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Numerical Simulation of the Multicomponent Mass Transfer during Bridgman Growth of CdZnTe Crystal Using Maxwell-Stefan Diffusion Model
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作者 殷利迎 介万奇 +2 位作者 WANG Tao ZHOU Boru YANG Fan 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2017年第2期349-357,共9页
To reveal the complicated mechanism of the multicomponent mass transfer during the growth of ternary compound semiconductors, a numerical model based on Maxwell-Stefan equations was developed to simulate the Bridgman ... To reveal the complicated mechanism of the multicomponent mass transfer during the growth of ternary compound semiconductors, a numerical model based on Maxwell-Stefan equations was developed to simulate the Bridgman growth of CdZnTe crystal. The Maxwell-Stefan diffusion coefficients in the melt were estimated. Distributions of Zn, Cd, and Te were calculated with variable ampoule traveling rate and diffusion coefficients. The experimental results show that Zn in melt near the growth interface decreases and diffuses from the bulk melt to the growth interface. For Cd, the situation is just the opposite. The coupling effects of Zn and Cd diffusions result in an uphill diffusion of Te at the beginning of the growth. Throughout the growth, the concentration of Te in the melt keeps low near the growth interface but high far from the growth interface. Increasing the ampoule traveling rate will aggravate the segregation of Zn and Cd, and hence deteriorate the uniformity of Te. We also find that not only the diffusion coefficients but also the ratios between them have significant influence on the species diffusions. 展开更多
关键词 semiconducting ternary compounds cdznte crystal growth computer simulation multicomponent mass transfer
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Charge transport performance of high resistivity CdZnTe crystals doped with In/Al 被引量:1
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作者 徐亚东 徐凌燕 +4 位作者 王涛 查刚强 傅莉 介万奇 Sellin P 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期10-13,共4页
To evaluate the charge transport properties of as-grown high resistivity CdZnTe crystals doped with In/Al, the α particle spectroscopic response was measured using an un-collimated 241Am (5.48 MeV) radioactive sour... To evaluate the charge transport properties of as-grown high resistivity CdZnTe crystals doped with In/Al, the α particle spectroscopic response was measured using an un-collimated 241Am (5.48 MeV) radioactive source at room temperature. The electron mobility lifetime products (μτ)e of the CdZnTe crystals were predicted by fitting plots of photo-peak position versus electrical field strength using the single carrier Hecht equation. A TOF technique was employed to evaluate the electron mobility for CdZnTe crystals. The mobility was obtained by fitting the electron drift velocities as a function of the electrical field strengths, where the drift velocities were achieved by analyzing the rise-time distributions of the voltage pulses formed by a preamplifier. A fabricated CdZnTe planar detector based on a low In concentration doped CdZnTe crystal with (μτ)e = 2.3 × 10?3 cm2/V and μe =1000 cm2/(V·s), respectively, exhibits an excellent γ-ray spectral resolution of 6.4% (FWHM = 3.8 keV) for an un-collimated 241Am @ 59.54 keV isotope. 展开更多
关键词 cdznte crystals α particle pulse height spectra charge transport performance In/Al doping
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Carbon Film Coating Used in CdZnTe Crystal Growth
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作者 侯清润 高炬 +1 位作者 王金义 陈纪安 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1997年第2期35-37,共3页
A simple method of carbon film coating used in CdZnTe crystal growth was developed. The optimum parameters were selected. Breakdown of carbon film was commonly seen if Cd reservoir was not used in the crystal growth. ... A simple method of carbon film coating used in CdZnTe crystal growth was developed. The optimum parameters were selected. Breakdown of carbon film was commonly seen if Cd reservoir was not used in the crystal growth. The carbon film was in good condition when the vapor pressure of Cd was kept around 0.1 MPa during crystal growth. 展开更多
关键词 Carbon film coating cdznte crystal growth
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CdZnTe材料的表面钝化新工艺 被引量:4
4
作者 王昆黍 桑文斌 +4 位作者 闵嘉华 腾建勇 张奇 夏军 钱永彪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1475-1479,共5页
研究了一种新的钝化CdZnTe(CZT)器件表面的工艺,即先采用KOH KCl溶液对CZT表面进行处理,再用NH4F/H2O2溶液对其进行表面氧化的二步法钝化工艺.并借助俄歇电子能谱(AES)、微电流测试仪等手段对其表面钝化层的质量进行了鉴别,同时与KOH KC... 研究了一种新的钝化CdZnTe(CZT)器件表面的工艺,即先采用KOH KCl溶液对CZT表面进行处理,再用NH4F/H2O2溶液对其进行表面氧化的二步法钝化工艺.并借助俄歇电子能谱(AES)、微电流测试仪等手段对其表面钝化层的质量进行了鉴别,同时与KOH KCl和NH4F/H2O2两种工艺进行了比较.AES能谱分析表明,采用二步法工艺钝化,既可获得化学计量比较好的CZT表面,又可在表面形成一层起保护作用的氧化层.I V特性曲线显示,两步法钝化后CZT器件的漏电流与KOH KCl和NH4F/H2O2钝化相比都有一定程度的下降.说明文中提出的新工艺在CZT器件制备方面具有良好的应用前景. 展开更多
关键词 cdznte晶体 表面钝化 漏电流 KOH-KCl溶液 NH4F/H2O2溶液
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退火处理对CdZnTe晶体光电性能的影响 被引量:6
5
作者 何亦辉 介万奇 +4 位作者 周岩 刘惠敏 徐亚东 王涛 查钢强 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第2期269-274,共6页
研究了生长态CdZnTe晶体在经历了不同温度和时间的Cd/Zn和Te气氛退火后,其光电性能的变化规律。研究表明,在Cd/Zn气氛下退火180h后,CdznTe晶体中直径在5μm以上的Te夹杂的密度减小了1个数量级,晶体的体电阻率由10^10Ω·cm减... 研究了生长态CdZnTe晶体在经历了不同温度和时间的Cd/Zn和Te气氛退火后,其光电性能的变化规律。研究表明,在Cd/Zn气氛下退火180h后,CdznTe晶体中直径在5μm以上的Te夹杂的密度减小了1个数量级,晶体的体电阻率由10^10Ω·cm减小至~10^7Ω·cm。同时发现,Cd/Zn源区的温度决定了退火后晶体在500~4000cm^-1范围内红外透过率曲线的平直状态,这可能与晶体中的Cd间隙缺陷浓度相关,而与晶体中的载流子浓度和夹杂/沉淀相状态无关。在Te气氛下退火时,发现晶体的红外透过率的平直状态与晶体电阻率的对数lg(p)呈近似线性关系,同样可归因于退火过程中Cd间隙缺陷的浓度变化。 展开更多
关键词 cdznte晶体 红外透过率 Cd间隙 退火
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强化换热对CdZnTe晶体生长过程的影响 被引量:5
6
作者 刘俊成 王友林 郭喜平 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2004年第5期460-466,共7页
为了优化CdZnTe晶体生长过程的工艺参数,利用数值模拟方法研究了强化换热对晶体生长过程固液界面凹陷、溶质组分偏析的影响.结果表明:当坩埚轴向散热强度大幅度增加时,固液界面前沿的对流显著增强;随着凝固过程的进行,固液界面凹陷深度... 为了优化CdZnTe晶体生长过程的工艺参数,利用数值模拟方法研究了强化换热对晶体生长过程固液界面凹陷、溶质组分偏析的影响.结果表明:当坩埚轴向散热强度大幅度增加时,固液界面前沿的对流显著增强;随着凝固过程的进行,固液界面凹陷深度先是显著减小,随后显著增加;晶体起始段溶质组分的径向偏析明显减小,溶质组分轴向等浓度区增长.当坩埚侧面径向散热强度增加时,固液界面前沿的对流和界面凹陷深度先是有所减弱,随后又有较大增加.当坩埚内壁碳膜厚度增加时,界面前沿的对流强度显著减弱,而固液界面凹陷深度明显增加.径向散热和碳膜厚度的增加皆不能明显影响晶体内溶质组分分布. 展开更多
关键词 影响 增加 减弱 膜厚度 体内 前沿 轴向 组分 热强度 坩埚
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钝化处理对CdZnTe Γ射线探测器漏电流的影响 被引量:4
7
作者 李万万 桑文斌 +3 位作者 闵嘉华 郁芳 张斌 王昆黍 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期312-315,共4页
表面漏电流引起的噪声会限制CdZnTe探测器的性能 ,尤其对于共面栅探测器 ,漏电噪声的大小与器件的电极设计和表面处理工艺密切相关。研究了化学钝化的工艺条件对CdZnTe表面状态的影响 ,借助原子力显微镜、电子探针和微电流测试仪等手段 ... 表面漏电流引起的噪声会限制CdZnTe探测器的性能 ,尤其对于共面栅探测器 ,漏电噪声的大小与器件的电极设计和表面处理工艺密切相关。研究了化学钝化的工艺条件对CdZnTe表面状态的影响 ,借助原子力显微镜、电子探针和微电流测试仪等手段 ,研究了CZT表面形貌、组成等特性与器件电学性能之间的关系 。 展开更多
关键词 cdznte晶体 Γ射线探测器 钝化处理 漏电流
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CdZnTe晶体生长用石英管的镀碳工艺研究 被引量:4
8
作者 闵嘉华 桑文斌 +3 位作者 钱永彪 李万万 刘洪涛 樊建荣 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期255-258,共4页
使用金相显微镜、推力分析仪测试等手段研究了镀碳工艺参数对碳膜的表面形貌、碳膜和石英结合力的影响。获得了一个优化的镀碳工艺参数,即在镀碳温度为950~1100℃,气体流量为4~7ml/h,镀碳时间为6h,冷却时间为12h的条件下得到的碳膜较... 使用金相显微镜、推力分析仪测试等手段研究了镀碳工艺参数对碳膜的表面形貌、碳膜和石英结合力的影响。获得了一个优化的镀碳工艺参数,即在镀碳温度为950~1100℃,气体流量为4~7ml/h,镀碳时间为6h,冷却时间为12h的条件下得到的碳膜较为均匀,而且和石英结合的较好。使用该工艺条件镀膜的石英管生长出的CdZnTe晶体表面光洁,位错密度低,约为4×104cm-2。 展开更多
关键词 镀碳 推力分析 cdznte晶体
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HgCdTe外延用的CdZnTe衬底研制 被引量:6
9
作者 刘克岳 王金义 +2 位作者 张学仁 赵宏 张健平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期38-42,共5页
阐述了 Cd Zn Te衬底在红外焦平面阵列探测器研究中的重要性 ;概括了 Cd Zn Te晶体生长的方法、原理和工艺步骤 ;分析了影响晶体质量 (单晶面积、组分及均匀性、结晶完整性、光电特性 )的因素 ,并提出了与质量相关的控制技术 ;介绍了 Cd... 阐述了 Cd Zn Te衬底在红外焦平面阵列探测器研究中的重要性 ;概括了 Cd Zn Te晶体生长的方法、原理和工艺步骤 ;分析了影响晶体质量 (单晶面积、组分及均匀性、结晶完整性、光电特性 )的因素 ,并提出了与质量相关的控制技术 ;介绍了 Cd Zn Te衬底制备过程中 ,晶片处理的工艺和步骤 (晶锭的定向切割、单晶划片、极性鉴别、磨抛、腐蚀 ) ;报道了目前 Cd Zn Te晶体的性能水平、晶片处理结果和 Cd Zn Te的应用情况。 展开更多
关键词 cdznte 晶体半底 红外探测器
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勾形磁场对分离结晶法制备CdZnTe晶体的影响 被引量:4
10
作者 彭岚 周灵敏 +1 位作者 李友荣 文锦雄 《工程热物理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期565-568,共4页
为了了解勾形磁场对CdZnTe晶体生长质量的影响,利用有限元法对坩埚内的热量和动量传递过程进行了全局数值模拟。假定熔体和气相中的流动都为准稳态轴对称层流,研究了B_o(磁场轴线与晶体-坩埚界面的交点的磁场强度的轴向分量)为0 T,0.5 T... 为了了解勾形磁场对CdZnTe晶体生长质量的影响,利用有限元法对坩埚内的热量和动量传递过程进行了全局数值模拟。假定熔体和气相中的流动都为准稳态轴对称层流,研究了B_o(磁场轴线与晶体-坩埚界面的交点的磁场强度的轴向分量)为0 T,0.5 T,1.0 T,1.5 T,2.0 T,2.5 T,3.0 T时的CdZnTe晶体生长过程。结果表明:勾形磁场能有效抑制熔体内的流动,会产生由洛仑兹力、表面张力和浮力共同驱动的涡胞。随着磁场强度的增加,传热向导热型转变,熔体内最大流函数逐渐减小,抑制作用增强。 展开更多
关键词 分离结晶 勾形磁场 cdznte晶体 全局模拟 有限元法
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CdZnTe晶体中微米级富Te相与PL谱的对应关系 被引量:3
11
作者 徐亚东 介万奇 +3 位作者 王涛 俞鹏飞 杜园园 何亦辉 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期359-363,共5页
采用红外透过显微镜(IRTM)观察了不同条件下生长的CdZnTe晶体中微米级富Te颗粒.结合实际生长条件分析了不同富Te颗粒的产生以及形态演化.通过低温光致发光(PL)谱研究了CdZnTe晶体中杂质、缺陷的状态,以及晶体的结晶质量,并测试了相应晶... 采用红外透过显微镜(IRTM)观察了不同条件下生长的CdZnTe晶体中微米级富Te颗粒.结合实际生长条件分析了不同富Te颗粒的产生以及形态演化.通过低温光致发光(PL)谱研究了CdZnTe晶体中杂质、缺陷的状态,以及晶体的结晶质量,并测试了相应晶体的电阻率.归纳出不同富Te颗粒的产生与对应晶体10 K温度下PL谱中特征发光峰之间的关系.研究表明:富Te条件下生长的晶体存在圆形、六边形以及三角形富Te颗粒,PL谱中(D0,X)峰强度占主导;按化学计量比生长的晶体存在十字交叉的富Te颗粒,PL谱中DAP峰强度占主导;Cd过量生长的晶体存在星形富Te颗粒,PL谱中(D0,X)半峰宽较宽. 展开更多
关键词 cdznte晶体 红外透过显微成像 富Te颗粒 PL谱
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坩埚内壁碳膜对Bridgman法生长CdZnTe晶体热应力的影响 被引量:5
12
作者 张国栋 刘俊成 李蛟 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1071-1076,共6页
采用热弹性模型计算了垂直Bridgman(VB)法生长CdZnTe单晶体过程中的应力场,研究了坩埚内壁碳膜的厚度对晶体内热应力的影响.计算结果表明:晶体边缘与坩埚内壁接触位置的热应力远大于晶体中心处的热应力.晶体生长过程中存在两个高应力区... 采用热弹性模型计算了垂直Bridgman(VB)法生长CdZnTe单晶体过程中的应力场,研究了坩埚内壁碳膜的厚度对晶体内热应力的影响.计算结果表明:晶体边缘与坩埚内壁接触位置的热应力远大于晶体中心处的热应力.晶体生长过程中存在两个高应力区:与坩埚接触的晶体底部与顶部(固/液界面下方)区,两个区的最大应力值在凝固过程中迅速增加,在随后的晶体冷却过程中较缓慢增大.增加碳膜厚度可以显著减小晶体边缘的热应力,然而对晶体中心的热应力影响较小.晶体生长完成85%左右时,用涂石墨坩埚生长的晶体比用石英坩埚生长的晶体的最大热应力小55%以上. 展开更多
关键词 cdznte 晶体生长 热应力场 数值模拟
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低压布里奇曼法CdZnTe晶体生长及其热应力模拟 被引量:3
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作者 刘洪涛 桑文斌 +2 位作者 袁铮 闵嘉华 詹峰 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1016-1019,共4页
采用有限元方法,对晶体结晶结束位置处的晶体内部热应力分布进行了数值模拟,结果表明:晶体在石英安瓿内壁附近,变径处以及头部尖端处的热应力较大,应力值约在108N/m2数量级,晶体中部热应力分布较小且比较均匀,约为107N/m2。为了防止晶... 采用有限元方法,对晶体结晶结束位置处的晶体内部热应力分布进行了数值模拟,结果表明:晶体在石英安瓿内壁附近,变径处以及头部尖端处的热应力较大,应力值约在108N/m2数量级,晶体中部热应力分布较小且比较均匀,约为107N/m2。为了防止晶体在生长过程中头部尖端处以及变径处的位错延伸至晶体内部,提出了在不同生长阶段采用不同下降速度,并且在晶体下降至变径处采用“回熔”操作的新工艺。实验结果表明:利用新工艺生长的晶体位错密度明显降低,约为2×102cm-2,同时显著地提高了晶体的利用率。 展开更多
关键词 cdznte晶体生长 热应力模拟 探测器
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CdZnTe核辐射探测器材料与器件研究进展 被引量:13
14
作者 李万万 桑文斌 +2 位作者 王昆黍 闵嘉华 张斌 《上海有色金属》 CAS 2004年第2期87-94,共8页
介绍了CdZnTe晶体作为γ 和X 射线探测器的优点和国内外的研究现状。概括了生长CdZnTe晶体的主要方法及其特点,总结了使用CdZnTe晶体制作的γ 和X 射线探测器的几种主要形式的特点及其应用领域。同时还根据目前的研究情况提出了在CdZnT... 介绍了CdZnTe晶体作为γ 和X 射线探测器的优点和国内外的研究现状。概括了生长CdZnTe晶体的主要方法及其特点,总结了使用CdZnTe晶体制作的γ 和X 射线探测器的几种主要形式的特点及其应用领域。同时还根据目前的研究情况提出了在CdZnTe晶体生长和器件制作方面存在的问题和解决的方向。 展开更多
关键词 核辐射探测器 晶体生长 器件 cdznte 研究进展 能谱仪
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狭缝宽度及坩埚半径对分离结晶法制备CdZnTe晶体的影响 被引量:2
15
作者 彭岚 文锦雄 +1 位作者 李友荣 李震 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第15期2022-2026,共5页
借助有限元法,在常重力条件下对分离结晶过程进行全局数值模拟,研究了狭缝宽度及坩埚半径对CdZnTe晶体生长过程中整体传热与流动特性的影响。模拟结果表明系统内传热特性、熔体流型与狭缝宽度及坩埚半径密切相关:(1)狭缝宽度对分离结晶... 借助有限元法,在常重力条件下对分离结晶过程进行全局数值模拟,研究了狭缝宽度及坩埚半径对CdZnTe晶体生长过程中整体传热与流动特性的影响。模拟结果表明系统内传热特性、熔体流型与狭缝宽度及坩埚半径密切相关:(1)狭缝宽度对分离结晶有决定性的作用,当狭缝宽度较小时,气-液弯界面两端的温差很小,导致增大晶体重新粘附于坩埚壁面的风险;随着狭缝宽度的增大,流动不稳定性增加,很难保持稳定的气-液弯界面形状,增加了实现晶体稳定生长的难度;(2)随着坩埚半径增大,Marangoni对流对熔体流动影响逐渐增大,结晶界面附近的熔体流动不稳定性增加,这不利于晶体的稳定生长。 展开更多
关键词 狭缝宽度 坩埚半径 分离结晶 全局数值模拟 cdznte晶体
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外延衬底用CdZnTe晶体进展 被引量:3
16
作者 刘克岳 王金义 郎维和 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期215-218,共4页
文中简要介绍了CdZnTe晶体用作HgCdTe外延衬底的优点和国内外研究的现状,概括了CdZnTe晶体的生长方法及其特点,总结了影响CdZnTe晶体生长和晶体质量的因素,提出CdZnTe晶体生长中存在的问题和改善晶体质量的措施。
关键词 外延衬底 晶体生长 CZT晶体 碲锌镉
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低阻值In掺杂CdZnTe晶体的退火改性 被引量:4
17
作者 俞鹏飞 介万奇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期21-24,共4页
以Cd1-yZny合金作退火源,对采用改进的垂直布里奇曼法(MVB)生长的In掺杂的Cd0.9Zn0.1Te晶片进行退火改性。结果表明:与退火前相比,退火后晶片的成分均匀性提高,Cd、Zn和Te三种元素的含量更接近理想的化学计量比,平均红外透过率由12%提高... 以Cd1-yZny合金作退火源,对采用改进的垂直布里奇曼法(MVB)生长的In掺杂的Cd0.9Zn0.1Te晶片进行退火改性。结果表明:与退火前相比,退火后晶片的成分均匀性提高,Cd、Zn和Te三种元素的含量更接近理想的化学计量比,平均红外透过率由12%提高到59%,电阻率从3.5×106Ω.cm提高到5.7×109Ω.cm,且在PL谱中出现了代表晶体质量的(D0,X)发光峰。在合适的条件下对低阻值In掺杂的CdZnTe晶体进行退火改性可较好的提高晶体的性能。 展开更多
关键词 cdznte晶体 退火 红外透过率 PL谱
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分离结晶垂直Bridgman法生长CdZnTe晶体的全局数值模拟 被引量:2
18
作者 彭岚 张全壮 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1450-1455,共6页
采用FLUENT软件对分离结晶Bridgman法生长CdZnTe晶体进行了全局数值模拟。模拟对象为:熔体上部边界条件分别为固壁和自由表面时两种晶体生长系统。重点考虑坩埚和晶体之间狭缝宽度e和重力对分离结晶过程的影响。在计算中分别取e=0 mm、0... 采用FLUENT软件对分离结晶Bridgman法生长CdZnTe晶体进行了全局数值模拟。模拟对象为:熔体上部边界条件分别为固壁和自由表面时两种晶体生长系统。重点考虑坩埚和晶体之间狭缝宽度e和重力对分离结晶过程的影响。在计算中分别取e=0 mm、0.5 mm和1 mm三种狭缝宽度,得到了在微重力和常重力条件下的温度分布、结晶界面形状以及流函数分布图。结果表明:在微重力条件下,当熔体上部为固壁时,随着狭缝宽度的增大,热毛细力作用增强,流动强度增强;当熔体上部为自由表面时,则与之相反。在常重力条件下,由于浮力-热毛细对流的共同作用,随着狭缝宽度的增加,流动强度逐渐减弱,有助于提高晶体生长质量。 展开更多
关键词 数值模拟 cdznte晶体 分离结晶
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勾形磁场对分离结晶法生长CdZnTe晶体过程中液层热毛细-浮力对流的影响 被引量:1
19
作者 彭岚 龚欢 张全壮 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期2772-2779,共8页
借助数值模拟手段研究了常重力条件下分离结晶法生长Cd Zn Te晶体过程中液层热毛细-浮力对流,探讨了不同勾形磁场强度和狭缝宽度对流动的影响。计算选取液层的高径比A为1,狭缝宽度S分别为0.05、0.075以及0.1,磁场Hartmann数分别为45、90... 借助数值模拟手段研究了常重力条件下分离结晶法生长Cd Zn Te晶体过程中液层热毛细-浮力对流,探讨了不同勾形磁场强度和狭缝宽度对流动的影响。计算选取液层的高径比A为1,狭缝宽度S分别为0.05、0.075以及0.1,磁场Hartmann数分别为45、90及135。结果表明:勾形磁场能够对液层内热毛细-浮力对流起到抑制的作用,且随着磁场强度的增加,流动失稳的临界Marangoni数增大;随着狭缝宽度S的增大,液层内部流动减弱。 展开更多
关键词 分离结晶 热毛细-浮力对流 勾形磁场 cdznte晶体
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CdZnTe衬底对碲镉汞气相外延表面形貌的影响 被引量:1
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作者 王仍 焦翠灵 +6 位作者 张莉萍 张可锋 陆液 杜云辰 邵秀华 林杏潮 李向阳 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2015年第9期1064-1067,共4页
利用气相外延技术在Cd Zn Te衬底上生长Hg1-xCdxTe薄膜材料,通过在不同晶向、不同极性、不同晶向偏离角度Cd Zn Te衬底上的外延结果发现,Cd Zn Te衬底对外延形貌的影响非常大。(111)面衬底上外延形貌明显优于(211)面衬底的外延形貌。对... 利用气相外延技术在Cd Zn Te衬底上生长Hg1-xCdxTe薄膜材料,通过在不同晶向、不同极性、不同晶向偏离角度Cd Zn Te衬底上的外延结果发现,Cd Zn Te衬底对外延形貌的影响非常大。(111)面衬底上外延形貌明显优于(211)面衬底的外延形貌。对于同是<111>Cd Zn Te晶向的衬底,(111)Cd面Cd Zn Te衬底上的外延形貌明显优于(111)Te面。对于(111)Cd面Cd Zn Te衬底,当晶向偏离角度不同时,其外延形貌也有差异,晶向偏离角越小表面形貌越好。 展开更多
关键词 Hg1-xCdxTe晶体 cdznte衬底 (111)Cd面 (111)Te面
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