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InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管技术发展现状(Ⅱ) 被引量:1
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作者 齐志华 李献杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第9期821-827,共7页
关键词 gaassb/inp 双异质结双极晶体管 技术发展现状 欧姆接触电极 INGAAS 化学腐蚀工艺 Pt/Ti 制作工艺
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InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管技术发展现状(Ⅰ)
2
作者 齐志华 李献杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期721-725,共5页
InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)以其独特的交错Ⅱ型能带结构,在频率特性、击穿特性和热特性等方面较传统的InP/InGaAsSHBT与InP/InGaAs/InPDHBT等显示出极大的优越性。对InP/GaAsSb/InPⅡ型DHBT技术的提出、外延层结构设计与... InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)以其独特的交错Ⅱ型能带结构,在频率特性、击穿特性和热特性等方面较传统的InP/InGaAsSHBT与InP/InGaAs/InPDHBT等显示出极大的优越性。对InP/GaAsSb/InPⅡ型DHBT技术的提出、外延层结构设计与生长、器件结构设计、器件制造工艺与优化以及国内外发展情况研究水平、发展趋势和商业化情况进行了系统的回顾和展望。指出结合垂直方向材料结构优化缩小器件尺寸和采用微空气桥隔离基极电极结构是InP/GaAsSb/InPDHBT向THz截止频率发展的最重要的技术路线。 展开更多
关键词 gaassb/inp 双异质结双极晶体管 单异质结双极晶体管 Ⅱ型双异质结双极晶体管 微空气桥
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晶格失配对GaAsSb/InP异质结中合金拉曼散射的温度依赖特性的影响
3
作者 储媛媛 刘莹妹 +3 位作者 李生娟 徐志成 陈建新 王兴军 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期791-797,共7页
通过在3~300 K的低温变温拉曼光谱的测量,对不同Sb组分的GaAsSb/InP异质结中的由Sb组分引起的声子非谐效应进行了拉曼散射的研究。实验发现,随着温度的降低,长光学声子峰位向高波数移动,当温度低于100 K时,变化趋于平缓。分别利用三声... 通过在3~300 K的低温变温拉曼光谱的测量,对不同Sb组分的GaAsSb/InP异质结中的由Sb组分引起的声子非谐效应进行了拉曼散射的研究。实验发现,随着温度的降低,长光学声子峰位向高波数移动,当温度低于100 K时,变化趋于平缓。分别利用三声子模型和四声子模型计算模拟了光学声子和温度的依赖关系,并和实验结果对比发现,与三声子模型相比,四声子模型与实验数据符合更好,表明温度依赖的拉曼散射峰位的变化必须考虑四次声子非谐振动。相对于晶格失配的样品S1(Sb=37.9%)和S3(Sb=56.2%),获得的声子非谐度在晶格匹配的样品S2(Sb=47.7%)中是最小的,同时通过对声子线宽的研究表明S2中声子寿命是最长的。结合低温光致发光的实验结果,证实了GaAsSb合金晶格振动的声子非谐效应和声子寿命不仅受合金无序散射的影响,同时受到和衬底晶格失配引入的线缺陷和缺陷的声子散射影响。 展开更多
关键词 gaassb/inp异质结 非谐效应 声子寿命 四声子模型
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InP/InGaP/GaAsSb/InGaAsSb/InP双异质结双极晶体管设计 被引量:2
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作者 刘涛 刘燚 王冯涛 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第3期184-190,219,共8页
应用半导体器件的电阻电容计算理论和SILVACO ATLAS软件,在综合考虑载流子渡越时间和电阻电容延迟时间对增益截止频率的影响下设计了一种InP/InGaP/GaAsSb/InGaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)结构。该结构中在基区与发射区之间加入P... 应用半导体器件的电阻电容计算理论和SILVACO ATLAS软件,在综合考虑载流子渡越时间和电阻电容延迟时间对增益截止频率的影响下设计了一种InP/InGaP/GaAsSb/InGaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)结构。该结构中在基区与发射区之间加入P型半导体层以降低基区与发射区之间的电子势垒,并通过引入梯度渐变材料及优化掺杂分布提高基区电场、增强集电区中易趋近于零区域的电场,器件的电流增益截止频率得到显著提升。此外,还列出了InGaP和InGaAsSb材料的禁带宽度和电子亲合势、P型GaAs_(0.51)Sb_(0.49)和InGaAsSb材料的电子迁移率的近似计算公式。 展开更多
关键词 双异质结双极晶体管(DHBT) inp/InGaP/gaassb/Ingaassb/inp 渐变材料 梯度掺杂
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基于InP衬底的GaAsSb/InP异质结晶体管
5
作者 徐现刚 刘喆 崔得良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期962-965,共4页
采用金属有机化学气相沉积生长了 In P/ Ga As0 .5Sb0 .5/ In P双异质结晶体三极管 (DHBT)材料 ,研究了材料质量对器件性能的影响 .制备的器件不但具有非常好的直流特性 ,而且还表现出良好的微波特性 ,其结果与能带理论的预言一致 ,DHB... 采用金属有机化学气相沉积生长了 In P/ Ga As0 .5Sb0 .5/ In P双异质结晶体三极管 (DHBT)材料 ,研究了材料质量对器件性能的影响 .制备的器件不但具有非常好的直流特性 ,而且还表现出良好的微波特性 ,其结果与能带理论的预言一致 ,DHBT集电结和发射结的电流理想因子分别为 1.0 0和 1.0 6 ,击穿电压高达 15 V,电流放大增益截止频率超过 10 0 展开更多
关键词 gaassb inp MOCVD 双异质结晶体三极管 DHBT
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发射区底切对倒置结构InP/GaAsSb/InP DHBT性能的影响 被引量:1
6
作者 顾磊 熊德平 +1 位作者 周守利 彭银生 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期913-917,共5页
基于考虑载流子弹道输运等非局域传输瞬态效应的流体动力学模型,数值模拟计算了集电区在上面发射区在下面的倒置InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)器件的直流输出特性和高频性能。计算结果表明:由于集电区台面面积小,集电区在上... 基于考虑载流子弹道输运等非局域传输瞬态效应的流体动力学模型,数值模拟计算了集电区在上面发射区在下面的倒置InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)器件的直流输出特性和高频性能。计算结果表明:由于集电区台面面积小,集电区在上的倒置InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管有较高的高频性能;对于发射区在下面与基区接触面积大导致较多的基区载流子复合而使器件的增益偏低问题,可以考虑掩埋侧边腐蚀工艺底切发射区的技术来减少发射区和基区的接触面积,从而减少复合改善器件的增益特性。 展开更多
关键词 inp/gaassb 倒置DHBT 流体动力学模型 底切发射区 电流阻塞效应
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基区As组分缓变对InP/InGaP/GaAsSb/InP DHBT热电性能的影响
7
作者 周星宝 周守利 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期119-123,共5页
基于非等温能量平衡传输模型,利用SILVACO/ATLAS数值计算软件,研究了四种不同基区As组分的缓变对InP/InGaP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)热电特性的影响。结果表明,As组分缓变的引入改善了器件的直流增益和特征频率,但同时器件... 基于非等温能量平衡传输模型,利用SILVACO/ATLAS数值计算软件,研究了四种不同基区As组分的缓变对InP/InGaP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)热电特性的影响。结果表明,As组分缓变的引入改善了器件的直流增益和特征频率,但同时器件内部温度也随之升高。直流增益和温度增加的速率随As组分缓变范围增大而增大,特征频率增加的速率随As组分缓变范围的增加而迅速减小。基区As组分为0.57至0.45由发射区侧到集电区侧线性分布的器件具有较高的增益和特征频率及较低的器件内部温度,增益、特征频率与器件内部温度得到了优化。 展开更多
关键词 inp INGAP gaassb inp 双异质结双极晶体管(DHBT) 缓变发射结 缓变基区 热电特性
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Broadband Telecom Single-Photon Emissions from InAs/InP Quantum Dots Grown by MOVPE Droplet Epitaxy
8
作者 Shichen Zhang Li Liu +6 位作者 Kai Guo Xingli Mu Yuanfei Gao Junqi Liu Fengqi Liu Quanyong Lu Zhiliang Yuan 《Chinese Physics Letters》 2026年第1期37-43,共7页
The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon ... The development of quantum materials for single-photon emission is crucial for the advancement of quantum information technology.Although significant advancements have been witnessed in recent years for single-photon sources in the near-infrared band(λ∼700–1000 nm),several challenges have yet to be addressed for ideal single-photon emission at the telecommunication band.In this study,we present a droplet-epitaxy strategy for O-band to C-band single-photon source-based semiconductor quantum dots(QDs)using metal-organic vaporphase epitaxy(MOVPE).By investigating the growth conditions of the epitaxial process,we have successfully synthesized InAs/InP QDs with narrow emission lines spanning a broad spectral range of λ∼1200–1600 nm.The morphological and optical properties of the samples were characterized using atomic force microscopy and microphotoluminescence spectroscopy.The recorded single-photon purity of a plain QD structure reaches g^((2))(0)=0.16,with a radiative recombination lifetime as short as 1.5 ns.This work provides a crucial platform for future research on integrated microcavity enhancement techniques and coupled QDs with other quantum photonics in the telecom bands,offering significant prospects for quantum network applications. 展开更多
关键词 development quantum materials broadband telecom single photon emissions MOVPE droplet epitaxy InAs inp quantum dots microcavity enhancement quantum dots qds using information technologyalthough
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GaAsSb/InP异质结晶体三极管 被引量:4
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作者 和作现刚 Watkins,SP 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期117-117,共1页
当x~0.5时,GaAs1-xSbx的晶格与InP衬底匹配,其带隙为0.72 eV,可用于InP衬底上的异质结晶体三极管的基区材料。最近的实验结果表明GaAs0.5Sb0.5/InP的能带为Ⅱ型异质结构:GaAs0.5Sb0.5的导带位于InP导带之上180 meV,其价... 当x~0.5时,GaAs1-xSbx的晶格与InP衬底匹配,其带隙为0.72 eV,可用于InP衬底上的异质结晶体三极管的基区材料。最近的实验结果表明GaAs0.5Sb0.5/InP的能带为Ⅱ型异质结构:GaAs0.5Sb0.5的导带位于InP导带之上180 meV,其价带位于InP价带之上760 meV,该价带偏置几乎是InGaAs/InP(378 meV)的两倍,这种大的价带偏置有效地阻止了空穴重注入到发射区,并且更重要的是其导带偏置使得电子以弹道方式从GaAs0.5Sb0.5基区发射到InP集电区。因此,从能带工程的角度分析,GaAs0.5Sb0.5是制作基于InP衬底的异质结晶体管(HBT)的理想基区材料。本文简要报道采用金属有机气相外延(MOVPE)生长GaAsSb/InP HBT器件材料。 展开更多
关键词 gaassb/inp 异质结 晶体三极管
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高压下GaAsSb纳米线室温光致发光特性研究 被引量:1
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作者 殷雪彤 廖敦渊 +2 位作者 潘东 王鹏 刘冰冰 《物理学报》 北大核心 2025年第6期256-263,共8页
三元砷锑化镓(GaAsSb)纳米线具有直接带隙电子结构,通过调节锑含量可实现其近红外波段发光波长在870—1700 nm范围内的超宽带调谐,在近红外微纳光学器件方面具有十分重要应用前景.但由于高密度表面态的存在,砷锑化镓纳米线室温发光效率... 三元砷锑化镓(GaAsSb)纳米线具有直接带隙电子结构,通过调节锑含量可实现其近红外波段发光波长在870—1700 nm范围内的超宽带调谐,在近红外微纳光学器件方面具有十分重要应用前景.但由于高密度表面态的存在,砷锑化镓纳米线室温发光效率低、难以观测,这导致其光学性质研究主要集中在低温条件下,严重阻碍了其室温条件下的光学性质的调控研究及器件化应用.本文利用高压策略结合荧光光谱与拉曼光谱技术,在室温条件下进行砷锑化镓纳米线光学性质的调控研究.研究表明,通过压力的施加,在0-2.8 GPa的压力范围内,砷锑化镓纳米线的室温荧光获得显著增强,并且发光波长可以通过压力实现原位调控.同时,砷锑化镓纳米线的发光性质与激发光波长相关,相对于473 nm激发光波长,514 nm和633 nm波长对应的发光效率更高.高压原位拉曼光谱研究表明,短波长473 nm激光辐照砷锑化镓纳米线可以产生显著的光热效应,抑制光发射,而高压策略可以有效降低光热效应对于砷锑化镓纳米线光学性质的影响. 展开更多
关键词 砷锑化镓 纳米线 高压 室温发光
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基于InP折射率变化的辐射图像探测技术原理验证
11
作者 涂艳云 马继明 +11 位作者 宋岩 张健 徐青 孙铁平 彭博栋 韩长材 李阳 郭泉 张骞 高可庆 李郎郎 刘振 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第10期39-45,共7页
为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 n... 为了验证基于磷化铟(InP)晶体折射率变化的辐射图像探测技术对脉冲射线探测的有效性,开展了原理验证实验。搭建了基于迈克尔逊干涉仪的辐射图像探测系统,采用350μm厚的掺铁InP晶体作为辐射转换晶体。利用该系统成功获取了该晶体在532 nm激光脉冲激发下的干涉条纹变化图像。基于泵浦-探测技术测得掺铁InP晶体在532 nm泵浦激光下的时间响应为1.5 ns。通过在泵浦激光光路中放置分辨率板测量空间分辨率,重构结果表明,系统的空间分辨率可达1 lp/mm。实验结果表明,基于InP折射率变化的超快图像探测技术初步验证可行,该系统有望用于发展具有高时间与高空间分辨能力的脉冲射线探测技术。 展开更多
关键词 掺铁inp晶体 迈克尔逊干涉 辐射探测技术 泵浦-探测
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基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550 nm激光能量 转换器
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作者 张宗坤 孙艳 +1 位作者 郝加明 戴宁 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第4期477-485,共9页
本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。... 本文报道了基于InP/In_(0.53)Ga_(0.47)As材料体系的1550nm波长激光能量转换器的设计、仿真和实验验证。通过优化吸收层厚度及采用双层减反射结构(SiO_(2)和SiN),器件光吸收率高达96%,并具有良好的角度变化不敏感性和波长变化鲁棒性。实验结果与理论结果相一致,器件外量子效率(External Quantum Efficiency,EQE)达92%。在47mW/cm^(2)的激光功率密度下,电池的光电转换效率达到了23%。理论分析揭示该实验结果低于理论预测值的主要原因是样品器件具有较高的串联电阻和较低的并联电阻,为提高激光光伏电池效率,还需进一步优化器件工艺,以降低器件相关电阻阻值。此外,本文还深入探讨了器件区面积对器件光伏性能的影响,为激光光伏电池的微型化提供了优化方向。 展开更多
关键词 激光能量转换器 inp/In_(0.53)Ga_(0.47)As 双层减反射结构 无线能量传输
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引入寄生耦合效应的InP HEMT高频等效噪声电路建模
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作者 李永智 张晖 武志翔 《云南大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第6期1050-1058,共9页
针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应... 针对传统模型因缺少对电磁相互作用的表征而导致高频精度不足的问题,以具有优异高频特性的磷化铟高电子迁移率场效应晶体管(indium phosphide high electron mobility field-effect transistor,InP HEMT)为例,提出一种引入寄生耦合效应的小信号等效电路模型与高频等效噪声电路模型.首先引入栅极–漏极之间的互感元件来模拟器件在高频下由于电磁相互作用产生的寄生耦合效应,并采用电磁仿真与直接参数提取相结合的建模方法,建立小信号等效电路模型.然后以所建小信号模型为基础,通过相关噪声矩阵与噪声参数的提取方法,建立高频等效噪声电路模型.实验结果表明,在500 MHz~50 GHz频段内,S参数最大误差小于3%,四噪声参数相较于传统模型提升约2.45%,并从小信号电流增益(|h21|)、单边功率增益(U)与最小噪声系数(Fmin)出发,评估了寄生耦合效应对高频性能的影响. 展开更多
关键词 inp HEMT 小信号模型 寄生耦合 电磁仿真 噪声模型
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小麦花粉孔发育相关TaINP1基因鉴定及表达分析
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作者 马蓓 公杰 +6 位作者 杜银柯 甘雨薇 程蓉 朱波 易丽霞 马锦绣 高世庆 《中国农业科技导报(中英文)》 北大核心 2025年第4期22-35,共14页
花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,... 花粉孔径调控因子在植物萌发孔径形成中发挥着核心作用。为探究小麦花粉表面萌发的孔发育调控机理,深入探索与OsINP1同源的TaINP1基因家族在小麦萌发孔径形成中的调控功能,利用生物信息学策略,在小麦基因组中鉴定出53个小麦TaINP1基因,系统分析了其理化性质、启动子顺式作用元件、基因间的共线性关系。组织表达分析表明,TaINP2.2、TaINP2.5等基因在小麦穗部显著高表达;TaINP2.5、TaINP3.2等基因经低温(10℃)处理后在花粉中高表达。结合花粉萌发及纳米磁珠转化技术,将RFP报告基因成功导入小麦花粉中,并利用激光共聚焦显微镜观测不同低温处理花粉的荧光强度,证实TaINP1基因在调控花粉孔开闭中起重要作用。以上研究结果为小麦花粉孔发育的调控机理奠定了基础,也为优化小麦花粉纳米磁珠高效转化体系提供了参考,为小麦分子育种遗传改良开辟了新途径。 展开更多
关键词 小麦 花粉孔发育 inp1基因家族 表达模式 低温
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InP基HEMT单粒子瞬态效应研究
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作者 孙树祥 李浩宇 张鑫 《微电子学》 北大核心 2025年第1期21-26,共6页
InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT... InP基高电子迁移率晶体管(HEMT)具有频率高、噪声低、功耗低及增益高等特点,在空间高频信号接收系统中具有广阔的应用前景。为促进InP基HEMT在空间辐照环境中的应用,利用二维仿真的方法研究了粒子入射位置、温度和入射角度对InP基HEMT单粒子瞬态效应的影响。结果表明,不同入射位置对峰值漏电流和漏极收集电荷有不同的影响,在栅极处,峰值漏电流和收集电荷最大,因此栅极为器件单粒子效应的最敏感位置;随着入射角度,在缓冲层产生空穴越多,使栅下势垒降低得越多,从而导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度增加;随着温度的增加,沟道中电子迁移率减小,导致漏瞬态电流峰值和脉冲宽度降低。温度和粒子入射角度耦合作用时,温度对小角度入射产生的漏瞬态电流峰值的影响较大。该工作可为InP基HEMT抗单粒子效应加固设计提供理论依据和指导。 展开更多
关键词 inp基HEMT 单粒子瞬态 入射角度 温度
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InP量子点发光材料:从合成到器件应用的研究进展(特邀)
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作者 汪瑶 翁其新 +4 位作者 时应章 王志文 宋玉洁 孙小卫 张文达 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第7期39-53,共15页
量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而... 量子点(Quantum Dots,QDs)作为一种新型纳米材料,具有优异的光学性质。随着研究的深入,量子点已在光电器件、生物成像、太阳能电池、显示技术等领域发挥重要作用。磷化铟(InP)量子点因其低毒性、高光效,被视为镉基量子点的潜在替代品而受到广泛关注,其发光光谱覆盖整个可见光区域,光致发光量子产率(PLQY)、光电性能上与镉基量子点相当。然而,InP量子点在前驱体材料、生长机制、核壳晶格匹配性等方面与镉基量子点相比存在显著差异,这些差异在一定程度上影响了其光学性能,从而制约了在显示器件中的应用。综述了InP量子点材料及其量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes,QLED)的发展现状。首先,系统地介绍了InP量子点的基本特性,重点从色纯度提升和缺陷态消除等角度深入探讨了其光学性能的优化与改进。随后,详细分析了量子点结构设计(电荷传输层和界面工程)对InP QLED器件性能的影响,并综述了近年来InP QLED的研究进展及其在相关领域的应用成果。最后,概述了InP量子点体系的发展以及面临的主要挑战,并提出了对InP量子点体系未来发展的期望,旨在为InP量子点体系的进一步研究和应用提供启示与方向。 展开更多
关键词 inp量子点 色纯度 发光二极管 显示器件
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InP基多结激光电池中隧道结研究
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作者 付建鑫 孙玉润 +1 位作者 于淑珍 董建荣 《微纳电子技术》 2025年第10期34-39,共6页
激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/... 激光传能系统中,激光电池(LPC)可将激光能量转换为电能。采用垂直堆叠的多结结构,通过隧道结连接各子电池可提高激光电池的输出电压。聚焦于InP基多结LPC中隧道结对器件输出特性的影响,通过对比实验,设计制备了采用InGaAs/InP和InAlAs/InP两种隧道结的LPC,并研究了不同入射光功率和温度条件下LPC的I-V特性。研究结果表明,当局部光生电流密度超过隧道结峰值隧穿电流密度时,InGaAs/InP隧道结的限流效应会导致I-V特性曲线中出现尖峰现象,进而导致器件的填充因子下降16%,光电转换效率降低约6%。此外,InAlAs/InP隧道结引入了较高的串联损耗,导致器件最大功率点输出电压低于2 V,填充因子较低(40%)。 展开更多
关键词 激光电池(LPC) 隧道结 I-V特性 多结 inp INALAS
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Correlation between the whole small recess offset and electrical performance of InP-based HEMTs
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作者 GONG Hang ZHOU Fu-Gui +5 位作者 FENG Rui-Ze FENG Zhi-Yu LIU Tong SHI Jing-Yuan SU Yong-Bo JIN Zhi 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期40-45,共6页
In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate proces... In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate process.We focus on their DC and RF responses,including the maximum transconductance(g_(m_max)),ON-resistance(R_(ON)),current-gain cutoff frequency(f_(T)),and maximum oscillation frequency(f_(max)).The devices have almost same RON.The g_(m_max) improves as the whole small recess moves toward the source.However,a small gate to source capacitance(C_(gs))and a small drain output conductance(g_(ds))lead to the largest f_(T),although the whole small gate recess moves toward the drain leads to the smaller g_(m_max).According to the small-signal modeling,the device with the whole small recess toward drain exhibits an excellent RF characteristics,such as f_(T)=372 GHz and f_(max)=394 GHz.This result is achieved by paying attention to adjust resistive and capacitive parasitics,which play a key role in high-frequency response. 展开更多
关键词 inp high-electron-mobility transistor(inp HEMT) INGAAS/INALAS DC/RF characteristic smallsignal modeling double-recessed gate process
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InP/InGaAs/InP红外光电阴极时间响应特性的模拟研究 被引量:7
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作者 孙巧霞 徐向晏 +6 位作者 安迎波 曹希斌 刘虎林 田进寿 董改云 郭晖 李燕红 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3163-3167,共5页
文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而... 文中理论研究了InP/In0.53Ga0.47As/InP异质结透射式红外光电阴极的时间响应特性,光谱响应范围1.0~1.7μm。在场助偏压的作用下,模拟计算了光激发的电子在阴极内部的传输特性。模拟计算表明,光电阴极的响应速度随场助偏压的增大而加快;随光吸收层厚度的增大而减慢;随光吸收层掺杂浓度的增大,光电阴极的响应速度变慢。发射层厚度及掺杂浓度的增大都会使得阴极的响应时间加长。经过对阴极结构参数和掺杂浓度的优化,得到在吸收层和发射层厚度分别为2μm、0.5μm,掺杂浓度分别为1.5×1015 cm-3、1.0×1016 cm-3时,在适当场助偏压下光电阴极的响应时间可优于100 ps。 展开更多
关键词 红外光电阴极 inp IN0 53GA0 47As inp 时间响应特性
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有效跨导为1052mS/mm的高性能InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.53)Ga_(0.47)As HEMTs(英文) 被引量:5
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作者 钟英辉 王显泰 +4 位作者 苏永波 曹玉雄 张玉明 刘新宇 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期193-197,288,共6页
成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为... 成功研制了栅长为0.15μm、栅宽为2×50μm、源漏间距为2μm的InP基In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As高电子迁移率器件.室温下,当器件VDS为1.7 V、VGS为0.1 V时,其有效跨导达到了1 052 mS/mm.传输线方法(TLM)测试显示器件的接触电阻为0.032Ω.mm,器件欧姆接触电阻率为1.03×10-7Ω.cm-2.正是良好的欧姆接触及其短的源漏间距减小了源电阻,进而使得有效跨导比较大.器件有比较好的射频特性.从100 MHz到40 GHz,S参数外推出来的fT和fmax分别为151 GHz和303 GHz.所报道的HEMT器件非常适合毫米波段集成电路的研制. 展开更多
关键词 高电子迁移率器件 栅长 栅槽 inp INALAS INGAAS
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