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Flip-chip芯片关键技术的研究 被引量:2
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作者 芮延年 刘开强 +1 位作者 张志伟 陈慧萍 《苏州大学学报(工科版)》 CAS 2004年第5期19-22,共4页
Flip chip是一种微电子制造表面贴装新工艺,应用于生产还有一些问题未能得到很好的解决。本文通过对组装工艺过程中热应力、封装工艺等关键技术问题的研究,建立了热应力、焊接过程力学模型,为Flip chip的生产进行了一些富有意义的探索。
关键词 flip-chip芯片 微电子 表面贴装 组装工艺 热应力 封装工艺
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Reliability of flip-chip bonded RFID die using anisotropic conductive paste hybrid material 被引量:1
2
作者 Jun-Sik LEE Jun-Ki KIM +2 位作者 Mok-Soon KIM Namhyun KANG Jong-Hyun LEE 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第A01期175-181,共7页
A reliability of flip-chip bonded die as a function of anisotropic conductive paste (ACP) hybrid materials, bonding conditions, and antenna pattern materials was investigated during the assembly of radio frequency ide... A reliability of flip-chip bonded die as a function of anisotropic conductive paste (ACP) hybrid materials, bonding conditions, and antenna pattern materials was investigated during the assembly of radio frequency identification(RFID) inlay. The optimization condition for flip-chip bonding was determined from the behavior of bonding strength. Under the optimized condition, the shear strength for the antenna printed with paste-type Ag ink was larger than that for Cu antenna. Furthermore, an identification distance was varied from the antenna materials. Comparing with the Ag antenna pattern, the as-bonded die on Cu antenna showed a larger distance of identification. However, the long-term reliability of inlay using the Cu antenna was decreased significantly as a function of aging time at room temperature because of the bended shape of Cu antenna formed during the flip-chip bonding process. 展开更多
关键词 RFID inlay ACP flip-chip bonding process RELIABILITY
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High power and high reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes
3
作者 张剑铭 邹德恕 +4 位作者 徐晨 朱颜旭 梁庭 达小丽 沈光地 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期1135-1139,共5页
High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and... High-power and high-reliability GaN/InGaN flip-chip light-emitting diodes (FCLEDs) have been demonstrated by employing a flip-chip design, and its fabrication process is developed. FCLED is composed of a LED die and a submount which is integrated with circuits to protect the LED from electrostatic discharge (ESD) damage. The LED die is flip-chip soldered to the submount, and light is extracted through the transparent sapphire substrate instead of an absorbing Ni/Au contact layer as in conventional GaN/InGaN LED epitaxial designs. The optical and electrical characteristics of the FCLED are presented. According to ESD IEC61000-4-2 standard (human body model), the FCLEDs tolerated at least 10 kV ESD shock have ten times more capacity than conventional GaN/InGaN LEDs. It is shown that the light output from the FCLEDs at forward current 350mA with a forward voltage of 3.3 V is 144.68 mW, and 236.59 mW at 1.0A of forward current. With employing an optimized contact scheme the FCLEDs can easily operate up to 1.0A without significant power degradation or failure. The li.fe test of FCLEDs is performed at forward current of 200 mA at room temperature. The degradation of the light output power is no more than 9% after 1010.75 h of life test, indicating the excellent reliability. FCLEDs can be used in practice where high power and high reliability are necessary, and allow designs with a reduced number of LEDs. 展开更多
关键词 GAN light emitting diode flip-chip high power
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Plasma清洗在Flip-Chip工艺中的重要作用 被引量:1
4
作者 陈天虎 姚泽鑫 李键城 《科技风》 2017年第24期72-74,共3页
随着半导体芯片封装技术的发展,倒装芯片封装技术,其杰出的电气和热性能,高I/O引脚数,以及其封装集成较高的优势,使其在芯片封装行业中得到了快速的发展。芯片的高密度引脚封装也其对封装可靠性也提出了更高的要求,而在FlipChip工艺过... 随着半导体芯片封装技术的发展,倒装芯片封装技术,其杰出的电气和热性能,高I/O引脚数,以及其封装集成较高的优势,使其在芯片封装行业中得到了快速的发展。芯片的高密度引脚封装也其对封装可靠性也提出了更高的要求,而在FlipChip工艺过程中基板上的污染物和氧化物是导致封装中基板与芯片Bump键合失效的主要因素。为使芯片与基板能达到有效的键合,在Bond之前将基板进行plasma清洗,以提高其键合的可靠性。通过介绍plasma清洗原理、过程,以及水滴角,推力测试等实验,论证了在Flip-Chip Bond之前对基板进行plasma清洗能有效的提高产品键合的可靠性。 展开更多
关键词 PLASMA flip-chip 推力测试 水滴角 键合
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A Single Mode Hybrid Ⅲ-Ⅴ/Silicon On-Chip Laser Based on Flip-Chip Bonding Technology for Optical Interconnection
5
作者 王海玲 郑婉华 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第12期77-80,共4页
A single mode hybrid Ⅲ-Ⅴ/silicon on-chip laser based on the flip-chip bonding technology for on-chip optical interconnection is demonstrated. A single mode Fabry-Perot laser structure with micro-structures on an InP... A single mode hybrid Ⅲ-Ⅴ/silicon on-chip laser based on the flip-chip bonding technology for on-chip optical interconnection is demonstrated. A single mode Fabry-Perot laser structure with micro-structures on an InP ridge waveguide is designed and fabricated on an InP/AIGaInAs multiple quantum well epitaxial layer structure wafer by using i-line lithography. Then, a silicon waveguide platform including a laser mounting stage is designed and fabricated on a silicon-on-insulator substrate. The single mode laser is flip-chip bonded on the laser mounting stage. The lasing light is butt-coupling to the silicon waveguide. The laser power output from a silicon waveguide is 1.3roW, and the threshold is 37mA at room temperature and continuous wave operation. 展开更多
关键词 InP is with Chip Silicon On-Chip Laser Based on flip-chip Bonding Technology for Optical Interconnection A Single Mode Hybrid mode for
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Enhanced Luminescence of InGaN-Based 395 nm Flip-Chip Near-Ultraviolet Light-Emitting Diodes with Al as N-Electrode
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作者 徐瑾 张伟 +2 位作者 彭孟 戴江南 陈长清 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2017年第7期114-117,共4页
High-reflectivity Al-based n-electrode is used to enhance the luminescence properties of InGaN-based 395nm flip-chip near-ultraviolet (UV) light-emitting diodes. The Al-only metal layer could form the Ohmic contact ... High-reflectivity Al-based n-electrode is used to enhance the luminescence properties of InGaN-based 395nm flip-chip near-ultraviolet (UV) light-emitting diodes. The Al-only metal layer could form the Ohmic contact on the plasma etched n-GaN by means of chemical pre-treatment, with the lowest specific contact resistance of 2.211 × 10^-5 Ω. cm2. The AI n-electrodes enhance light output power of the 395 nm flip-chip near-UV light-emitting diodes by more than 33% compared with the Ti/AI n-electrodes. Meanwhile, the electrical characteristics of these chips with two types of n-electrodes do not show any significant discrepancy. The near-field light distribution measurement of packaged chips confirms that the enhanced luminescence is ascribed to the high refleetivity of the Al electrodes in the UV region. After the accelerated aging test for over 1000 h, the luminous degradation of the packaged chips with Al n-electrodes is less than 3%, which proves the reliability of these chips with the Al-based electrodes. Our approach shows a simplified design and fabrication of high-refleetivity n-electrode for flip-chip near-UV light emitting diodes. 展开更多
关键词 GaN Enhanced Luminescence of InGaN-Based 395 nm flip-chip Near-Ultraviolet Light-Emitting Diodes with Al as N-Electrode AL
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Flip-chip bonded 8-channel DFB laser array with highly uniform 400 GHz spacing and high output power for optical I/O technology
7
作者 Jie Zhao Zhenxing Sun +8 位作者 Pan Dai Jin Zhang Yanqiu Xu Yue Zhang Zhuoying Wang Jiaqiang Nie Wenxuan Wang Rulei Xiao Xiangfei Chen 《Chinese Optics Letters》 2025年第4期99-105,共7页
In this paper,we proposed and experimentally demonstrated an 8-channel O-band distributed feedback(DFB)laser array with highly uniform 400 GHz spacing and high output power for optical input/output(I/O)technology.The ... In this paper,we proposed and experimentally demonstrated an 8-channel O-band distributed feedback(DFB)laser array with highly uniform 400 GHz spacing and high output power for optical input/output(I/O)technology.The grating phase is precisely controlled,and an equivalentπphase shift is implemented in the laser cavity via the reconstruction equivalent chirp(REC)technology.Anti-reflection(AR)and high-reflection(HR)films are coated on the front and rear facets,respectively,to enhance output power.The equivalentπphase shift is strategically placed near the HR film facet to improve the yield of the single longitudinal mode.Operating with a 400 GHz wavelength spacing,the proposed DFB laser array meets the continuous wave-wavelength division multiplexing multi-source agreement(CW-WDM MSA)specifications.The proposed DFB laser array is flip-chip bonded to a thin-film circuit with an aluminum nitride(AlN)submount to reduce the thermal resistance and enhance the output power.Compared to the p-side-up structure,the flip-chip bonding design significantly reduces junction temperature by 28%and increases maximum output power by approximately 20%.This design effectively lowers the thermal resistance of the chip and enhances its heat dissipation properties.At a bias current of 110 mA,the laser demonstrates wavelength deviations below 1.579 GHz and side-mode suppression ratios above 50 dB.The far-field divergence is measured at 25.8°×30.1°,and the Lorentzian linewidth is 3.28 MHz.Increasing the bias current to250 mA results in a laser output power exceeding 80 mW.Furthermore,the relative intensity noise(RIN)for all 8 channels is below-135.3 d B/Hz.The proposed flip-chip bonded 8-channel high-power DFB laser array demonstrates uniform wavelength spacing,high output power,and stable single longitudinal mode performance,making it a promising candidate for multiple wavelength laser sources in optical I/O technology. 展开更多
关键词 flip-chip high-power distributed feedback laser array reconstruction equivalent chirp technology multi-wavelength source optical input/output
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倒装焊封装3D集成式CCD的设计与验证
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作者 王小东 李明 +1 位作者 刘昌举 刘戈扬 《光电子技术》 2025年第2期148-153,共6页
3D集成式CCD是高帧频图像传感器的发展方向之一。文中采用CCD结构的高性能光敏阵列与高速处理的列级CMOS数字电路片内集成,实现图像传感器的高帧频成像。CCD光敏阵列芯片与CMOS数字电路芯片通过各自更优化的方式实现工艺加工制造,采用... 3D集成式CCD是高帧频图像传感器的发展方向之一。文中采用CCD结构的高性能光敏阵列与高速处理的列级CMOS数字电路片内集成,实现图像传感器的高帧频成像。CCD光敏阵列芯片与CMOS数字电路芯片通过各自更优化的方式实现工艺加工制造,采用倒装焊的方式将两类芯片的列级I/O接口互联,以通过I/O互联接口实现数据交互和信号处理,并最终实现3D集成式CCD片内12 bit数字输出。开展了CCD光敏阵列芯片设计、CMOS数字电路芯片设计、工艺流片、3D集成等工作,设计了1024(V)×256(H)阵列规模的3D集成式CCD,通过工艺流片、工艺优化、封装测试等研究工作,验证了3D集成式CCD的高帧频成像功能。 展开更多
关键词 电荷耦合器件 三维集成 电荷耦合器件数字输出 倒装焊 光电探测器
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Thermal simulation and analysis of flat surface flip-chip high power light-emitting diodes 被引量:2
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作者 陈茂兴 徐晨 +1 位作者 许坤 郑雷 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第12期49-52,共4页
Conventional GaN-based flip-chip light-emitting diodes (CFC-LEDs) use Au bumps to contact the LED chip and Si submount, however the contact area is constrained by the number of Au bumps, limiting the heat dissipatio... Conventional GaN-based flip-chip light-emitting diodes (CFC-LEDs) use Au bumps to contact the LED chip and Si submount, however the contact area is constrained by the number of Au bumps, limiting the heat dissipation performance. This paper presents a flat surface high power GaN-based flip-chip light emitting diode (SFC-LED), which can greatly improve the heat dissipation performance of the device. In order to understand the thermal performance of the SFC-LED thoroughly, a 3-D finite element model (FEM) is developed, and ANSYS is used to simulate the thermal performance. The temperature distributions of the SFC-LED and the CFC-LED are shown in this article, and the junction temperature simulation values of the SFC-LED and the CFC-LED are 112.80 ℃ and 122.97℃C, respectively. Simulation results prove that the junction temperature of the new structure is 10.17 ℃ lower than that of the conventional structure. Even if the CFC-LED has 24 Au bumps, the thermal resistance of the new structure is still far less than that of the conventional structure. The SFC-LED has a better thermal property. 展开更多
关键词 light-emitting diode flip-chip finite-element model junction temperature
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一种Ka波段多通道RF集成微系统封装
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作者 杨振涛 余希猛 +3 位作者 于斐 刘莹玉 段强 刘林杰 《半导体技术》 北大核心 2025年第7期723-729,共7页
随着各类信息载荷集成系统性能的提升,射频(RF)集成微系统向多通道、高集成、高频率、低噪声、多功能、小型化的方向发展。基于高温共烧陶瓷(HTCC)工艺,提出了一种应用于Ka波段的多通道RF集成微系统封装,多通道RF模块通过直径0.60 mm的... 随着各类信息载荷集成系统性能的提升,射频(RF)集成微系统向多通道、高集成、高频率、低噪声、多功能、小型化的方向发展。基于高温共烧陶瓷(HTCC)工艺,提出了一种应用于Ka波段的多通道RF集成微系统封装,多通道RF模块通过直径0.60 mm的焊球与数字处理模块连接,以实现三维堆叠。结合理论计算和仿真优化,合理设计屏蔽层和接地层,以实现低损耗、高屏蔽的带状线传输结构。测试结果表明,在DC~40 GHz频段,多通道RF模块的传输路径回波损耗≤-10 dB、插入损耗≥-1.5 dB。理论计算与实测结果的均方根误差为0.0027,二者具有较好的一致性。本研究结果可为RF集成微系统陶瓷封装设计提供参考。 展开更多
关键词 高温共烧陶瓷(HTCC) 倒装芯片 射频(RF)集成微系统 三维堆叠 传输损耗
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FC-CLGA外壳用可焊性试验方法研究
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作者 彭博 郑镔 +2 位作者 林炜国 魏钰金 刘林杰 《微纳电子技术》 2025年第8期61-69,共9页
倒装芯片-陶瓷焊盘阵列(FC-CLGA)封装外壳具有体积小、引出端数量多、信号完整性好等特点,广泛应用于高速集成电路(IC)和射频微波电路中,其焊盘可靠性直接影响器件乃至整个系统的可靠性,可焊性是焊盘可靠性的一项重要指标。通过正交试验... 倒装芯片-陶瓷焊盘阵列(FC-CLGA)封装外壳具有体积小、引出端数量多、信号完整性好等特点,广泛应用于高速集成电路(IC)和射频微波电路中,其焊盘可靠性直接影响器件乃至整个系统的可靠性,可焊性是焊盘可靠性的一项重要指标。通过正交试验,研究了可焊性试验中各参数对焊盘浸润效果的影响,参数包括浸入频次、停留时间、浸入角度、浸入方向和焊料温度。试验结果表明,浸入频次、浸入角度、浸入方向对焊盘浸润效果的影响较大,停留时间(≥5s)、焊料温度(≥245℃)对焊盘浸润效果的影响较小,并确定了试验操作方法:90°正向浸入三次,若有未浸润焊盘则加涂助焊剂旋转180°再浸入三次。为后续保障FC-CLGA封装的可靠应用提供了试验参考。 展开更多
关键词 倒装芯片 陶瓷封装 焊盘 可焊性 正交试验
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基于声学显微C扫描检测技术的倒装集成电路失效分析
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作者 李登科 王高凯 《无损检测》 2025年第2期1-6,共6页
随着倒装集成电路在电子产品中的广泛应用及其失效问题的日益凸显,对其失效分析技术的要求越来越高。研究了声学显微镜C扫描模式下换能器频率、放大器增益和倒装集成电路芯片厚度间的关系,发现声学扫描图像清晰度随着换能器频率的增加... 随着倒装集成电路在电子产品中的广泛应用及其失效问题的日益凸显,对其失效分析技术的要求越来越高。研究了声学显微镜C扫描模式下换能器频率、放大器增益和倒装集成电路芯片厚度间的关系,发现声学扫描图像清晰度随着换能器频率的增加而提升;相同频率下,芯片厚度增加时,需提高放大器的增益来保证成像质量。此外还研究了声学显微C扫描检测技术在倒装集成电路失效分析中的应用场景,结果表明该技术可以无损检测出倒装集成电路内部的空洞、分层及裂纹等缺陷,完成对失效机理的准确判断。 展开更多
关键词 声学扫描显微镜 倒装芯片 失效分析 分层 芯片裂纹
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Gb/s倒装蓝光LED在高速可见光通信中的应用研究
13
作者 周政 龙晓燕 +2 位作者 孙小广 李加定 李健 《现代电子技术》 北大核心 2025年第9期62-66,共5页
为了研制能应用在可见光通信中的高速发光二极管(LED),设计了两种结面积为200μm×800μm和200μm×1000μm的商用蓝光GaN-LED芯片。通过在芯片中设计微孔阵列结构并将其倒装封装在陶瓷基板上。实验采用64位正交幅度调制(QAM)... 为了研制能应用在可见光通信中的高速发光二极管(LED),设计了两种结面积为200μm×800μm和200μm×1000μm的商用蓝光GaN-LED芯片。通过在芯片中设计微孔阵列结构并将其倒装封装在陶瓷基板上。实验采用64位正交幅度调制(QAM)和正交频分复用(OFDM)调制技术。实验结果表明,在驱动电流为190 mA时,两组LED输出的光功率分别为192.7mW和178.7mW,-3 dB调制带宽值最大分别为49.9 MHz和58.8 MHz,比相同偏置电流下的商用OSRAM?LED的调制带宽分别提高了5.3倍和4.3倍。当传输距离为1 m时,在低于通信误码率阈值3.8×10^(-3)时具有2Gb/s通信传输速率。LED芯片中微孔结构有效降低了载流子的复合辐射寿命,提升了LED的调制性能。倒装封装提升了LED的光萃取,改善了微米级LED光功率输出过低的缺点。 展开更多
关键词 GaN-LED 可见光通信 倒装封装 正交频分复用 传输速率 误码率
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蜂巢表面AlGaInP基倒装Micro-LED的光电性能
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作者 谢军 张威 +2 位作者 谢子敬 徐盛海 王洪 《发光学报》 北大核心 2025年第10期1953-1960,共8页
AlGaInP基红光Micro-LED较低的光提取效率限制了器件的发光强度。本文提出了一种自组装Ni金属纳米掩模和湿法刻蚀技术,获得了具有高密度、高均匀性的GaP表面纹理,通过表面纹理增加临界角降低全内反射效应从而有效地提高了器件光提取效... AlGaInP基红光Micro-LED较低的光提取效率限制了器件的发光强度。本文提出了一种自组装Ni金属纳米掩模和湿法刻蚀技术,获得了具有高密度、高均匀性的GaP表面纹理,通过表面纹理增加临界角降低全内反射效应从而有效地提高了器件光提取效率。使用不同厚度的镍掩膜获得不同形貌的表面纹理。结果表明,在20 A/cm^(2) 电流密度下,使用1 nm厚镍金属纳米掩膜湿法蚀刻的Micro-LED的发光强度和外量子效率比无表面纹理的Micro-LED分别提升21.04%和23.58%。提出了一种使用ICP干法刻蚀结合湿法刻蚀制备蜂巢型圆柱状表面纹理。在相同工艺的ICP刻蚀后对GaP层湿法腐蚀不同时间,在电流密度为20 A/cm^(2) 时,使用ICP蚀刻和湿法蚀刻10 s*3次的Micro-LED发光强度和外量子效率分别比无表面纹理的Micro-LED提高了81.61%和48.40%。 展开更多
关键词 ALGAINP 倒装 光提取效率 Micro-LED 表面纹理
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超导量子处理器集成工艺技术研究进展
15
作者 栾添 刘鑫 +3 位作者 代志鹏 李泽东 王维 李成鑫 《微电子学》 北大核心 2025年第3期430-440,共11页
超导量子芯片因其与半导体工艺兼容性强,可扩展潜力大,易于操控、读取与耦合,现阶段被认为是最有希望实现可扩展通用量子计算机的技术路线之一。当前,随着超导量子技术的进一步发展,其在退相干时间、门保真度和中等规模扩展上均取得了... 超导量子芯片因其与半导体工艺兼容性强,可扩展潜力大,易于操控、读取与耦合,现阶段被认为是最有希望实现可扩展通用量子计算机的技术路线之一。当前,随着超导量子技术的进一步发展,其在退相干时间、门保真度和中等规模扩展上均取得了重要的突破。然而,随着芯片中集成的量子比特数目的不断增加,量子比特集成化技术成为未来重点的研究的重点。本文从超导量子芯片的集成工艺出发,主要分析倒装焊(Flip-chip)、硅通孔(TSV)和“3D”堆叠工艺在超导量子芯片上的研究进展,对工艺需要解决的主要技术瓶颈进行了分析,同时对未来发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 倒装焊 硅通孔 “3D”堆叠 芯片集成
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基于VMD-共振频带-能量熵的倒装焊芯片缺陷检测方法
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作者 李可 于成昊 +3 位作者 明雪飞 顾杰斐 宿磊 MICHAEL Pecht 《机械工程学报》 北大核心 2025年第10期250-262,共13页
针对单频超声激励获得的倒装焊芯片缺陷特征信息较少导致典型缺陷难以检测的问题,提出一种基于共振频带能量熵的倒装焊芯片缺陷检测方法。首先,通过倒装焊芯片理论模型求解芯片固有频率的解析值,分析芯片的结构特性。其次,提出一种改进... 针对单频超声激励获得的倒装焊芯片缺陷特征信息较少导致典型缺陷难以检测的问题,提出一种基于共振频带能量熵的倒装焊芯片缺陷检测方法。首先,通过倒装焊芯片理论模型求解芯片固有频率的解析值,分析芯片的结构特性。其次,提出一种改进变分模态分解(Variational mode decomposition,VMD)算法,利用Teager能量算子和多重极值分割融合算法对振动信号频谱进行划分从而确定模态数,根据频段边界和局部最大峰值点预估各个本征模函数(Intrinsic mode function,IMF)的惩罚因子和初始中心频率,并通过仿真信号分析,验证改进VMD算法提取信号共振频带的有效性。最后,利用改进VMD算法分析倒装焊芯片振动信号,并与经验模态分解等方法对比分析,结果表明改进VMD算法能够准确地获得共振频带及能量熵,并进一步验证了基于共振频带能量熵的方法对倒装焊芯片缺陷检测的有效性。 展开更多
关键词 改进变分模态分解 共振频带 能量熵 倒装焊芯片 缺陷检测
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红外焦平面芯片倒装互连工艺检测及应用研究
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作者 欧阳甜 刘明 +1 位作者 冯晓宇 宁提 《激光与红外》 北大核心 2025年第6期905-908,共4页
红外焦平面芯片主要由红外焦平面阵列与读出电路组成,倒装互连工艺是其制造过程中的关键支撑技术。通过对倒装互连后的芯片引入电学测试可准确地判断芯片倒装互连连通情况,为倒装互连工艺质量技术分析提供有效监测手段。针对倒装互连工... 红外焦平面芯片主要由红外焦平面阵列与读出电路组成,倒装互连工艺是其制造过程中的关键支撑技术。通过对倒装互连后的芯片引入电学测试可准确地判断芯片倒装互连连通情况,为倒装互连工艺质量技术分析提供有效监测手段。针对倒装互连工艺的快速、高效检测需求,发展了芯片互连连通情况的批量化自动检测,并实现了测试结果图中互连差点的自动识别。此外,将该检测手段应用在后续的灌胶、背面减薄工艺后,并通过测试结果可监测后道工序对芯片互连连通情况的影响。本文的研究满足了测试效率提升的要求,同时为工艺问题的定位提供了方案。 展开更多
关键词 红外焦平面芯片 倒装互连 批量化自动检测 自动识别
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基于改进深度压缩感知的倒装芯片超声激励振动信号去噪方法
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作者 李延彬 李可 顾杰斐 《仪表技术与传感器》 北大核心 2025年第1期85-91,共7页
针对高频超声激励下的倒装芯片振动信号易受噪声影响且传统稀疏去噪方法重构表现差的问题,提出了一种基于改进深度压缩感知的信号去噪方法。针对传统稀疏方法存在提取能力不足的问题,设计了基于短时傅里叶变换的深度压缩感知模型;为了... 针对高频超声激励下的倒装芯片振动信号易受噪声影响且传统稀疏去噪方法重构表现差的问题,提出了一种基于改进深度压缩感知的信号去噪方法。针对传统稀疏方法存在提取能力不足的问题,设计了基于短时傅里叶变换的深度压缩感知模型;为了增强模型的泛化能力,提出了利用余弦退火噪声增强数据的方法;为进一步增强模型对强噪声干扰信号的鲁棒性,提出了样本加权自适应损失,最终实现了信号的重构和去噪。仿真和实验结果表明:所提方法能够有效去除倒装芯片振动信号中的噪声,在信号重构精确度方面优于传统方法。 展开更多
关键词 倒装芯片 超声激励振动检测 压缩感知 数据增强 自适应损失函数
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线性调频激励的倒装芯片高频超声回波解卷积与缺陷检测
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作者 宿磊 谢万隆 +4 位作者 明雪飞 顾杰斐 赵新维 李可 PECHT Michael 《声学学报》 北大核心 2025年第1期128-137,共10页
针对倒装焊芯片高频超声检测回波微弱、信号混叠、受噪声影响大导致焊球缺陷难以准确检测的难题,提出一种基于预调制线性调频(LFM)激励和自回归谱外推法的高频超声检测方法。建立倒装焊芯片缺陷高频超声检测仿真模型,结合超声探头响应设... 针对倒装焊芯片高频超声检测回波微弱、信号混叠、受噪声影响大导致焊球缺陷难以准确检测的难题,提出一种基于预调制线性调频(LFM)激励和自回归谱外推法的高频超声检测方法。建立倒装焊芯片缺陷高频超声检测仿真模型,结合超声探头响应设计LFM信号作为探头激励信号,采用预调制LFM信号作参考信号对回波信号进行脉冲压缩,抑制噪声,信噪比平均提高12 dB;利用改进协方差法计算信号有效频带的自回归系数,对脉冲压缩后超声信号有效频带进行频谱外推,分离混叠回波信号;通过参数化扫描获取倒装焊芯片B扫描图像,对含噪声B扫描矩阵进行脉冲压缩、计算自回归系数矩阵及频谱外推,经滑动平均滤波进一步抑制噪声亮斑,对比分析无缺陷焊球模型和裂纹、孔洞焊球模型结果。仿真结果表明,该方法能够大幅提高B扫图时域分辨率,在-4 dB噪声影响下仍有较好效果。通过提取B扫图回波峰值所在时间,结合材料声速可计算缺陷预埋深度。在裂纹、孔洞缺陷焊球模型中预埋深计算误差均小于5%,可实现焊球缺陷识别与定位。 展开更多
关键词 倒装焊芯片 缺陷检测 高频超声 线性调频信号 自回归谱外推
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Indium bump array fabrication on small CMOS circuit for flip-chip bonding
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作者 黄寓洋 张宇翔 +5 位作者 殷志珍 崔国新 刘惠春 边历峰 杨辉 张耀辉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期148-151,共4页
We demonstrate a novel method for indium bump fabrication on a small CMOS circuit chip that is to be flip-chip bonded with a GaAs/A1GaAs multiple quantum well spatial light modulator. A chip holder with a via hole is ... We demonstrate a novel method for indium bump fabrication on a small CMOS circuit chip that is to be flip-chip bonded with a GaAs/A1GaAs multiple quantum well spatial light modulator. A chip holder with a via hole is used to coat the photoresist for indium bump lift-off. The 1000 μm-wide photoresist edge bead around the circuit chip can be reduced to less than 500 μm, which ensures the integrity of the indium bump array. 64 - 64 indium arrays with 20 μm-high, 30 μm-diameter bumps are successfully formed on a 5 - 6.5 mm^2 CMOS chip. 展开更多
关键词 flip-chip bonding indium bump ARRAY small-size
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