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3M Sof-Lex^(TM)、EVE DIAPRO及道邦玻璃陶瓷对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果的对比
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作者 付曼 裴飞 +1 位作者 李爱芹 陈卓 《医学研究杂志》 2025年第3期120-125,共6页
目的比较3M Sof-Lex^(TM)、EVE DIAPRO及道邦玻璃陶瓷3种抛光套装工具对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果的影响。方法选取临床修复材料IPS e.max CAD玻璃陶瓷制作修复体120个,按表面处理方法分成4组:3M组(采用3M Sof-Lex^(TM)抛光套装)... 目的比较3M Sof-Lex^(TM)、EVE DIAPRO及道邦玻璃陶瓷3种抛光套装工具对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果的影响。方法选取临床修复材料IPS e.max CAD玻璃陶瓷制作修复体120个,按表面处理方法分成4组:3M组(采用3M Sof-Lex^(TM)抛光套装)、EVE组(采用EVE DIAPRO抛光套装)、Tob组(采用道邦玻璃陶瓷抛光)及对照组(常规上釉处理),每组30个修复体。比较处理后各组的表面粗糙度、光泽度、维氏硬度、断裂韧性、细菌黏附量、色素沉着情况、挠曲强度及牙釉质磨损程度。结果各组维氏硬度比较,差异均无统计学意义(P>0.05);轮廓算数平均偏差(Ra值)从低到高依次为对照组<3M组3M组>EVE组>Tob组,挠曲强度从高到低依次为3M组>对照组>EVE组>Tob组,体积损失量从高到低依次为对照组>Tob组>EVE组>3M组;光泽度、△E值、细菌黏附量、体积损失量各组间比较,差异均无统计学意义(P<0.05),Ra值、Rz值、断裂韧性等3M组与对照组比较,差异均无统计学意义(P>0.05),与EVE组、Tob组比较,差异均有统计学意义(P<0.05)。结论不同抛光处理均能降低IPS e.max CAD全瓷表面粗糙度、细菌黏附量、色素沉着情况及牙釉质磨损程度,提高光泽度、断裂韧性及挠曲强度,其中3M Sof-Lex^(TM)抛光套装综合效果最佳,与上釉效果相似。 展开更多
关键词 3M Sof-Lex^(TM) EVE diapro 道邦玻璃陶瓷 IPS e.max CAD全瓷 抛光效果
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