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GaAs衬底上立方GaN的低温生长 被引量:9
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作者 顾彪 徐茵 +3 位作者 秦福文 丛吉远 张砚臣 孙捷 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期143-145,共3页
研究了以(001)GaAs为衬底的用ECRPAMOCVD法生长的立方GaN薄膜的主要性质,阐述了实验过程与生长用设备。在生长过程中,衬底温度约为600℃,反应器内压力约04Pa。
关键词 低温生长 活化氮源 ecr-pamocvd 立方氮化镓
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Al_2O_3衬底上低温生长GaN薄膜的一种新方法
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作者 窦宝锋 顾彪 史庆军 《佳木斯大学学报(自然科学版)》 CAS 2002年第1期5-8,共4页
研究了 ECR- PAMOCVD在蓝宝石衬底上生长 Ga N外延层时衬底的清洗方法和缓冲层结构对于 Ga N晶体质量的影响 ,提出了新的衬底清洗方法和双缓冲层结构 .实验表明这种方法能够提供一个很好的生长基底 ,可以有效地改善 Ga
关键词 ecr-pamocvd 衬底 清洗方法 双缓冲层 AL2O3 三氧化二铝 GAN薄膜 氮化镓薄膜 低温生长
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Effects of Substrate Pretreatment Conditions on Quality of GaN Epilayer
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作者 QINFu-wen GUBiao 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2003年第1期26-29,40,共5页
The pure cubic GaN(c-GaN) has been grown on (001)GaAs substrates by ECR-PAMOCVD technique at low temperature using TMGa and high pure N2 as Ga and N sources, respectively. The effects of substrate pretreatment conditi... The pure cubic GaN(c-GaN) has been grown on (001)GaAs substrates by ECR-PAMOCVD technique at low temperature using TMGa and high pure N2 as Ga and N sources, respectively. The effects of substrate pretreatment conditions on quality of cubic GaN epilayer are investigated by the measurements of TEM and XRD.It is found that hydrogen plasma cleaning, nitridation and buffer layer growth are very important for quality of cubic GaN epilayer. 展开更多
关键词 ecr-pamocvd Cubic GaN Hydrogen plasma NITRIDATION Buffer layer CLC number:TN312 +.8 Document code:
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