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静电作用与修饰铜锌超氧化物歧化酶的稳定性
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作者 李维忠 缪方明 《生物化学与生物物理进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1996年第6期537-541,共5页
铜锌超氧化物歧化酶（Ｃｕ，Ｚｎ－ＳＯＤ）表面的赖氨酸经化学修饰后，酶的稳定性显著提高．赖氨酸被修饰后，酶的电荷结构遂发生变化，从而影响到酶分子电场．使用ＦＤＰＢ方法（有限差分法求解Ｐｏｉｓｓｉｏｎ－ＢＯｌｔｚｍａｎ方... 铜锌超氧化物歧化酶（Ｃｕ，Ｚｎ－ＳＯＤ）表面的赖氨酸经化学修饰后，酶的稳定性显著提高．赖氨酸被修饰后，酶的电荷结构遂发生变化，从而影响到酶分子电场．使用ＦＤＰＢ方法（有限差分法求解Ｐｏｉｓｓｉｏｎ－ＢＯｌｔｚｍａｎ方程）计算了酶修饰前后的静电场变化，以及对维持酶的结构稳定起重要作用的Ｃｕ，Ｚｎ配位结构的影响结果表明，Ｃｕ，Ｚｎ配位体的两级离解常数在酶修饰后分别约下降１０３，１０６． 展开更多
关键词 超氧化物歧化酶 酶稳定性 化学修饰 静电作用
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