for ideal single-photon emission at the telecommunication band.In this study,we present a droplet-epitaxy strategy for O-band to C-band single-photon source-based semiconductor quantum dots(QDs)using metal-organic vaporphase epitaxy(MOVPE).By investigating the growth conditions of the epitaxial process,we have successfully synthesized InAs/InP QDs with narrow emission lines spanning a broad spectral range of λ∼1200–1600 nm.The morphological and optical properties of the samples were characterized using atomic force microscopy and microphotoluminescence spectroscopy.The recorded single-photon purity of a plain QD structure reaches g^((2))(0)=0.16,with a radiative recombination lifetime as short as 1.5 ns.This work provides a crucial platform for future research on integrated microcavity enhancement techniques and coupled QDs with other quantum photonics in the telecom bands,offering significant prospects for quantum network applications. 展开更多
关键词 development quantum materials broadband telecom single photon emissions MOVPE droplet epitaxy InAs inp quantum dots microcavity enhancement quantum dots qds using information technologyalthough
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MOCVD生长InP/GaInAsP DBR结构及相关材料特性 被引量:2
6
作者 蒋红 金亿鑫 +2 位作者 缪国庆 宋航 元光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期632-636,共5页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等测量手段对材料的物理特性进行了表征。结果表明,在InP衬底上生长的InP外延层和四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层77K光致发光(PL)谱线半峰全宽(FWHM)分别为9.3meV和32meV,说明形成DBRs结构的交替层均具有良好的光学质量。X射线衍射测量结果表明,四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层与InP衬底之间的相对晶格失配仅为1×10-3。GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的DBR结构每层膜的光学厚度约为λ/4n(λ=1.55/μm)。根据多层膜增反原理计算得出当膜的周期数为23时,反射率可达90%。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 MOCVD 半导体材料 磷化铟 磷砷铟镓 布喇格反射镜 X射线衍射 扫描电子显微镜 低温光致发光光谱 反射率 周期数
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在n—InP(100)衬底上低温液相外延生长1.55μm GaInAsP双异质结构层的研究
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作者 邢启江 王舒民 +2 位作者 陈娓兮 章蓓 王若鹏 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1990年第4期324-328,332,共6页
在590℃温度下,不使用1.3μm GaInAsP 防回熔层,直接在 n-InP(100)衬底上液相外延生长出1.55μm InP/GaInAsP/InP 双异质结构外延片。对这种外延片的生长情况及其特性和 InP 衬底的热损伤情况,本文作了详细的分析和讨论。
关键词 gainasp 异质结构 液相外延 n-inp
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InP衬底上制备GaInAsP/GaInAs双结太阳电池的研究
8
作者 张恒 刘如彬 +1 位作者 张启明 孙强 《电源技术》 CAS 北大核心 2024年第7期1375-1379,共5页
基于InP衬底的GaInAsP/GaInAs太阳电池是制备五至六结叠层太阳电池必需的低带隙子电池。采用MOCVD制备了与InP衬底晶格匹配的Ga_(0.47)In_(0.53)As三元材料和Ga_(0.16)In_(0.84)As_(0.3)P_(0.7)四元材料,禁带宽度分别为0.77和1.11 eV,... 基于InP衬底的GaInAsP/GaInAs太阳电池是制备五至六结叠层太阳电池必需的低带隙子电池。采用MOCVD制备了与InP衬底晶格匹配的Ga_(0.47)In_(0.53)As三元材料和Ga_(0.16)In_(0.84)As_(0.3)P_(0.7)四元材料,禁带宽度分别为0.77和1.11 eV,它们都具有较高的晶体质量。以此为有源层制备了GaInAsP/GaInAs双结叠层太阳电池,该双结太阳电池的开路电压为1.09V,光电转换效率为11.2%(AM0,25℃)。 展开更多
关键词 inp gainasp GAINAS 太阳电池 MOCVD
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超薄溶液LPE技术生长GaInAsP/InP超晶格的理论与实验
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作者 李洵 陈根祥 简水生 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期70-77,共8页
本文由有限厚度溶液及自由表面浓度和恒定表面浓度二种模型出发对LPE生长动力学过程进行了理论分析,并导出了实现薄层生长的参数控制条件,根据这一条件用LPE技术实际生长了GaInAsP/InP超晶格,570℃下用突冷法及... 本文由有限厚度溶液及自由表面浓度和恒定表面浓度二种模型出发对LPE生长动力学过程进行了理论分析,并导出了实现薄层生长的参数控制条件,根据这一条件用LPE技术实际生长了GaInAsP/InP超晶格,570℃下用突冷法及被压缩到200μm~500μm的薄层溶液在0.2s的驻留时间内分别重复长出了5nm(Ga0.40In0.60As0.89P0.11)和10nm(InP)的超晶格,证明了用重复推拉舟的LPE系统在一定的参数条件下可以生长MQW结构. 展开更多
关键词 液相外延 量子阱 超晶格 gainasp inp
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基于InP折射率变化的辐射图像探测技术原理验证
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作者 涂艳云 马继明 +11 位作者 宋岩 张健 徐青 孙铁平 彭博栋 韩长材 李阳 郭泉 张骞 高可庆 李郎郎 刘振 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第10期39-45,共7页
为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 n... 为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 nm激光脉冲激发下的干涉条纹变化图像。基于泵浦-探测技术测得掺铁InP晶体在532 nm泵浦激光下的时间响应为1.5 ns。通过在泵浦激光光路中放置分辨率板测量空间分辨率,重构结果表明,系统的空间分辨率可达1 lp/mm。实验结果表明,基于InP折射率变化的超快图像探测技术初步验证可行,该系统有望用于发展具有高时间与高空间分辨能力的脉冲射线探测技术。 展开更多
关键词 掺铁inp晶体 迈克尔逊干涉 辐射探测技术 泵浦-探测
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基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550 nm激光能量 转换器
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作者 张宗坤 孙艳 +1 位作者 郝加明 戴宁 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第4期477-485,共9页
本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。... 本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。实验结果与理论结果相一致,器件外量子效率(External Quantum Efficiency,EQE)达92%。在47mW/cm^(2)的激光功率密度下,电池的光电转换效率达到了23%。理论分析揭示该实验结果低于理论预测值的主要原因是样品器件具有较高的串联电阻和较低的并联电阻,为提高激光光伏电池效率,还需进一步优化器件工艺,以降低器件相关电阻阻值。此外,本文还深入探讨了器件区面积对器件光伏性能的影响,为激光光伏电池的微型化提供了优化方向。 展开更多
关键词 激光能量转换器 inp/In_(0.53)Ga_(0.47)As 双层减反射结构 无线能量传输
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引入寄生耦合效应的InP HEMT高频等效噪声电路建模
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作者 李永智 张晖 武志翔 《云南大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第6期1050-1058,共9页
针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应... 针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应的小信号等效电路模型与高频等效噪声电路模型.首先引入栅极–漏极之间的互感元件来模拟器件在高频下由于电磁相互作用产生的寄生耦合效应,并采用电磁仿真与直接参数提取相结合的建模方法,建立小信号等效电路模型.然后以所建小信号模型为基础,通过相关噪声矩阵与噪声参数的提取方法,建立高频等效噪声电路模型.实验结果表明,在500 MHz~50 GHz频段内,S参数最大误差小于3%,四噪声参数相较于传统模型提升约2.45%,并从小信号电流增益(|h21|)、单边功率增益(U)与最小噪声系数(Fmin)出发,评估了寄生耦合效应对高频性能的影响. 展开更多
关键词 inp HEMT 小信号模型 寄生耦合 电磁仿真 噪声模型
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小麦花粉孔发育相关TaINP1基因鉴定及表达分析
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作者 马蓓 公杰 +6 位作者 杜银柯 甘雨薇 程蓉 朱波 易丽霞 马锦绣 高世庆 《中国农业科技导报(中英文)》 北大核心 2025年第4期22-35,共14页
花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,... 花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,系统分析了其理化性质、启动子顺式作用元件、基因间的共线性关系。组织表达分析表明,TaINP2.2、TaINP2.5等基因在小麦穗部显著高表达;TaINP2.5、TaINP3.2等基因经低温(10℃)处理后在花粉中高表达。结合花粉萌发及纳米磁珠转化技术,将RFP报告基因成功导入小麦花粉中,并利用激光共聚焦显微镜观测不同低温处理花粉的荧光强度,证实TaINP1基因在调控花粉孔开闭中起重要作用。以上研究结果为小麦花粉孔发育的调控机理奠定了基础,也为优化小麦花粉纳米磁珠高效转化体系提供了参考,为小麦分子育种遗传改良开辟了新途径。 展开更多
关键词 小麦 花粉孔发育 inp1基因家族 表达模式 低温
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InP基HEMT单粒子瞬态效应研究
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作者 孙树祥 李浩宇 张鑫 《微电子学》 北大核心 2025年第1期21-26,共6页
InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT... InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT单粒子瞬态效应的影响。结果表明,不同入射位置对峰值漏电流和漏极收集电荷有不同的影响,在栅极处,峰值漏电流和收集电荷最大,因此栅极为器件单粒子效应的最敏感位置;随着入射角度,在缓冲层产生空穴越多,使栅下势垒降低得越多,从而导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度增加;随着温度的增加,沟道中电子迁移率减小,导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度降低。温度和粒子入射角度耦合作用时,温度对小角度入射产生的漏瞬态电流峰值的影响较大。该工作可为InP基HEMT抗单粒子效应加固设计提供理论依据和指导。 展开更多
关键词 inp基HEMT 单粒子瞬态 入射角度 温度
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InP量子点发光材料:从合成到器件应用的研究进展(特邀)
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作者 汪瑶 翁其新 +4 位作者 时应章 王志文 宋玉洁 孙小卫 张文达 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第7期39-53,共15页
量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而... 量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而受到广泛关注,其发光光谱覆盖整个可见光区域,光致发光量子产率(PLQY)、光电性能上与镉基量子点相当。然而,InP量子点在前驱体材料、生长机制、核壳晶格匹配性等方面与镉基量子点相比存在显著差异,这些差异在一定程度上影响了其光学性能,从而制约了在显示器件中的应用。综述了InP量子点材料及其量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes,QLED)的发展现状。首先,系统地介绍了InP量子点的基本特性,重点从色纯度提升和缺陷态消除等角度深入探讨了其光学性能的优化与改进。随后,详细分析了量子点结构设计(电荷传输层和界面工程)对InP QLED器件性能的影响,并综述了近年来InP QLED的研究进展及其在相关领域的应用成果。最后,概述了InP量子点体系的发展以及面临的主要挑战,并提出了对InP量子点体系未来发展的期望,旨在为InP量子点体系的进一步研究和应用提供启示与方向。 展开更多
关键词 inp量子点 色纯度 发光二极管 显示器件
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InP基多结激光电池中隧道结研究
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作者 付建鑫 孙玉润 +1 位作者 于淑珍 董建荣 《微纳电子技术》 2025年第10期34-39,共6页
激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/... 激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/InP两种隧道结的LPC,并研究了不同入射光功率和温度条件下LPC的I-V特性。研究结果表明,当局部光生电流密度超过隧道结峰值隧穿电流密度时,InGaAs/InP隧道结的限流效应会导致I-V特性曲线中出现尖峰现象,进而导致器件的填充因子下降16%,光电转换效率降低约6%。此外,InAlAs/InP隧道结引入了较高的串联损耗,导致器件最大功率点输出电压低于2 V,填充因子较低(40%)。 展开更多
关键词 激光电池(LPC) 隧道结 I-V特性 多结 inp INALAS
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Correlation between the whole small recess offset and electrical performance of InP-based HEMTs
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作者 GONG Hang ZHOU Fu-Gui +5 位作者 FENG Rui-Ze FENG Zhi-Yu LIU Tong SHI Jing-Yuan SU Yong-Bo JIN Zhi 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期40-45,共6页
In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate proces... In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate process.We focus on their DC and RF responses,including the maximum transconductance(g_(m_max)),ON-resistance(R_(ON)),current-gain cutoff frequency(f_(T)),and maximum oscillation frequency(f_(max)).The devices have almost same RON.The g_(m_max) improves as the whole small recess moves toward the source.However,a small gate to source capacitance(C_(gs))and a small drain output conductance(g_(ds))lead to the largest f_(T),although the whole small gate recess moves toward the drain leads to the smaller g_(m_max).According to the small-signal modeling,the device with the whole small recess toward drain exhibits an excellent RF characteristics,such as f_(T)=372 GHz and f_(max)=394 GHz.This result is achieved by paying attention to adjust resistive and capacitive parasitics,which play a key role in high-frequency response. 展开更多
关键词 inp high-electron-mobility transistor(inp HEMT) INGAAS/INALAS DC/RF characteristic smallsignal modeling double-recessed gate process
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InP/InGaAs/InP红外光电阴极时间响应特性的模拟研究 被引量:7
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作者 孙巧霞 徐向晏 +6 位作者 安迎波 曹希斌 刘虎林 田进寿 董改云 郭晖 李燕红 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3163-3167,共5页
文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而... 文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而加快;随光吸收层厚度的增大而减慢;随光吸收层掺杂浓度的增大,光电阴极的响应速度变慢。发射层厚度及掺杂浓度的增大都会使得阴极的响应时间加长。经过对阴极结构参数和掺杂浓度的优化,得到在吸收层和发射层厚度分别为2μm、0.5μm,掺杂浓度分别为1.5×1015 cm-3、1.0×1016 cm-3时,在适当场助偏压下光电阴极的响应时间可优于100 ps。 展开更多
关键词 红外光电阴极 inp IN0 53GA0 47As inp 时间响应特性
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有效跨导为1052mS/mm的高性能InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.53)Ga_(0.47)As HEMTs(英文) 被引量:5
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作者 钟英辉 王显泰 +4 位作者 苏永波 曹玉雄 张玉明 刘新宇 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期193-197,288,共6页
成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为... 成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为0.032Ω.mm,器件欧姆接触电阻率为1.03×10-7Ω.cm-2.正是良好的欧姆接触及其短的源漏间距减小了源电阻,进而使得有效跨导比较大.器件有比较好的射频特性.从100 MHz到40 GHz,S参数外推出来的fT和fmax分别为151 GHz和303 GHz.所报道的HEMT器件非常适合毫米波段集成电路的研制. 展开更多
关键词 高电子迁移率器件 栅长 栅槽 inp INALAS INGAAS
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InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度影响研究 被引量:3
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作者 杨集 冯士维 +3 位作者 李瑛 吕长志 谢雪松 张小玲 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期141-144,共4页
InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使InP层对InGaAs/InPPIN探测器的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背... InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使InP层对InGaAs/InPPIN探测器的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度的影响。结果表明,随着InP层厚度的增加,响应度峰与峰的间隔Δλ不断减小,波形越来越密集。所以正面入光探测器的响应度起伏比较明显,且随着InP层厚度的增加,响应度极值对应的波长发生红移。背面入光探测器的响应度非常密集而成为准连续的带状。 展开更多
关键词 INGAAS/inp PIN探测器 响应度 inp盖层
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