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DC-RF混合等离子体温度及流场的数值计算
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作者 陈文波 冯军 +2 位作者 陈伦江 阳璞琼 刘川东 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第12期1191-1197,共7页
直流-射频(DC-RF)混合等离子体在材料合成领域有着较大的优势。为了对这种混合等离子体的特性进行分析,本文采用基于磁流体力学方程的DC-RF等离子体模型,数值分析了操作参数的改变对混合等离子体流场的影响效应。计算结果表明,直流电弧... 直流-射频(DC-RF)混合等离子体在材料合成领域有着较大的优势。为了对这种混合等离子体的特性进行分析,本文采用基于磁流体力学方程的DC-RF等离子体模型,数值分析了操作参数的改变对混合等离子体流场的影响效应。计算结果表明,直流电弧电流及工作气体流量的增加,主要使反应室中心区域处的混合等离子体轴向速度增加,并改变该区域内的温度及流场分布。但对反应室出口位置处的速度及温度分布影响不大。因此,可以通过调节直流电弧电流及工作气体流量的大小来改变混合等离子体的流场分布,从而满足特定材料处理工艺的需要。 展开更多
关键词 直流-射频 混合等离子体 温度分布 流场分布
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基于湍流模型的DC-RF混合等离子体流动及传热特性研究
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作者 陈文波 李自军 +2 位作者 陈伦江 冯军 阳璞琼 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期38-46,共9页
直流-射频(Direct Current-Radio Frequency,DC-RF)混合等离子体具有高温、高化学活性等特点,在核用超细粉末材料制备领域有着广阔的应用前景。对这种混合等离子体的特性进行研究,可以为等离子体发生器装置的设计及稳定运行提供参考。... 直流-射频(Direct Current-Radio Frequency,DC-RF)混合等离子体具有高温、高化学活性等特点,在核用超细粉末材料制备领域有着广阔的应用前景。对这种混合等离子体的特性进行研究,可以为等离子体发生器装置的设计及稳定运行提供参考。本文采用k-ε湍流模型,对DC-RF混合等离子体发生器内的热等离子体的温度及流场空间分布进行模拟,并在此基础上分析了各工作参数对混合等离子体流动及传热特性的影响。模拟结果表明:提高DC弧电流、增大反应气及冷却气流量均能减弱混合等离子体发生器入口处的回流效应;提升RF线圈电流则能增加RF线圈附近的等离子体温度及高温弧区面积,但过大的气流量及过高的线圈电流会对发生器装置的正常工作产生不利影响。因此,需要合理调节各种工作参数来改变混合等离子体的流场分布,从而在保证装置稳定运行的前提下满足不同材料处理的需求。 展开更多
关键词 直流-射频混合等离子体 湍流模型 温度 流场 数值模拟
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Correlation between the whole small recess offset and electrical performance of InP-based HEMTs
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作者 GONG Hang ZHOU Fu-Gui +5 位作者 FENG Rui-Ze FENG Zhi-Yu LIU Tong SHI Jing-Yuan SU Yong-Bo JIN Zhi 《红外与毫米波学报》 北大核心 2025年第1期40-45,共6页
In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate proces... In this work,we investigate the impact of the whole small recess offset on DC and RF characteristics of InP high electron mobility transistors(HEMTs).L_(g)=80 nm HEMTs are fabricated with a double-recessed gate process.We focus on their DC and RF responses,including the maximum transconductance(g_(m_max)),ON-resistance(R_(ON)),current-gain cutoff frequency(f_(T)),and maximum oscillation frequency(f_(max)).The devices have almost same RON.The g_(m_max) improves as the whole small recess moves toward the source.However,a small gate to source capacitance(C_(gs))and a small drain output conductance(g_(ds))lead to the largest f_(T),although the whole small gate recess moves toward the drain leads to the smaller g_(m_max).According to the small-signal modeling,the device with the whole small recess toward drain exhibits an excellent RF characteristics,such as f_(T)=372 GHz and f_(max)=394 GHz.This result is achieved by paying attention to adjust resistive and capacitive parasitics,which play a key role in high-frequency response. 展开更多
关键词 InP high-electron-mobility transistor(InP HEMT) INGAAS/INALAS DC/RF characteristic smallsignal modeling double-recessed gate process
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Design of Dipoles for the RF Energy Harvesting System Dedicated to GSM Applications
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作者 Abdoul Karim Mbodji Mohamed El Moctar +1 位作者 Malang Kambaye Ousmane Dieme 《Energy and Power Engineering》 2025年第1期1-12,共12页
Nowadays, we are witnessing an era marked by the autonomy of wireless devices and sensor networks without the aid of batteries. RF energy harvesting therefore becomes a promising alternative for battery dependence. Th... Nowadays, we are witnessing an era marked by the autonomy of wireless devices and sensor networks without the aid of batteries. RF energy harvesting therefore becomes a promising alternative for battery dependence. This work presents the design of an RF energy harvesting system consisting mainly of a rectenna (antenna and rectification circuit) and an adaptation circuit. First of all, we designed two dipole type antennas. One operates in the GSM 900 MHz band and the other in the GSM 1800 MHz band. The performances of the proposed antennas are provided by the ANSYS HFSS software. Secondly, we proposed two rectification circuits in order to obtain conversion efficiencies at 0 dBm of 64% for the system operating at the frequency of 900 MHz and 37% for the system at the frequency of 1800 MHz RF-DC. The rectifiers used are based on Schottky diodes. For maximum transfer of power between the antenna and the rectification circuit, L-type matching circuits have been proposed. This rectifier offers DC voltage values of 806 mV for the circuit at the frequency of 900 MHz and 616 mV for the circuit at the frequency of 1800 MHz. The adaptation circuits are obtained by carrying out simulations on the ADS (Advanced Design System) software. 展开更多
关键词 RECTENNA ANTENNA RF-DC Conversion Schottky Diode Efficiency RF Energy Harvesting
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基于注入锁相的磁控管微波源系统稳定性研究与测试 被引量:3
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作者 郭永杰 郭庆功 《现代电子技术》 2013年第9期147-150,共4页
基于5.8 GHz磁控管,研制测试了输出功率、频率稳定以及相位可控的大功率微波源系统。磁控管是整个系统的核心器件,由于其具有较高的DC-RF转换效率和功率质量比,选择磁控管作为系统的微波发生器。然而磁控管的输出频率不稳定、相位不可控... 基于5.8 GHz磁控管,研制测试了输出功率、频率稳定以及相位可控的大功率微波源系统。磁控管是整个系统的核心器件,由于其具有较高的DC-RF转换效率和功率质量比,选择磁控管作为系统的微波发生器。然而磁控管的输出频率不稳定、相位不可控,因此研究了以注入锁相和DDS+PLL频率合成为关键技术的相位控制系统,以实现对磁控管微波源系统输出信号频率和相位的控制,并测试了微波源系统输出功率、频率的稳定性以及相位控制系统的相位精度。测试显示微波源具有670 W的稳定输出功率,且频率稳定度≤10kHz,相位精度≤±2°。 展开更多
关键词 微波源 磁控管 dc-rf转换 相位控制
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类金刚石膜结构的红外分析 被引量:9
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作者 程宇航 吴一平 +3 位作者 陈建国 乔学亮 谢长生 孙育斌 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期508-512,共5页
采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp... 采用直流-射频等离子化学气相沉积方法制备出类金刚石薄膜,用Fourier透射谱和吸收谱对类金刚石膜的结构进行了研究.类金刚石膜中大部分碳原子以sp3组态存在.结合在膜中的氢原子与碳原子之间可形成sp3C—CH2,sp3C—CH3和sp2C—CH2基,其含量以sp3C—CH2基为主.增加Ar气分压与提高极板负偏压对类金刚石膜结构产生的影响是相似的,增大极板负偏压或Ar气的含量将减小类金刚石膜中sp3/sp2比值和H的含量以及CH2基的含量,同时增加薄膜的交联,减少聚合相的含量. 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 结构 红外光谱 气相沉积
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氮流量比对直流/射频磁控溅射CrN涂层耐腐蚀性的影响 被引量:4
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作者 谈淑咏 吴湘君 +1 位作者 张旭海 蒋建清 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期1246-1250,共5页
采用直流/射频磁控溅射法,在不同氮流量比条件下制备了CrN涂层。利用扫描电镜、X射线衍射、显微硬度计和电化学测试系统研究了氮流量比对涂层组织和性能的影响,并对涂层腐蚀机制进行了初步探讨。研究结果表明:不同氮流量比条件下,直流溅... 采用直流/射频磁控溅射法,在不同氮流量比条件下制备了CrN涂层。利用扫描电镜、X射线衍射、显微硬度计和电化学测试系统研究了氮流量比对涂层组织和性能的影响,并对涂层腐蚀机制进行了初步探讨。研究结果表明:不同氮流量比条件下,直流溅射CrN涂层呈现明显的柱状晶,组织疏松,而射频溅射涂层结构都比较致密,导致射频涂层的耐腐蚀性明显优于直流涂层;在直流条件下,氮流量比为70%时的CrN涂层耐蚀性最佳。 展开更多
关键词 直流 射频磁控溅射 CRN涂层 氮流量比 耐腐蚀性
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高质量类金刚石薄膜的制备与性能分析 被引量:2
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作者 王涛 刘磊 +5 位作者 陈果 何小珊 张玲 何智兵 易勇 杜凯 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期1145-1152,共8页
采用直流/射频耦合磁控溅射法在Si(100)衬底上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜。利用Raman光谱仪、X射线光电子能谱仪表征不同射频功率下所制备薄膜的化学结构,讨论射频功率对薄膜化学结构的影响。采用X射线小角反射法表征薄膜的质量密度,... 采用直流/射频耦合磁控溅射法在Si(100)衬底上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜。利用Raman光谱仪、X射线光电子能谱仪表征不同射频功率下所制备薄膜的化学结构,讨论射频功率对薄膜化学结构的影响。采用X射线小角反射法表征薄膜的质量密度,利用曲率弯曲法表征薄膜的残余内应力,采用扫描电镜和原子力显微镜表征所制备薄膜的表面形貌与粗糙度。研究表明:薄膜中sp3键的含量随着射频功率的增加而呈现出先增大后减小的趋势,且在射频功率为40 W时达到最大值45.6%。随着射频功率的增加,薄膜的表面粗糙度呈现出先减小后增大的趋势,当射频功率为40 W时薄膜的表面粗糙度最小,为1.6 nm。直流/射频耦合磁控溅射法在不同射频功率下制备出的薄膜,其内应力均低于1.0 GPa,薄膜质量密度的变化范围为2.26~2.44 g/cm^3,有望成功制备出内应力低、密度高的高质量DLC薄膜。 展开更多
关键词 直流/射频耦合磁控溅射 类金刚石薄膜 射频功率 质量密度
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磁力梯度测量技术的新发展 被引量:5
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作者 潘琦 刘得军 +2 位作者 程星 翟颖 郭宇 《地球物理学进展》 CSCD 北大核心 2018年第6期2568-2574,共7页
本文从磁法勘探角度出发,首先介绍了三种传统的磁通门探头,分别为经典式、三端式和非晶探头三类.然后介绍了一种较为先进的微型磁通门传感器,按磁芯材料可分为单芯、双芯和环芯三类.之后重点介绍了超导量子干涉仪(SQUID)的基本概念、发... 本文从磁法勘探角度出发,首先介绍了三种传统的磁通门探头,分别为经典式、三端式和非晶探头三类.然后介绍了一种较为先进的微型磁通门传感器,按磁芯材料可分为单芯、双芯和环芯三类.之后重点介绍了超导量子干涉仪(SQUID)的基本概念、发展历史和种类分类.从偏置电流方面可分为直流和射频SQUID传感器;从工作温度方面可分为高温超导和低温超导SQUID传感器,并每一类SQUID的工作原理、研究现状和性能特点. 展开更多
关键词 磁通门 超导量子干涉磁力仪(SQUID) 直流和射频 高温超导和低温超导
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InGaP/GaAs HBT器件的制备及其特性 被引量:3
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作者 周国 何先良 +3 位作者 谭永亮 杜光伟 孙希国 崔玉兴 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期279-282,320,共5页
采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得... 采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得到:保留InGaP钝化层的HBT器件最大直流增益(β)为130,最高振荡频率(fmax)大于53 GHz,功率附加效率达到61%,线性功率增益为23 dB;而去除InGaP钝化层的器件最大β为50,f_(max)大于43 GHz,功率附加效率为57%,线性功率增益为18 dB。测试结果表明,InGaP钝化层作为一种耗尽型的钝化层能有效抑制基区表面电流的复合,提高器件直流增益,改善器件的射频微波特性。 展开更多
关键词 InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT) InGaP钝化 直流增益 射频微波特性 表面复合
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直流/射频反应磁控溅射法制备W掺杂VO_X薄膜的工艺和性能 被引量:1
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作者 聂竹华 李合琴 +2 位作者 都智 储汉奇 宋泽润 《真空》 CAS 北大核心 2011年第4期65-68,共4页
用直流/射频反应磁控共溅射法分别在玻璃和单晶硅片基底上制备VOX薄膜和W掺杂VOX薄膜,经退火后,对薄膜进行电阻-温度特性、XRD、表面形貌等测试。结果表明:当溅射气压为1.5 Pa、氧氩比为0.8:25 sccm、V靶采用100 W直流电源、W靶10 W射... 用直流/射频反应磁控共溅射法分别在玻璃和单晶硅片基底上制备VOX薄膜和W掺杂VOX薄膜,经退火后,对薄膜进行电阻-温度特性、XRD、表面形貌等测试。结果表明:当溅射气压为1.5 Pa、氧氩比为0.8:25 sccm、V靶采用100 W直流电源、W靶10 W射频电源共溅射制备的W掺杂VOX薄膜,经Ar气氛中450℃退火2 h后,薄膜相变温度由未掺杂时的68℃降低到40℃左右。XRD衍射结果表明部分W原子进入了VOX晶格;另外单晶硅片上制备的VOX薄膜的电阻温度系数和电阻值均大于玻璃基片上制备的薄膜。 展开更多
关键词 直流 射频磁控共溅射 VOx薄膜 W掺杂 相变温度 基底
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涤纶基材表面沉积Ag/ZnO复合膜形貌结构及性能研究 被引量:1
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作者 孟灵灵 黄新民 +1 位作者 魏取福 王小慧 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第3期175-178,共4页
以组织结构不同的纯涤纶非织造布、机织布、针织布作为基材,采用直流射频共溅法,在织物表面沉积Ag/ZnO复合膜,通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪对镀膜织物的表面形貌以及结构成分进行分析,测试了镀膜织物的抗静电、... 以组织结构不同的纯涤纶非织造布、机织布、针织布作为基材,采用直流射频共溅法,在织物表面沉积Ag/ZnO复合膜,通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪对镀膜织物的表面形貌以及结构成分进行分析,测试了镀膜织物的抗静电、抗紫外线性能。结果表明:沉积Ag/ZnO复合膜后,机织布表面最不平整,针织布表面最平整;纯涤纶非织造布的结晶度较低。X射线光电子能谱表征证明Ag以单质形式存在于纯涤纶非织造布表面;纯涤纶非织造布的抗静电性最差,针织布最好;机织布抗紫外线性能最好,纯涤纶非织造布最差。 展开更多
关键词 直流射频共溅法 Ag/ZnO复合膜 结构 性能
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发射极镇流电阻对In_(0.49)Ga_(0.51)P/GaAs HBT特性的影响 被引量:1
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作者 石瑞英 孙海锋 +2 位作者 袁志鹏 罗明雄 汪宁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期831-835,共5页
在发射极加一个镇流电阻可以解决在多个 HBT并联时 ,常常出现电流坍塌的问题 .研究了发射极镇流电阻对 In0 .4 9Ga0 .51 P/ Ga As HBT直流及高频特性的影响 。
关键词 发射极镇流电阻 In0.49Ga0.51P/GaAs HBT 直流特性 高频特性 EEACC 1350F 2560B 2560J 2560Z
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DC~30GHz并联接触式RF MEMS开关的设计与制造 被引量:6
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作者 侯智昊 刘泽文 李志坚 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1922-1927,共6页
对适用于DC~30GHz频率的并联接触式RF MEMS开关的设计与制造进行了研究。利用低应力电镀Au桥膜作为上电极,实现了接触电极之间的Au-Au接触。使用BorofloatTM玻璃作为衬底,并用隔离电阻对内置射频信号与驱动电极旁路进行隔离;通过对上... 对适用于DC~30GHz频率的并联接触式RF MEMS开关的设计与制造进行了研究。利用低应力电镀Au桥膜作为上电极,实现了接触电极之间的Au-Au接触。使用BorofloatTM玻璃作为衬底,并用隔离电阻对内置射频信号与驱动电极旁路进行隔离;通过对上电极桥膜与CPW间距的优化设计,使开关具有较低的插入损耗。所设计制造的并联接触式RF MEMS开关的下拉电压为60V,上下电极的接触电阻为0.1Ω。插入损耗为-0.03dB@1GH,-0.13dB@10GHz和-0.19dB@20GHz,在DC~30GHz的插入损耗都<-0.5dB;隔离度为-47dB@1GHz,-30dB@10GHz和-25dB@20GHz,在DC~30GHz的隔高度都>-23dB。测试结果表明,所设计的并联接触式RF MEMS开关适用频率为DC~30GHz,是一种应用频率范围较宽的RF MEMS开关。 展开更多
关键词 微机电系统 RF MEMS开关 并联接触
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低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究 被引量:1
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作者 张宽翔 彭寿 +3 位作者 姚婷婷 曹欣 金克武 徐根保 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期818-823,共6页
采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备... 采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10^(-4)Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10^(-4)Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。 展开更多
关键词 直流射频耦合磁控溅射 AZO薄膜 工作压强 绒面
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辉光放电质谱仪的历史现状与未来 被引量:3
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作者 杭纬 杨成隆 +3 位作者 苏永选 杨芃原 王小如 黄本立 《质谱学报》 EI CAS CSCD 1996年第2期8-14,共7页
本文介绍辉光放电(GlowDischarge,GD)作为质谱仪离子源的发展过程,叙述了多种形式的辉光放电离子源的特性及应用,并就辉光放电质谱仪做为分析手段与其他分析方法进行了比较,对该领域的杰出人士及辉光放电商品仪器... 本文介绍辉光放电(GlowDischarge,GD)作为质谱仪离子源的发展过程,叙述了多种形式的辉光放电离子源的特性及应用,并就辉光放电质谱仪做为分析手段与其他分析方法进行了比较,对该领域的杰出人士及辉光放电商品仪器进行了介绍,最后根据专家们的分析,探讨了辉光放电质谱仪的未来工作方向。 展开更多
关键词 辉光放电质谱仪 离子源 原子光谱仪 辉光放电
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毫米波串联接触式RF MEMS开关的设计与制造 被引量:6
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作者 侯智昊 朱锋 +1 位作者 郁元卫 朱健 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期141-144,共4页
设计了一种应用于毫米波波段的串联接触式RF MEMS开关。为了在毫米波波段获得较高的隔离度,通过使用短截线结构,以降低输入输出端口的耦合电容。为了获得可靠的金属接触,设计了一种改进型的"蟹形"桥结构。测试结果显示,在30G... 设计了一种应用于毫米波波段的串联接触式RF MEMS开关。为了在毫米波波段获得较高的隔离度,通过使用短截线结构,以降低输入输出端口的耦合电容。为了获得可靠的金属接触,设计了一种改进型的"蟹形"桥结构。测试结果显示,在30GHz,插入损耗为-0.3dB,隔离度为-20dB。在DC~40GHz的频率范围内,插入损耗优于-0.5dB,隔离度优于-20dB。所设计的串联接触式RF MEMS开关,可应用于20~40GHz的频率范围内。 展开更多
关键词 射频微机电系统开关 串联接触式 毫米波
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射频/直流磁控溅射316L不锈钢/陶瓷复合薄膜组织与性能的研究 被引量:1
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作者 胡社军 温伟祥 +6 位作者 曾鹏 吴起白 谢光荣 黄拿灿 胡显奇 盛钢 盛忠 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第4期61-64,共4页
利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L 不锈钢/SiO_2(Al_2O_3)复合膜,研完了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明,溅射316L 不锈钢薄膜和316L/SiO_2(Al_2O_3)复合薄膜都呈柱状晶结构.主要由Fe-Cr 和γ-Fe 相构成;溅... 利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L 不锈钢/SiO_2(Al_2O_3)复合膜,研完了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性。结果表明,溅射316L 不锈钢薄膜和316L/SiO_2(Al_2O_3)复合薄膜都呈柱状晶结构.主要由Fe-Cr 和γ-Fe 相构成;溅射316L 不锈钢薄膜在 Fe-Cr(110)晶面出现明显的择优取向;由于射频溅射陶瓷的掺合.使316L 不锈钢/陶瓷复合薄膜柱状晶细化.并出现二次柱状晶,在 Fe-Cr(211)晶面出现明显的择优取向.尽管316L 不锈钢/陶瓷复合膜的显微硬度相对于磁控溅射316L 薄膜提高不大,但其抗磨损性能明显提高,以316L/Al_2O_3复合膜尤为显著。 展开更多
关键词 射频/真流磁控溅射 316L不锈钢 陶瓷 复合薄膜 组织 性能
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CAEP太赫兹自由电子激光首次饱和出光 被引量:9
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作者 黎明 杨兴繁 +31 位作者 许州 束小建 鲁向阳 黄文会 王汉斌 窦玉焕 沈旭明 单李军 邓德荣 徐勇 柏伟 冯第超 吴岱 肖德鑫 王建新 罗星 周奎 劳成龙 闫陇刚 张鹏 张浩 和天慧 林司芬 潘清 李相坤 李鹏 刘宇 杨林德 刘婕 张德敏 李凯 陈亚男 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期1-2,共2页
中国工程物理研究院基于超导射频直线加速器的谐振腔型太赫兹自由电子激光(CTFEL)于2017年8月29日16时首次饱和出光,并稳定运行,中心频率2.56THz,谱宽1.9%,宏脉冲平均功率大于5.7 W。
关键词 自由电子激光 太赫兹 光阴极直流高压电子枪 射频超导加速器 平面型波荡器
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RF/DC溅射316L/SiO_2复合膜力学性能与显微结构的研究 被引量:1
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作者 温伟祥 胡社军 +6 位作者 曾鹏 吴起白 谢光荣 黄拿灿 胡显奇 盛钢 盛忠 《真空》 CAS 北大核心 2001年第2期30-32,共3页
利用射频 /直流磁控溅射法制备了 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜 ,并对其组织、相结构和力学性能进行了测试分析。结果表明 :直流磁控溅射 316 L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要由 Fe- Cr和 - Fe相构成 ,在 Fe-Cr(110 )晶面出现明显择优... 利用射频 /直流磁控溅射法制备了 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜 ,并对其组织、相结构和力学性能进行了测试分析。结果表明 :直流磁控溅射 316 L不锈钢薄膜呈柱状晶结构 ,主要由 Fe- Cr和 - Fe相构成 ,在 Fe-Cr(110 )晶面出现明显择优取向 ;由于 Si O2 的掺合 ,使 316 L不锈钢 / Si O2 复合薄膜柱状晶变细小 ,出现明显的二次柱状晶 ,Fe- Cr的 (110 )晶面择优取向消失 ,而 Fe- Cr的 (2 11)晶面衍射峰强度明显增强 ,316不锈钢膜硬度明显高于 316 L块体 ,掺入 Si O2 的金属 展开更多
关键词 RF/DC溅射 316L不锈钢 二氧化硅 金属基陶瓷增强复合膜 显微结构 力学性能
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