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ChCl-LA低共熔溶剂电沉积镍钴镀层析氢性能研究
1
作者
刘洋
郝建军
《电镀与精饰》
北大核心
2025年第5期53-58,共6页
本文在氯化胆碱(ChCl)-乳酸(LA)体系下,研究在相同沉积量下不同金属镀层对析氢催化性能的影响,并通过扫描电子显微镜(SEM)进行微观形貌观察,X射线衍射仪(XRD)进行物相结构分析,阴极极化曲线测试(HER)、电化学极化测试(Tafel)以及交流阻...
本文在氯化胆碱(ChCl)-乳酸(LA)体系下,研究在相同沉积量下不同金属镀层对析氢催化性能的影响,并通过扫描电子显微镜(SEM)进行微观形貌观察,X射线衍射仪(XRD)进行物相结构分析,阴极极化曲线测试(HER)、电化学极化测试(Tafel)以及交流阻抗测试(EIS)进行性能表征。结果表明:3种镀层晶形均为多边形结构,晶体由面心立方结构的单质Ni或Co组成,均择优于(220)晶面生长,且Ni-Co合金(200)晶面位置的特征峰总是位于纯镍和纯钴(200)晶面的特征峰之间。在相同沉积量下,3种镀层中Ni-Co镀层具有最低的析氢过电位178.9 mV,最小的析氢反应容抗弧半径,最低的腐蚀电流密度1.452×10–6A/cm2以及最高的阻抗值2410Ω,析氢催化性能及耐蚀性能最优。
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关键词
chcl-la
电沉积镍钴
电催化析氢
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职称材料
题名
ChCl-LA低共熔溶剂电沉积镍钴镀层析氢性能研究
1
作者
刘洋
郝建军
机构
沈阳理工大学环境与化学工程学院
出处
《电镀与精饰》
北大核心
2025年第5期53-58,共6页
文摘
本文在氯化胆碱(ChCl)-乳酸(LA)体系下,研究在相同沉积量下不同金属镀层对析氢催化性能的影响,并通过扫描电子显微镜(SEM)进行微观形貌观察,X射线衍射仪(XRD)进行物相结构分析,阴极极化曲线测试(HER)、电化学极化测试(Tafel)以及交流阻抗测试(EIS)进行性能表征。结果表明:3种镀层晶形均为多边形结构,晶体由面心立方结构的单质Ni或Co组成,均择优于(220)晶面生长,且Ni-Co合金(200)晶面位置的特征峰总是位于纯镍和纯钴(200)晶面的特征峰之间。在相同沉积量下,3种镀层中Ni-Co镀层具有最低的析氢过电位178.9 mV,最小的析氢反应容抗弧半径,最低的腐蚀电流密度1.452×10–6A/cm2以及最高的阻抗值2410Ω,析氢催化性能及耐蚀性能最优。
关键词
chcl-la
电沉积镍钴
电催化析氢
Keywords
chcl-la
electrodeposition of nickel-cobalt
electrocatalytic hydrogen evolution
分类号
TQ153 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
ChCl-LA低共熔溶剂电沉积镍钴镀层析氢性能研究
刘洋
郝建军
《电镀与精饰》
北大核心
2025
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职称材料
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