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二茂铁双核铜配合物Cu_2(dmaf)_2(CH_3COO)_4(Ⅰ)和Cu_2(dmaf)_2(C_6H_5COO)_4(Ⅱ)的光谱研究 被引量：1
1
作者 黄尊行 王秀丽 +1 位作者 张汉辉 郭鸿旭 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期647-650,共4页
室温下合成了含有二茂铁基的双核铜配合物Cu2 (dmaf) 2 (CH3 COO) 4 (Ⅰ )和Cu2 (dmaf) 2 (C6H5COO) 4(Ⅱ ) [dmaf=(dimethylaminomethyl)ferrocene]。采用扫描电镜半定量测定标题化合物成分 ,用X射线衍射法测试 ,并确定两者的晶胞参数 ... 室温下合成了含有二茂铁基的双核铜配合物Cu2 (dmaf) 2 (CH3 COO) 4 (Ⅰ )和Cu2 (dmaf) 2 (C6H5COO) 4(Ⅱ ) [dmaf=(dimethylaminomethyl)ferrocene]。采用扫描电镜半定量测定标题化合物成分 ,用X射线衍射法测试 ,并确定两者的晶胞参数 ,发现两者有相似的晶体结构。最后对标题物的红外、远红外、固体漫反射电子光谱、循环伏安法 (CV)等谱学性质进行深入研究。结果表明 ,两个配合物紫外吸收波段分别为 2 34～2 6 9nm和 2 4 5～ 2 80nm ,在可见光区出现了一个d d跃迁宽域带 ,其循环伏安曲线表明 ,两个化合物的氧化还原电位分别为 0 5 3,0 37和 0 6 2 ,0 36V。 展开更多
关键词 二茂铁双核铜配合物 Cu2(dmaf)2(CH3COO)4 Cu2(dmaf)2(C6H5COO)4 光谱研究 电化学性质
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TC4钛合金表面纳米级磁力研磨的实验研究
2
作者 范登胜 王荣杰 +1 位作者 孙旭 邹世清 《现代制造工程》 北大核心 2025年第11期74-80,42,共8页
为实现TC4钛合金表面的高效光整,提出了双磁极磁力研磨(DMAF)法。首先,设计了9种不同的磁极组合,并利用ANSYS Maxwell有限元软件对其分别进行磁力线分布与磁感应强度的模拟仿真,基于仿真结果,确定最佳的磁极组合;然后,通过主要单因素的... 为实现TC4钛合金表面的高效光整,提出了双磁极磁力研磨(DMAF)法。首先,设计了9种不同的磁极组合,并利用ANSYS Maxwell有限元软件对其分别进行磁力线分布与磁感应强度的模拟仿真,基于仿真结果,确定最佳的磁极组合;然后,通过主要单因素的对比实验,优化多阶段的双磁极磁力研磨的加工参数;最后,得到3个抛光阶段的磨料组合,依次为#100电解铁粉+#2000白刚玉、#200电解铁粉+#8000白刚玉和#450电解铁粉+#w1金刚石,磁极间隙为5 mm,磁极主轴转速为300 r/min,磨料质量比为2∶1。实验结果表明:采用多阶段的双磁极磁力研磨法对TC4工件进行30 min抛光后,其表面的平均表面粗糙度Sa从最初的0.442μm降至8 nm,并且抛光区域已基本实现纳米级镜面抛光效果。 展开更多
关键词 双磁极磁力研磨 TC4钛合金 表面光整 加工参数
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测定痕量铁的化学发光新体系 被引量：3
3
作者 王琼娥 庄惠生 +1 位作者 陈国南 陈丽映 《福州大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1999年第S1期58-59,共2页
研究了亚铁离子催化氟磺酸９ ， １０ － 二甲基吖啶与碱性过氧化氢的化学发光反应， 建立了测定Ｆｅ（ Ⅱ） 的化学发光新体系， 并用于红桃Ｋ 生血剂中痕量铁的测定．
关键词 铁 化学发光 氟磺酸9 10-二甲基吖啶
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测定痕量锗的高灵敏度显色反应的研究 被引量：5
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作者 李士和 张阅军 李生泉 《山西农业大学学报》 CAS 1993年第4期374-377,共4页
本文较详细地研究了锗—对二甲氨基苯基荧光酮—十六烷基三甲基溴化铵显色体系水相光度法则定痕量锗的新方法。络合物的最大吸收峰在504mm 处,表观摩尔吸光系数为1.52×10~5L·mol^(-1)·cm^(-1),Sandell 灵敏度为4.77×... 本文较详细地研究了锗—对二甲氨基苯基荧光酮—十六烷基三甲基溴化铵显色体系水相光度法则定痕量锗的新方法。络合物的最大吸收峰在504mm 处,表观摩尔吸光系数为1.52×10~5L·mol^(-1)·cm^(-1),Sandell 灵敏度为4.77×10^(-4)μgG_e/cm^2。锗(Ⅳ)含量在0～7μg/25mL 范围内遵守比尔定律。方法用予煤炭中痕量锗的测定,结果满意。 展开更多
关键词 锗 测定 高灵敏度 显色反应
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浅谈美国原料药DMF的编写
5
作者 刘琪 《汉中科技》 2012年第3期23-23,14,共2页
DMF是提交给美国FDA关于药品生产全过程的一份文件。本文从编写格式、内容及其真实性等方面简单介绍了原料药DMF的编写。
关键词 美国 原料药 dmaf 编写 CTD
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