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ChCl-LA低共熔溶剂电沉积镍钴镀层析氢性能研究
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作者 刘洋 郝建军 《电镀与精饰》 北大核心 2025年第5期53-58,共6页
本文在氯化胆碱(ChCl)-乳酸(LA)体系下,研究在相同沉积量下不同金属镀层对析氢催化性能的影响,并通过扫描电子显微镜(SEM)进行微观形貌观察,X射线衍射仪(XRD)进行物相结构分析,阴极极化曲线测试(HER)、电化学极化测试(Tafel)以及交流阻... 本文在氯化胆碱(ChCl)-乳酸(LA)体系下,研究在相同沉积量下不同金属镀层对析氢催化性能的影响,并通过扫描电子显微镜(SEM)进行微观形貌观察,X射线衍射仪(XRD)进行物相结构分析,阴极极化曲线测试(HER)、电化学极化测试(Tafel)以及交流阻抗测试(EIS)进行性能表征。结果表明:3种镀层晶形均为多边形结构,晶体由面心立方结构的单质Ni或Co组成,均择优于(220)晶面生长,且Ni-Co合金(200)晶面位置的特征峰总是位于纯镍和纯钴(200)晶面的特征峰之间。在相同沉积量下,3种镀层中Ni-Co镀层具有最低的析氢过电位178.9 mV,最小的析氢反应容抗弧半径,最低的腐蚀电流密度1.452×10–6A/cm2以及最高的阻抗值2410Ω,析氢催化性能及耐蚀性能最优。 展开更多
关键词 chcl-la 电沉积镍钴 电催化析氢
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