期刊文献+
共找到8篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Spatial Distribution of EL2 Defect in Semi-insulating GaAs
1
作者 汝琼娜 李光平 何秀坤 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1994年第4期296-298,共3页
It has advantages of accuracy, rapidity and non-destruction that EL2 distribution in semi-insulating LECGaAs crystal has been measured by near infrared absorption method with a high spatial resolution. Now EL2defect e... It has advantages of accuracy, rapidity and non-destruction that EL2 distribution in semi-insulating LECGaAs crystal has been measured by near infrared absorption method with a high spatial resolution. Now EL2defect existed in all wafer is directly observed by 1 .0972 μm and 2 μm absorption curves obtained from a suc-cessive and automatical horizontal scan across the different bands parallelly ranged with tbe diameter of asemi-insulating GaAs wafer. Not only EL2 distribution across the wafer corresponding with that of dislocationdensities has been indicated but also the fine structure found. 展开更多
关键词 el2defect SI-GAAS Infrared absorption
在线阅读 下载PDF
掺InGaAs晶体中的EL2缺陷及其热处理 被引量:1
2
作者 谢自力 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期38-40,49,共4页
比较了掺In和非掺杂LEC-GaAs晶体中的EL2缺陷,分析了掺In量的不同与热处理过程的不同对LEC-GaAs晶体中EL2缺陷的影响。
关键词 掺铟 el2缺陷 热处理 砷化镓晶体 IC
在线阅读 下载PDF
EL2能级对GaAs MESFET夹断电压的影响
3
作者 毛友德 顾成余 +4 位作者 丁勇 宁王君 夏冠群 赵建龙 赵福川 《半导体杂志》 2000年第3期8-13,共6页
在建立的理论模型基础之上 ,定量地分析了EL2能级对GaAsMESFET夹断电压的影响 ,指出位于本征费米能级以下的EL2能级是影响GaAsMESFET夹断电压大小的主要因素 ,EL2能级对GaAsMESFET夹断电压的影响程度与EL2能级的缺陷密度呈线性关系。
关键词 el2能级 夹断电压 砷化镓 MESFET
在线阅读 下载PDF
热处理对大直径半绝缘砷化镓中EL2缺陷的影响
4
作者 王丽华 郝秋艳 +2 位作者 解新建 刘红艳 刘彩池 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期9-12,共4页
利用金相显微镜和微区红外测量技术分析热处理对液封直拉法生长的大直径半绝缘砷化镓(LEC SI-GaAs)单晶中深施主缺陷EL2的影响。结果表明,原生大直径SI-GaAs样品中EL2缺陷浓度沿直径方向的分布呈现中心区域较高、近中心区域最低、边缘... 利用金相显微镜和微区红外测量技术分析热处理对液封直拉法生长的大直径半绝缘砷化镓(LEC SI-GaAs)单晶中深施主缺陷EL2的影响。结果表明,原生大直径SI-GaAs样品中EL2缺陷浓度沿直径方向的分布呈现中心区域较高、近中心区域最低、边缘区域最高的特点。500℃退火EL2缺陷浓度稳定,真空闭管并快速冷却条件下850℃以上退火时,EL2缺陷浓度随温度升高而下降。并分析了热处理对EL2缺陷的影响机理。 展开更多
关键词 半绝缘砷化镓 热处理 el2缺陷 微区红外测量技术
原文传递
GaAs可饱和吸收体本征点缺陷的第一性原理计算与模拟 被引量:1
5
作者 李德春 赵圣之 +2 位作者 唐文婧 李桂秋 杨克建 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2011年第5期822-825,共4页
GaAs可饱和吸收体中的深能级缺陷(EL2缺陷)对其被动调Q性能有着重要的影响,因此有必要对EL2缺陷的微观结构及形成机理做进一步研究。用基于密度泛函理论的平面波赝势法首先对GaAs本征点缺陷(镓空位、砷空位、镓替代砷、砷替代镓、镓间... GaAs可饱和吸收体中的深能级缺陷(EL2缺陷)对其被动调Q性能有着重要的影响,因此有必要对EL2缺陷的微观结构及形成机理做进一步研究。用基于密度泛函理论的平面波赝势法首先对GaAs本征点缺陷(镓空位、砷空位、镓替代砷、砷替代镓、镓间隙、砷间隙)存在时的晶格结构进行优化,得到其稳定结构;然后通过各缺陷形成能的计算可得知其在生长过程中形成的难易程度;最后从态密度的角度对各种本征点缺陷引起的缺陷能级及电子占据情况进行了分析。计算得到的本征缺陷能级有助于分析GaAs可饱和吸收体中EL2深能级缺陷的形成机理。 展开更多
关键词 el2缺陷 形成能 缺陷能级 态密度
原文传递
半绝缘砷化镓EPR谱的异常退火特性
6
作者 韩洪涛 葛惟锟 +3 位作者 林兰英 吴恩 吴书祥 晏懋洵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第8期582-586,共5页
中子辐照的水平生长出绝缘GaAs(样品A)、原生的和塑性形变的直法拉制半绝缘GaAs(样品C和D),都给出一组四线谱,但在不同的样品中呈现不同的退火特性:样品A经125℃三小时退火后,EPR谱有部分光猝灭效应,加长退火时间,光猝灭效应消失,表现... 中子辐照的水平生长出绝缘GaAs(样品A)、原生的和塑性形变的直法拉制半绝缘GaAs(样品C和D),都给出一组四线谱,但在不同的样品中呈现不同的退火特性:样品A经125℃三小时退火后,EPR谱有部分光猝灭效应,加长退火时间,光猝灭效应消失,表现出异常的退火特性;而样品C和D,则无光猝灭效应. 展开更多
关键词 砷化镓 EPR谱 退火 本征缺陷
在线阅读 下载PDF
半绝缘砷化镓的热激电流谱测量 被引量:1
7
作者 王良 郑庆瑜 《现代仪器》 2002年第2期21-24,共4页
本文介绍了热激电流谱(TSC)测试方法,测量了SI-GaAs材料的TSC特征谱图。并对SI-GaAs的深能级中心的行为进行了初步的分析。
关键词 半绝缘砷化镓 热激电流谱 el2缺陷
在线阅读 下载PDF
降低半绝缘GaAs单晶片亮点缺陷的热处理工艺研究
8
作者 杨艺 周春锋 兰天平 《天津科技》 2016年第2期19-21,共3页
GaAs单晶材料已成为一种重要的微电子和光电子基础材料,应用广泛。为了降低半绝缘砷化镓单晶片表面的亮点缺陷,对砷化镓晶片在不同温度和不同砷蒸汽压条件下进行了热处理,研究了热处理对砷化镓中砷的存在形式转换的影响及其机理。
关键词 GaAs单晶片 热处理 亮点缺陷 EL_2
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部