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工艺条件对CuAlO2透明导电薄膜光电性能的影响
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作者 刘思佳 王华 +1 位作者 许积文 杨玲 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第12期3451-3456,共6页
采用溶胶-凝胶工艺制备CuAlO2透明导电薄膜,研究退火气氛、温度及溶胶浓度对薄膜结构和光电性能的影响。研究表明:薄膜在真空退火下存在金属Cu,导电性能良好;氩气下退火为3R晶型的CuAlO2,导电性能较好;空气下退火CuAlO2相分解为CuAl2O4... 采用溶胶-凝胶工艺制备CuAlO2透明导电薄膜,研究退火气氛、温度及溶胶浓度对薄膜结构和光电性能的影响。研究表明:薄膜在真空退火下存在金属Cu,导电性能良好;氩气下退火为3R晶型的CuAlO2,导电性能较好;空气下退火CuAlO2相分解为CuAl2O4和CuO,几乎不导电。700℃或更低温度退火不能使CuAlO2薄膜充分晶化,但超过800℃时,薄膜中会出现较多孔洞与裂纹。750℃下退火薄膜的导电性最佳,800℃退火薄膜具有最高的透光率和最大带隙值。溶胶浓度为0.35 mol/L时,薄膜电导性最好,超过0.35 mol/L后,薄膜的透光率随溶胶浓度的增大而显著降低。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 cualo2 溶胶-凝胶 工艺条件
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射频磁控溅射制备CuAlO_2薄膜及性能表征 被引量:5
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作者 孙兆奇 汪娴 +2 位作者 李俊磊 朱煜东 宋学萍 《安徽大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2012年第3期13-18,共6页
利用Al(OH)3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60%,平均折射率达2.0,直接带隙为3.86 eV.随着在紫外光源下曝光时间的增加,... 利用Al(OH)3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60%,平均折射率达2.0,直接带隙为3.86 eV.随着在紫外光源下曝光时间的增加,薄膜的接触角从96.3°减小到87.5°,薄膜仍呈现出良好的疏水性. 展开更多
关键词 cualo2薄膜 磁控溅射 浸润性
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热处理气氛对溶胶凝胶法制备CuAlO_2薄膜的影响 被引量:3
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作者 任洋 赵高扬 +3 位作者 李颖 章晨曦 高贇 刘灵军 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期163-167,共5页
采用溶胶凝胶法,通过控制热处理气氛在石英玻璃基片上制备了光电性能优良的CuAlO2薄膜,研究了氧气和氮气对CuAlO2薄膜制备的影响。结果表明,CuAlO2薄膜的制备先后经历了凝胶膜的热分解、无定形薄膜、固相反应、CuAlO2形核与长大4个过程... 采用溶胶凝胶法,通过控制热处理气氛在石英玻璃基片上制备了光电性能优良的CuAlO2薄膜,研究了氧气和氮气对CuAlO2薄膜制备的影响。结果表明,CuAlO2薄膜的制备先后经历了凝胶膜的热分解、无定形薄膜、固相反应、CuAlO2形核与长大4个过程。固相反应阶段前通氧气,能够促进中间产物CuO的生成,之后通氮气可以使中间产物CuO与CuAl2O4发生固相反应生成CuAlO2,最终制备的CuAlO2薄膜结晶状况良好、晶粒较大,表面均匀致密,没有孔洞,电阻率为250Ω.cm,薄膜在700 nm处的透过率为75.5%。 展开更多
关键词 cualo2 薄膜 热处理 气氛 溶胶凝胶
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沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响 被引量:3
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作者 邓赞红 方晓东 +4 位作者 陶汝华 董伟伟 周曙 孟钢 邵景珍 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期281-284,共4页
采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100~180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸~49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸... 采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100~180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸~49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸明显增大,在可见光区的平均透射率下降.室温光致发光谱发现,CuAlO2薄膜在350nm附近有一个自由激子复合发光峰,说明在CuAlO2宽带隙半导体中存在直接带间跃迁,这对于该材料在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 cualo2薄膜 光学带隙 室温光致发光谱
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PLD制备CuAlO_2薄膜的结构与性能研究 被引量:5
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作者 邹友生 汪海鹏 +1 位作者 张亦弛 嘉蓉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期925-930,共6页
通过固相反应烧结在高温下制备出高致密度的纯相CuAlO2陶瓷靶材。采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石和石英衬底上制备了CuAlO2薄膜,为进一提高CuAlO2薄膜性能,对样品进行了退火处理。通过x射线衍射、扫描电镜、紫外.可见光分光光度计和... 通过固相反应烧结在高温下制备出高致密度的纯相CuAlO2陶瓷靶材。采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石和石英衬底上制备了CuAlO2薄膜,为进一提高CuAlO2薄膜性能,对样品进行了退火处理。通过x射线衍射、扫描电镜、紫外.可见光分光光度计和霍尔效应检测仪对样品进行表征,研究了退火条件对薄膜结构、形貌、光学性能和电学性能的影响,并获得了最佳退火工艺参数:退火气氛为一个大气压下的氩气气氛,退火温度1000℃,退火时间30min。在最佳退火条件下,经过退火处理后的CuAl02薄膜在可见光下的光学透过率达70%-80%,带隙宽度3.5eV,电阻率16.67Ω·cm。 展开更多
关键词 p型导电氧化物 cualo2薄膜 脉冲激光沉积 退火处理
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电子束蒸发制备CuAlO_2透明导电膜及光学性质 被引量:6
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作者 刘高斌 王新强 +4 位作者 冯庆 何阿玲 马勇 赵兴强 杨晓红 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1941-1943,共3页
利用烧结的CuAlO2靶材运用电子束蒸发法沉积了p型CuAlO2薄膜样品。在空气中1000℃退火之后,薄膜样品出现了(006)定向结晶,且铜铝原子比满足化学计量。CuAlO2薄膜呈现了很好的透明性,500nm厚的薄膜样品在可见光范围透射率超过了80%。利... 利用烧结的CuAlO2靶材运用电子束蒸发法沉积了p型CuAlO2薄膜样品。在空气中1000℃退火之后,薄膜样品出现了(006)定向结晶,且铜铝原子比满足化学计量。CuAlO2薄膜呈现了很好的透明性,500nm厚的薄膜样品在可见光范围透射率超过了80%。利用光谱分析,CuAlO2薄膜的光学禁带约为3.80eV,其平均折射率约为1.54,同其它方法制备的该薄膜的性能相近。薄膜样品室温电导率约为0.08S/cm。 展开更多
关键词 透明导电膜 P型 cualo2 电子束蒸发
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Cu/Al比对p型透明导电铜铝氧薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 周强 季振国 +2 位作者 赵丽娜 陈琛 王超 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期515-518,共4页
采用将反应物沉淀后涂层及高温固相反应,在石英玻璃衬底上沉积了Cu/Al原子比不同的P型透明导电铜铝氧化物。XRD分析结果表明,样品的成分中包含黑铜矿结构的CuO、铜铁矿结构的CuAlO2、尖晶石结构的CuAl2O4和刚玉结构的Al2O3;X光能谱... 采用将反应物沉淀后涂层及高温固相反应,在石英玻璃衬底上沉积了Cu/Al原子比不同的P型透明导电铜铝氧化物。XRD分析结果表明,样品的成分中包含黑铜矿结构的CuO、铜铁矿结构的CuAlO2、尖晶石结构的CuAl2O4和刚玉结构的Al2O3;X光能谱(EDAX)测试结果表明,样品中的Cu/Al比例随原料中Cu/Al比的增加而增加;导电类型测试表明,利用本方法制备的样品均是P型;电阻率测试表明,当Cu/Al原子比在1.0~1.5变化时试样的电阻率较低,而且电阻率变化不大。 展开更多
关键词 铜铝氧化物 P型导电 透明导电膜 沉淀法
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p型透明导电氧化物CuAlO_2薄膜的研究进展 被引量:7
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作者 李军 兰伟 +2 位作者 张铭 董国波 严辉 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期115-118,共4页
透明导电氧化物(TCO)的出现开拓了光电子器件研究的新领域。但p型TCO的相对匮乏严重制约了透明氧化物半导体(TOS)相关器件的开发与应用。CuAlO2作为一种天然的p型TCO成为近年来p型TCO的研究热点。介绍了p型TCO的研究现状,综述了不同制... 透明导电氧化物(TCO)的出现开拓了光电子器件研究的新领域。但p型TCO的相对匮乏严重制约了透明氧化物半导体(TOS)相关器件的开发与应用。CuAlO2作为一种天然的p型TCO成为近年来p型TCO的研究热点。介绍了p型TCO的研究现状,综述了不同制备方法制备p型CuAlO2薄膜的研究进展,以及在器件方面的应用,并对其前景进行了展望。 展开更多
关键词 透明导电氧化物(TCO) P型TCO cualo2薄膜
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衬底温度对CuAlO_2薄膜的结构与光学性能的影响 被引量:2
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作者 徐继承 谢致薇 杨元政 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2016年第7期42-45,共4页
通过磁控溅射的方法,在不同温度的石英衬底上制备了CuAlO_2薄膜,研究经过退火处理后,CuAlO_2薄膜的表面形貌、物相结构以及光学性能。实验结果表明:随着衬底温度的增加,薄膜的晶粒逐渐形成和长大,表面组织越来越均匀致密,透光性也随之... 通过磁控溅射的方法,在不同温度的石英衬底上制备了CuAlO_2薄膜,研究经过退火处理后,CuAlO_2薄膜的表面形貌、物相结构以及光学性能。实验结果表明:随着衬底温度的增加,薄膜的晶粒逐渐形成和长大,表面组织越来越均匀致密,透光性也随之增强。通过综合比较,可发现:当衬底温度为400℃时,薄膜的整体性能达到最优,XRD谱中的(101)衍射峰最强,晶粒大小均匀,可见光透射率为76.6%,光学带隙宽度为3.69 eV。 展开更多
关键词 cualo2薄膜 磁控溅射 衬底温度 透光性 禁带宽度 表面形貌
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