期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
DBD-PECVD法制备高疏水性氟碳聚合物(a-C:F)薄膜的研究 被引量:1
1
作者 尹晔珺 李东明 +3 位作者 刘东平 谷建东 牛金海 冯志庆 《大连民族学院学报》 CAS 2009年第1期45-50,共6页
以C4F8为放电气体,利用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-PECVD)法制备了氟碳聚合物(a-C:F)薄膜。使用FTIR、AFM、接触角测量仪、台阶仪对a-C:F薄膜进行了表征,研究了放电压力及沉积时间对a-C:F薄膜的沉积速率、均方根表面粗糙度(RMS)和a-... 以C4F8为放电气体,利用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-PECVD)法制备了氟碳聚合物(a-C:F)薄膜。使用FTIR、AFM、接触角测量仪、台阶仪对a-C:F薄膜进行了表征,研究了放电压力及沉积时间对a-C:F薄膜的沉积速率、均方根表面粗糙度(RMS)和a-C:F薄膜疏水性的影响。实验结果表明,薄膜的沉积速率随放电压力的升高而增大,最大值为193 nm.min-1;当放电压力较低时,薄膜的RMS值小于1.0 nm;放电压力较高时,薄膜的RMS值大于100 nm。无论是改变放电压力还是沉积时间,a-C:F薄膜均表现出很强的疏水特性,最大接触角(以普通滤纸为基底)可达137°。a-C:F薄膜的表面粗糙度是影响a-C:F薄膜疏水性的重要因素。 展开更多
关键词 dbd--pecvd a—C:F C4F8 接触角 疏水特性
在线阅读 下载PDF
介质阻挡放电常压化学气相沉积技术及其在薄膜制备中的应用 被引量:1
2
作者 徐世友 张溪文 韩高荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第9期75-77,共3页
介质阻挡放电(DBD)是一种可以在常压下工作的放电形式,以这种放电形式为离子源的介质阻挡化学气相沉积(DBD-CVD)技术可以以较高的反应物流量实现多种薄膜的沉积,因而有广阔的应用前景。综述了DBD技术的发展历史及相关理论,着重介绍了DBD... 介质阻挡放电(DBD)是一种可以在常压下工作的放电形式,以这种放电形式为离子源的介质阻挡化学气相沉积(DBD-CVD)技术可以以较高的反应物流量实现多种薄膜的沉积,因而有广阔的应用前景。综述了DBD技术的发展历史及相关理论,着重介绍了DBD-CVD技术及其应用现状,并提出展望。 展开更多
关键词 介质阻挡放电 DBD 化学气相沉积 薄膜制备 半导体
在线阅读 下载PDF
用DBD-PECVD方法合成碳纳米管
3
作者 李飞 李社强 +2 位作者 江南 石晓光 冯克成 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期200-203,共4页
在大气压、较低温度下合成碳纳米管(CNTs),对于大规模的工业生产具有重要的意义。本文介绍了一种介质阻挡放电等离子体增强化学气相沉积(DBDPECVD)的方法,并利用该方法制备碳纳米管。实验是在约0.5个大气压、700℃下,通入氢气和甲烷的... 在大气压、较低温度下合成碳纳米管(CNTs),对于大规模的工业生产具有重要的意义。本文介绍了一种介质阻挡放电等离子体增强化学气相沉积(DBDPECVD)的方法,并利用该方法制备碳纳米管。实验是在约0.5个大气压、700℃下,通入氢气和甲烷的混合气体(CH4/H2为1∶10~1∶20),产生DBD等离子体;衬底为硅片;催化剂是用磁控溅射制备的Ni/Al薄膜,厚度分别为3nm和10nm。在扫描电镜下观察发现,碳纳米管的生长符合底端生长模式。在透射电镜下观察,碳纳米管没有竹节状结构。拉曼光谱分析表明,这种碳纳米管的结构缺陷比较多。 展开更多
关键词 碳纳米管 介质阻挡放电 等离子体增强化学气相沉积 镍催化
在线阅读 下载PDF
A design of experiments approach for the development of plasma synthesized Sn-silicate catalysts for the isomerization of glucose to fructose 被引量:2
4
作者 Toon Witvrouwen Jan Dijkmans +1 位作者 Sabine Paulussen Bert Sels 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期451-458,共8页
The use of non-equilibrium plasmas for the synthesis of heterogeneous catalysts is a field that has not been explored intensively. The main reasons for the recent increase of research activity in this field are relate... The use of non-equilibrium plasmas for the synthesis of heterogeneous catalysts is a field that has not been explored intensively. The main reasons for the recent increase of research activity in this field are related to the advantages that go with the technique of plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The most principal of these advantages are the possibility to avoid the use of environmentally harmful solvents and the one-step nature of the procedure, making it very time and labor efficient. Non-equilibrium plasma technology, more in particular dielectric barrier discharge (DBD) technology, has been applied in this work for the synthesis of hybrid tin-silicate materials to be used as a heterogeneous catalyst in the isomerization of glucose into fructose. Atomizers, innovative devices which make it possible to inject nanosized precursor liquids into the plasma zone, are used instead of applying vapor phase techniques, where the amount of precursor is limited by the vapor pressure of the liquid. A design of experiments approach has been employed to investigate the effect of the plasma parameters, namely gas flow, frequency and power density, on the catalytic properties of the catalysts within a well-defined parameter field. It has been found that indeed these parameters, together with the molar ratio of Si/Sn, have an important influence on the activity, selectivity, and thus yield of the produced chemicals. 展开更多
关键词 PECVD GLUCOSE Sn catalysts heterogeneous catalyst DBD plasma
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部