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电镀法制备超高密度Cu/Sn凸点和Cu/SnAg凸点及其微观形貌研究
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作者 罗灿琳 林畅 +6 位作者 曾煌杰 张永爱 孙捷 严群 吴朝兴 郭太良 周雄图 《光电子技术》 2025年第1期10-17,共8页
以超高密度Cu/Sn微凸点和Cu/SnAg微凸点为研究对象,采用COMSOL软件建立仿真模型,研究了不同焊料凸点高度对键合可靠性的影响;采用电镀法制备Cu/Sn凸点阵列和Cu/SnAg凸点阵列,重点对界面处金属间化合物(Intermetallic compounds,IMC)进... 以超高密度Cu/Sn微凸点和Cu/SnAg微凸点为研究对象,采用COMSOL软件建立仿真模型,研究了不同焊料凸点高度对键合可靠性的影响;采用电镀法制备Cu/Sn凸点阵列和Cu/SnAg凸点阵列,重点对界面处金属间化合物(Intermetallic compounds,IMC)进行研究。结果表明,Cu/SnAg凸点高度的增加有利于降低凸点键合界面应力,从而提高芯片键合可靠性。金属凸点尺寸越小,界面处金属间化合物生长越快,空洞数量越多。雾锡凸点的晶粒尺寸大于亮锡凸点,而且晶界数量较少,使得凸点界面上IMC的生长速度较慢。因此,雾锡凸点能够有效减少凸点界面空洞的形成,SnAg合金替代纯锡材料可以进一步减少凸点界面空洞的形成。通过优化工艺条件,成功制备出点间距为8μm,像素阵列为1920×1080的超高密度Cu/SnAg金属凸点。 展开更多
关键词 cu/sn凸点 cu/snAg凸点 金属间化合物 电镀
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强韧一体Cu/Sn/Ag致密三维网络状接头结构设计与制备
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作者 张宏辉 徐红艳 +1 位作者 张炜 刘璇 《半导体技术》 北大核心 2025年第6期625-632,共8页
为满足大功率电力电子器件耐高温、高可靠性芯片焊接需求,解决Cu/Sn/Ag体系瞬态液相扩散焊接(TLPS)接头脆性大、韧性不足、孔隙率高等问题,通过电镀高纯度Cu@Sn核壳结构复合粉末和物理气相沉积镀覆Ag层,研究了Sn镀层厚度对接头强度和孔... 为满足大功率电力电子器件耐高温、高可靠性芯片焊接需求,解决Cu/Sn/Ag体系瞬态液相扩散焊接(TLPS)接头脆性大、韧性不足、孔隙率高等问题,通过电镀高纯度Cu@Sn核壳结构复合粉末和物理气相沉积镀覆Ag层,研究了Sn镀层厚度对接头强度和孔隙率的影响以及镀覆Ag层厚度对TLPS接头抗氧化性能和韧性的影响。结果表明,Sn镀层厚度为2~3μm时接头本体相孔隙率最低,抗拉强度达到86 MPa;Cu/Sn/Ag体系中Sn镀层厚度为2μm且镀覆Ag层厚度为1μm时,Cu_(3)Sn/Ag3Sn包覆Cu颗粒的三维网络状结构致密接头的弹性模量由Cu@Sn体系中的83 GPa降至Cu@Sn@Ag体系中的75 GPa;通过在Cu基板表面镀Sn和镀Ag等改性处理,提高了Cu/Sn/Ag预成型焊片与直接键合铜(DBC)基板的共面性,实现了焊接界面致密互连。以上结果为Cu/Sn/Ag系统TLPS制备耐高温接头技术提供了研究依据和应用基础。 展开更多
关键词 电力电子器件 瞬态液相扩散焊接(TLPS) cu@sn@Ag复合粉末 三维网络状结构 耐高温接头
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Revealing crystal defects induced Kirkendall voiding in Cu/Sn solder joints
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作者 Qi Zhang Zhiqiang Zhang +7 位作者 Fangyuan Zeng Wenjie Li Jinhao Liu Shubo Ai Yun Zheng Zhe Li Huaiyu Shao Zhi-Quan Liu 《Rare Metals》 2025年第9期6643-6660,共18页
Kirkendall voids(KVs)at the Cu/Sn interface are a typical failure in integrated circuits,leading to solder joint cracking and electrical disconnection.Although the formation of KVs has been attributed to the differenc... Kirkendall voids(KVs)at the Cu/Sn interface are a typical failure in integrated circuits,leading to solder joint cracking and electrical disconnection.Although the formation of KVs has been attributed to the difference in atomic diffusion rates at the Cu/Sn interface,the role of Cu intrinsic"quality"parameters(crystal defects)in this process remains unclear.This work systematically investigated the effects of Cu crystal defects on KVs:Cu substrates with different lattice defects and grain boundaries were prepared using proprietary electrodeposition additives,and the number of defects was quantitatively characterized by micro-strain,geometric dislocation density,and geometric phase analysis.The thermal aging experiments further showed that the formation of intermetallic compounds and KVs was related to crystal defect energy.When the grain boundary energy was higher than the lattice energy,the additional driving force resulted in short-circuit diffusion,causing local Cu depletion and voids.The lowcrystal-defect samples maintained the local Cu/Sn interdiffusion equilibrium,resulting in fewer voids after 1000 h.This study emphasizes that regulating the crystal defects can reduce KVs and provides a new insight for improving the integrated solder joint's reliability. 展开更多
关键词 cu electrodeposition cu/sn solderability Microstructure engineering Crystal defects Kirkendall voids
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电子封装中Cu/Sn/Cu焊点组织演变及温度对IMC立体形貌影响 被引量:6
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作者 梁晓波 李晓延 +1 位作者 姚鹏 李扬 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期49-54,131,共7页
通过电镀的方法在抛磨好的铜基体沉积4μm的锡层,并组合成一个Cu/Sn/Cu结构.分别选择240℃、1 N作为钎焊温度和钎焊压力,在不同的钎焊时间下制备焊点,分析了Cu/Sn/Cu焊点组织演变规律.分别制备了不同钎焊温度下(240,270,300℃)Cu_6Sn_5... 通过电镀的方法在抛磨好的铜基体沉积4μm的锡层,并组合成一个Cu/Sn/Cu结构.分别选择240℃、1 N作为钎焊温度和钎焊压力,在不同的钎焊时间下制备焊点,分析了Cu/Sn/Cu焊点组织演变规律.分别制备了不同钎焊温度下(240,270,300℃)Cu_6Sn_5和Cu_3Sn的立体形貌,分析了温度对Cu_6Sn_5和Cu_3Sn立体形貌的影响规律.结果表明,钎焊30 min后Cu_6Sn_5为平面状,随着钎焊时间的增加逐渐转变成扇贝状.在扇贝底部的Cu_3Sn要比扇贝两侧底部的Cu_3Sn厚.增加钎焊时间锡不断被反应,上下两侧Cu_6Sn_5连成一个整体.继续增加钎焊时间Cu_6Sn_5不断转变成为Cu_3Sn.随着钎焊温度的升高Cu_6Sn_5的立体形貌逐渐由多面体状转变成匍匐状,而Cu_3Sn晶粒随着钎焊温度上升不断减小. 展开更多
关键词 cu/sn/cu焊点 cu3sn cu6sn5 组织演变 立体形貌
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Cu/Sn/Cu界面元素的扩散行为研究现状 被引量:4
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作者 李扬 李晓延 +1 位作者 姚鹏 梁晓波 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2017年第7期17-22,共6页
从老化过程的界面作用和Cu/Sn/Cu界面元素扩散行为等方面,综述了国内外研究动态与进展。随后,着重介绍了老化过程Sn基钎料和Cu基板的界面反应和柯肯达尔孔洞形成的影响因素,并且柯肯达尔孔洞的形成与界面组分元素的扩散直接相关。最后... 从老化过程的界面作用和Cu/Sn/Cu界面元素扩散行为等方面,综述了国内外研究动态与进展。随后,着重介绍了老化过程Sn基钎料和Cu基板的界面反应和柯肯达尔孔洞形成的影响因素,并且柯肯达尔孔洞的形成与界面组分元素的扩散直接相关。最后指出了Cu/Sn/Cu焊点扩散行为研究中存在的问题,提出采用实验与分子动力学模拟相结合的方法开展研究,为以后界面元素扩散的研究起到启发作用。 展开更多
关键词 cu/sn/cu 扩散行为 综述 界面反应 柯肯达尔孔洞 焊点
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Cu/Sn-58Bi-xCe/Cu钎焊接头基体组织和力学性能的研究 被引量:4
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作者 葛进国 杨莉 +2 位作者 宋兵兵 朱路 刘海祥 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2016年第11期239-241,共3页
研究了Ce对Cu/Sn-58Bi/Cu钎焊接头显微组织和力学性能的影响规律。结果表明:Ce颗粒的添加可有效细化钎料基体组织,当Ce添加量为0.5wt%时,组织最为细小弥散,具有较小的Sn-Bi两相片层间距;铺展系数随Ce含量的增加而表现出先上升后下降的趋... 研究了Ce对Cu/Sn-58Bi/Cu钎焊接头显微组织和力学性能的影响规律。结果表明:Ce颗粒的添加可有效细化钎料基体组织,当Ce添加量为0.5wt%时,组织最为细小弥散,具有较小的Sn-Bi两相片层间距;铺展系数随Ce含量的增加而表现出先上升后下降的趋势,Sn-58Bi-0.5Ce钎料表现出较好的铺展性能;Cu/Sn-58Bi-0.5Ce/Cu钎焊接头在获得最佳抗拉强度的同时,仍表现出较好韧性;Ce的最佳添加量为0.5wt%。 展开更多
关键词 cu/sn-58Bi-x Ce/cu焊点 显微组织 铺展性能 拉伸性能
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应用于3D集成的高密度Cu/Sn微凸点键合技术 被引量:2
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作者 独莉 宿磊 +3 位作者 陈鹏飞 张昆 廖广兰 史铁林 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第3期403-407,共5页
3D-IC技术被看作是应对未来半导体产业不断增长的晶体管密度最有希望的解决方案,而微凸点键合技术是实现3D集成的关键技术之一。采用电镀工艺制作了直径为50μm、间距为130μm的高密度Cu/Sn微凸点,分析了不同预镀时间及电流密度对Cu微... 3D-IC技术被看作是应对未来半导体产业不断增长的晶体管密度最有希望的解决方案,而微凸点键合技术是实现3D集成的关键技术之一。采用电镀工艺制作了直径为50μm、间距为130μm的高密度Cu/Sn微凸点,分析了不同预镀时间及电流密度对Cu微凸点形成质量的影响,并使用倒装焊机实现了高密度Cu/Sn微凸点的键合。利用直射式X射线、分层式X射线对键合样片进行无损检测,结果表明键合对准精度高,少量微凸点边缘有锡被挤出,这是由于锡层过厚导致。观察键合面形貌,可以发现Cu和Sn结合得不够紧密。进一步对键合面金属间化合物进行能谱分析,证实存在Cu6Sn5和Cu3Sn两种物质,说明Cu6Sn5没有与Cu充分反应生成稳态产物Cu3Sn,可以通过增加键合时间、减少Sn层厚度或增加退火工艺来促进Cu3Sn的生成。 展开更多
关键词 3D集成 cu/sn微凸点 电镀 键合 金属间化合物
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Cu/Sn-58Bi/Ni焊点液-固电迁移下Cu和Ni的交互作用 被引量:5
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作者 黄明亮 冯晓飞 +1 位作者 赵建飞 张志杰 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期967-974,共8页
采用浸焊方法制备Cu/Sn-58Bi/Ni线性焊点,研究5×103 A/cm2、170℃条件下液-固电迁移对Cu/Sn-58Bi/Ni线性焊点Cu、Ni交互作用以及界面反应的影响。无论电流方向如何,在液-固电迁移过程中焊点均表现为"极性效应",即阳极界... 采用浸焊方法制备Cu/Sn-58Bi/Ni线性焊点,研究5×103 A/cm2、170℃条件下液-固电迁移对Cu/Sn-58Bi/Ni线性焊点Cu、Ni交互作用以及界面反应的影响。无论电流方向如何,在液-固电迁移过程中焊点均表现为"极性效应",即阳极界面金属间化合物(IMC)持续生长变厚,且一直厚于阴极界面的IMC。电迁移显著加快了Cu、Ni原子的交互作用。当电子由Ni流向Cu时,在化学势梯度和电子风力的耦合作用下,Ni原子扩散至阳极Cu侧参与界面反应生成(Cu,Ni)6Sn5类型IMC,同时一定量的Cu原子能够逆电子风扩散到Ni侧,参与界面反应生成(Cu,Ni)6Sn5类型IMC;当电子由Cu流向Ni时,大量的Cu原子扩散至Ni侧,并参与界面反应生成(Cu,Ni)6Sn5类型IMC,然而,Ni原子在逆电子风条件下无法扩散至Cu侧,从而使阴极Cu侧界面始终为Cu6Sn5类型IMC。此外,无论电流方向如何,焊点内都没有出现Bi的聚集。 展开更多
关键词 液-固电迁移 交互作用 cu/sn-58Bi/Ni焊点 界面反应 金属间化合物
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Cu/Sn等温凝固芯片键合工艺研究 被引量:3
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作者 杜茂华 蒋玉齐 罗乐 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2004年第4期467-470,共4页
研究了Cu/Sn等温凝固芯片键合工艺,对等离子体处理、键合气氛、压力以及Sn层厚度等因素对焊层的键合强度的影响进行了分析和优化。实验表明,等离子体处理过程的引入是保证键合质量的重要因素,在功率500W、时间200s的处理条件下,得到了... 研究了Cu/Sn等温凝固芯片键合工艺,对等离子体处理、键合气氛、压力以及Sn层厚度等因素对焊层的键合强度的影响进行了分析和优化。实验表明,等离子体处理过程的引入是保证键合质量的重要因素,在功率500W、时间200s的处理条件下,得到了最大的键合强度;而键合气氛对键合质量有显著的影响,在真空环境下,能得到最佳的键合质量;压力对键合质量的影响较小,施加较小的压力(0.05MPa)即能得到较大的剪切强度;而Sn层厚度对键合质量的影响极小,而较薄的厚度能够缩短键合时间。在最优化条件下,得到的键合强度值全部达到了美军标规定的6.25MPa的强度要求(对于2mm×2mm芯片)。 展开更多
关键词 芯片键合 等温凝固 cu/sn体系 微结构
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Cu/Sn比率对Cu_2SnSe_3薄膜若干物理性质的影响 被引量:1
10
作者 张伟 陈顺礼 汪渊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期630-634,共5页
利用射频(RF)磁控溅射在玻璃基片上共溅射沉积Cu-Sn预制膜。采用固态硒化法,制备Cu/Sn化学计量比在1.87~2.22之间的Cu2SnSe3薄膜。研究了Cu/Sn比率对Cu2SnSe3薄膜的晶体结构、微结构、光学性能以及电学性能的影响。X射线衍射(XRD)结果... 利用射频(RF)磁控溅射在玻璃基片上共溅射沉积Cu-Sn预制膜。采用固态硒化法,制备Cu/Sn化学计量比在1.87~2.22之间的Cu2SnSe3薄膜。研究了Cu/Sn比率对Cu2SnSe3薄膜的晶体结构、微结构、光学性能以及电学性能的影响。X射线衍射(XRD)结果表明,所制备的Cu2SnSe3薄膜为立方晶体结构,具有(111)择优取向;贫铜的Cu2SnSe3薄膜光学带隙Eg随着Cu/Sn比率增大而增大;富铜的Cu2SnSe3薄膜光学带隙Eg随着Cu/Sn比率增大而不变。薄膜电阻率为1.67~4.62mΩ.cm。 展开更多
关键词 cu2snSe3薄膜 cu/sn比率 硒化 物理性质
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Cu/Sn界面固-液反应的扩散-溶解模型研究 被引量:1
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作者 赖忠民 叶丹 《江苏科技大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2016年第1期23-27,32,共6页
研究了不同Sn厚度的Cu/Sn铺展试样在不同温度和时间下固-液界面反应,通过扫描电镜对界面金属间化合物层进行观测,在此基础上提出一种适用于界面固-液反应的扩散-溶解模型,实验结果表明:反应温度和反应时间能够促进Cu/Sn界面IMCs的生长,... 研究了不同Sn厚度的Cu/Sn铺展试样在不同温度和时间下固-液界面反应,通过扫描电镜对界面金属间化合物层进行观测,在此基础上提出一种适用于界面固-液反应的扩散-溶解模型,实验结果表明:反应温度和反应时间能够促进Cu/Sn界面IMCs的生长,这主要是因为温度能够提高Sn,Cu原子的扩散系数,加速了Sn和Cu原子向Cu3Sn/Cu6Sn5界面的扩散,固-液反应时间越长,Sn,Cu原子向Cu3Sn/Cu6Sn5界面的扩散量越大,界面Cu3Sn层和Cu6Sn5层越厚;此外,由于液态Sn中Cu浓度对界面金属间化合物生长的诱导作用,在相同的温度和时间下,Sn中Cu浓度越高,Cu/Sn界面金属间化合物层的厚度越大. 展开更多
关键词 cu/sn界面 金属间化合物 扩散 溶解
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不同Cu/Sn比与IMC-Cu复合微焊点形成速度的相关性
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作者 孙凤莲 李文鹏 潘振 《哈尔滨理工大学学报》 CAS 北大核心 2021年第6期124-130,共7页
为了研究不同Cu/Sn比对复合微焊点IMC-Cu界面生长行为的影响,采用瞬态液相连接技术与热压焊相结合的方法,以泡沫铜、纯Sn和Cu基板为原料,制备IMC-Cu复合微焊点研究不同Cu/Sn比对复合微焊点IMC生长行为影响。结果表明:Cu/Sn比对复合焊点... 为了研究不同Cu/Sn比对复合微焊点IMC-Cu界面生长行为的影响,采用瞬态液相连接技术与热压焊相结合的方法,以泡沫铜、纯Sn和Cu基板为原料,制备IMC-Cu复合微焊点研究不同Cu/Sn比对复合微焊点IMC生长行为影响。结果表明:Cu/Sn比对复合焊点中IMC生长行为影响显著。随着焊点中Sn含量的减少,IMC的生长速度增加。降低复合微焊点中Sn含量有利于反应界面处Cu_(3)Sn的生长;获得全Cu_(3)Sn-Cu复合微焊点的时间随焊点中Sn含量降低而减少。在相同焊接条件下,Sn质量分数为20%的微焊点在焊接25 min时率先生成全Cu_(3)Sn接头,较Sn质量分数为40%时焊接时间缩短了20%。当ω(Sn)在20%~40%范围内,随焊点中Sn含量减少,Cu_(3)Sn的生长速度增加,获得全Cu_(3)Sn-Cu复合微焊点的时间缩短。 展开更多
关键词 IMC-cu复合微焊点 泡沫铜 cu/sn 微观组织
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用于3D集成的精细节距Cu/Sn微凸点倒装芯片互连工艺研究 被引量:4
13
作者 黄宏娟 赵德胜 +3 位作者 龚亚飞 张晓东 时文华 张宝顺 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2021年第2期81-86,共6页
芯片异构集成的节距不断缩小至10μm及以下,焊料外扩、桥联成为焊料微凸点互连工艺的主要技术问题。通过对微凸点节距为8μm的Cu/Sn固液扩散键合的工艺研究,探索精细节距焊料微凸点互连工艺存在的问题,分析Cu/Sn微凸点键合界面金属间的... 芯片异构集成的节距不断缩小至10μm及以下,焊料外扩、桥联成为焊料微凸点互连工艺的主要技术问题。通过对微凸点节距为8μm的Cu/Sn固液扩散键合的工艺研究,探索精细节距焊料微凸点互连工艺存在的问题,分析Cu/Sn微凸点键合界面金属间的化合物,实现了精细节距和高质量的Cu/Sn微凸点互连,获得了节距为8μm、微凸点数为1900个、总面积为3 mm×3 mm的不均匀微凸点阵列,该阵列互连对准误差小于0.5μm,含有200个微凸点菊花链结构的电学导通。 展开更多
关键词 精细节距 倒装芯片 cu/sn互连
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MEMS传感器Cu/Sn共晶键合工艺关键技术研究 被引量:4
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作者 武绍宽 李孟委 +1 位作者 金丽 王俊强 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期96-100,共5页
针对微机电系统(MEMS)传感器电气互连的需求,开发了一种适用于MEMS器件芯片对基板键合的工艺方法。采用蒸发工艺在MEMS器件圆片上沉积厚度为2μm的Cu薄膜和1.5μm的Sn薄膜,在键合基板沉积2μm厚度的Cu金属层形成键合凸点,之后芯片与键... 针对微机电系统(MEMS)传感器电气互连的需求,开发了一种适用于MEMS器件芯片对基板键合的工艺方法。采用蒸发工艺在MEMS器件圆片上沉积厚度为2μm的Cu薄膜和1.5μm的Sn薄膜,在键合基板沉积2μm厚度的Cu金属层形成键合凸点,之后芯片与键合基板在280℃环境中保持30 s、260℃环境中保持15 min,通过Cu和Sn的互溶扩散工艺完成键合,从而实现电气互连。对键合面强度进行标定,计算剪切强度达4.3 MPa。测量键合区导线电气特性,导电性能良好。同时进行了能谱测试,结果表明符合Cu/Sn键合化合物组成成分,为实现芯片与陶瓷基板电气互连提供了一种新方法。 展开更多
关键词 cu/sn键合 键合互连 剪切强度 陶瓷基板
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3D封装用Cu/Sn/Cu焊点的组织与剪切性能研究 被引量:3
15
作者 魏纯纯 陈明和 +1 位作者 孙磊 武永 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期603-608,共6页
研究了250℃温度,不同键合时间对Cu/Sn/Cu焊点的界面金属间化合物(intermetallic compound,IMC)生长行为及剪切性能的影响。结果表明:键合时间由30 min增加到120 min,Cu/Sn/Cu焊点界面IMC的厚度逐渐变厚。当键合时间为30 min时,焊点界面... 研究了250℃温度,不同键合时间对Cu/Sn/Cu焊点的界面金属间化合物(intermetallic compound,IMC)生长行为及剪切性能的影响。结果表明:键合时间由30 min增加到120 min,Cu/Sn/Cu焊点界面IMC的厚度逐渐变厚。当键合时间为30 min时,焊点界面IMC厚度为12.8μm。随着时间增加到120 min,焊点中的液相Sn消耗殆尽,形成了全IMC。在Cu/Sn/Cu焊点中,发现焊点两端界面IMC呈现非对称生长。键合时间为30 min时,焊点界面Cu3Sn的厚度分别为1.73μm(冷端)和0.95μm(热端),冷端IMC的增长速率明显高于热端,主要原因归结于温度梯度。通过对焊点界面IMC进行电子背散射衍射(EBSD)分析,发现存在的大块晶粒组织为Cu6Sn5,而Cu3Sn的晶粒相对较小。根据横截面方向(transverse direction,TD)反极图显示,Cu6Sn5的晶粒取向多平行于[001]与[111]之间。此外,随着键合时间的增加,焊点的剪切强度不断增加,当键合时间为120 min时,焊点的剪切强度由8.5 MPa增加到18.6 MPa,焊点的断裂模式由初始的混合断裂逐渐转变为脆性断裂。 展开更多
关键词 cu/sn/cu焊点 界面金属间化合物 剪切强度 断裂模式
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TSV立体集成用Cu/Sn键合工艺 被引量:1
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作者 张巍 单光宝 杜欣荣 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2015年第4期266-270,共5页
为实现硅通孔(TSV)立体集成多层芯片可靠堆叠,对一种具备低温键合且不可逆特点的Cu/Sn等温凝固键合技术进行了研究。基于Cu/Sn系二元合金平衡相图,分析了金属层间低温扩散反应机理,设计了微凸点键合结构并开展了键合工艺实验。通过优化... 为实现硅通孔(TSV)立体集成多层芯片可靠堆叠,对一种具备低温键合且不可逆特点的Cu/Sn等温凝固键合技术进行了研究。基于Cu/Sn系二元合金平衡相图,分析了金属层间低温扩散反应机理,设计了微凸点键合结构并开展了键合工艺实验。通过优化键合工艺参数,获取了性能稳定的金属间化合物(IMC)层,且剪切力键合强度值达到了国家标准,具备良好的热、机械特性。将其应用到多芯片逐层键合工艺实验当中,成功获取了4层堆叠样品,验证了Cu/Sn等温凝固键合技术在TSV立体集成中的应用潜力。 展开更多
关键词 cu/sn体系 低温键合 等温凝固扩散 硅通孔(TSV) 三维集成
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Cu/Sn原子比对溅射法制备的Cu2SnS3薄膜性能的影响 被引量:1
17
作者 贾宏杰 程树英 +5 位作者 马为民 胡晟 崔广州 林真 周健飞 钟胜铨 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期11171-11174,共4页
利用磁控溅射法在玻璃基片上沉积Sn/Cu叠层前驱体并将前驱体在H2S:N2气氛中硫化制备Cu2SnS3薄膜。制备出Cu/Sn原子比不同的薄膜样品,利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、扫描隧道显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计、Hall测量系统等表征手... 利用磁控溅射法在玻璃基片上沉积Sn/Cu叠层前驱体并将前驱体在H2S:N2气氛中硫化制备Cu2SnS3薄膜。制备出Cu/Sn原子比不同的薄膜样品,利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、扫描隧道显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计、Hall测量系统等表征手段对薄膜进行性能表征。研究了Cu/Sn原子比对Cu2SnS3薄膜性能的影响。结果表明,制备的薄膜是(^-131)晶向择优生长的Cu2SnS3多晶薄膜,当Cu2SnS3薄膜的Cu/Sn原子比为1.91时,获得结晶性能优异、半导体性能满足太阳电池对吸收层要求的P型Cu2SnS3半导体薄膜,此薄膜在其光学吸收边具有较高的光吸收系数2.07×10^4 cm^-1、合适的载流子浓度6.6×10^18 cm^-3、较高的载流子迁移率5.1 cm^2 v^-1s^-1及较窄的禁带宽度0.97 eV。 展开更多
关键词 cu2snS3薄膜 磁控溅射 cu/sn原子比 太阳电池吸收层
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Cu/Sn-58Bi-0.5Ce/Cu钎焊接头的热时效行为 被引量:2
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作者 周仕远 杨莉 +1 位作者 朱路 宋兵兵 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期96-99,共4页
对比研究了不同时效温度下Sn-58Bi和Sn-58Bi-0.5Ce钎焊接头的组织、界面IMC形态、厚度及接头拉伸性能和断口形貌。结果表明:Ce颗粒的添加细化了Sn-58Bi钎料的组织,抑制了Sn-58Bi钎料接头时效过程中组织的粗化、IMC形貌变化及厚度的增... 对比研究了不同时效温度下Sn-58Bi和Sn-58Bi-0.5Ce钎焊接头的组织、界面IMC形态、厚度及接头拉伸性能和断口形貌。结果表明:Ce颗粒的添加细化了Sn-58Bi钎料的组织,抑制了Sn-58Bi钎料接头时效过程中组织的粗化、IMC形貌变化及厚度的增大。随时效温度的升高,Cu/Sn-58Bi-0.5Ce/Cu钎焊接头IMC形貌从扇贝状逐渐趋于平整,厚度逐渐增大,抗拉强度逐渐降低,拉伸断口由韧性断裂转变为脆性断裂。 展开更多
关键词 cu/sn-58Bi-0.5Ce/cu接头 时效温度 界面IMC 力学性能 断口
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Cu/Sn/Cu微焊点界面反应的微观组织 被引量:1
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作者 刘磊 卫国强 韦静敏 《特种铸造及有色合金》 CAS 北大核心 2019年第9期1033-1036,共4页
采用电子背散射衍射(EBSD)技术研究了Cu/Sn/Cu微焊点焊后态以及110℃×400h时效态的界面反应状况。结果表明,Cu/Sn/Cu微焊点界面反应后的组织由Cu6Sn5、Cu3Sn与β-Sn构成。经110℃×400h时效后,β-Sn被大量消耗,Cu6Sn5由焊后态... 采用电子背散射衍射(EBSD)技术研究了Cu/Sn/Cu微焊点焊后态以及110℃×400h时效态的界面反应状况。结果表明,Cu/Sn/Cu微焊点界面反应后的组织由Cu6Sn5、Cu3Sn与β-Sn构成。经110℃×400h时效后,β-Sn被大量消耗,Cu6Sn5由焊后态的扇贝状向多边形块状转变,Cu3Sn仍保持长条状。另外,400h时效后,Cu6Sn5的(0001)面择优取向特点不变,且<0001>晶向平行于RD(轧向)方向。计算取向差角分析400h时效后生成的Cu6Sn5界面类型,发现取向差角分别约为53°、45°、36°,为大角度晶界。组织形貌与晶粒取向分析的结果表明,等温时效对焊点微观组织取向影响较小,但对组织的转变与生长影响极大。 展开更多
关键词 cu/sn/cu微焊点 EBSD 界面反应 组织形貌 晶粒取向
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Cu-Ni交互作用对Cu/Sn/Ni焊点液固界面反应的影响 被引量:5
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作者 黄明亮 陈雷达 赵宁 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期1073-1078,共6页
研究Cu/Sn/Ni焊点在250℃液固界面反应过程中Cu-Ni交互作用对界面反应的影响。结果表明:液固界面反应10 min后,Cu-Ni交互作用就已经发生,Sn/Cu及Sn/Ni界面金属间化合物(IMCs)由浸焊后的Cu6Sn5和Ni3Sn4均转变为(Cu,Ni)6Sn5,界面IMCs形貌... 研究Cu/Sn/Ni焊点在250℃液固界面反应过程中Cu-Ni交互作用对界面反应的影响。结果表明:液固界面反应10 min后,Cu-Ni交互作用就已经发生,Sn/Cu及Sn/Ni界面金属间化合物(IMCs)由浸焊后的Cu6Sn5和Ni3Sn4均转变为(Cu,Ni)6Sn5,界面IMCs形貌也由扇贝状转变为短棒状。在随后的液固界面反应过程中,两界面IMCs均保持为(Cu,Ni)6Sn5类型,但随着反应的进行,界面IMC的形貌变得更加凸凹不平。Sn/Cu和Sn/Ni界面IMCs厚度均随液固界面反应时间的延长不断增加,界面IMCs生长指数分别为0.32和0.61。在液固界面反应初始阶段,Sn/Cu界面IMC的厚度大于Sn/Ni界面IMC的厚度;液固界面反应2 h后,由于Cu-Ni交互作用,Sn/Cu界面IMC的厚度要小于Sn/Ni界面IMC的厚度,并在液固界面反应6 h后分别达到15.78和23.44μm。 展开更多
关键词 cu—Ni交互作用 液-固界面反应 cu sn Ni焊点 金属间化合物
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