经由磁控溅射生长的金属薄膜,其电阻率是反映所选取薄膜材料性和性能评估的重要依据。为得到高精度的薄膜电阻率,采用由Pt制备的薄膜电阻进行测试研究,通过范德堡(Van der Pauw)函数的反演优化四线法设计了测试系统,采用交/直流四线方...经由磁控溅射生长的金属薄膜,其电阻率是反映所选取薄膜材料性和性能评估的重要依据。为得到高精度的薄膜电阻率,采用由Pt制备的薄膜电阻进行测试研究,通过范德堡(Van der Pauw)函数的反演优化四线法设计了测试系统,采用交/直流四线方式在该系统上进行实验数据采集。实验结果表明:范德堡修正因子f可以匹配0.7以下的值,增大了系统测试的适用范围;直流四线法更容易受到失调电压和测试电流大小的影响,交流四线法的抗干扰能力优于直流四线法。为了评定系统测试的准确性,将交流四线法测量的结果与美国吉时利生产的Keithley-2400源表和Keithley-2182A纳伏表测量的结果进行对比,其相对误差小于1.92%,为精密薄膜制备的均匀性检测领域提供重要参考,具有实际的应用价值。展开更多
文摘经由磁控溅射生长的金属薄膜,其电阻率是反映所选取薄膜材料性和性能评估的重要依据。为得到高精度的薄膜电阻率,采用由Pt制备的薄膜电阻进行测试研究,通过范德堡(Van der Pauw)函数的反演优化四线法设计了测试系统,采用交/直流四线方式在该系统上进行实验数据采集。实验结果表明:范德堡修正因子f可以匹配0.7以下的值,增大了系统测试的适用范围;直流四线法更容易受到失调电压和测试电流大小的影响,交流四线法的抗干扰能力优于直流四线法。为了评定系统测试的准确性,将交流四线法测量的结果与美国吉时利生产的Keithley-2400源表和Keithley-2182A纳伏表测量的结果进行对比,其相对误差小于1.92%,为精密薄膜制备的均匀性检测领域提供重要参考,具有实际的应用价值。
