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Effect of growth interruption and strain buffer layer on PL performance of AlGaAs/GaAs/InGaAs quantum well for 1065 nm wavelength lasers
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作者 PANJiaoqing HUANGBaibiao +3 位作者 ZHANGXiaoyang YUEJinshun YUYongqin WEIJiyong 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2004年第1期64-67,共4页
Strained InGaAs/GaAs quantum well (QW) was grown by low-pressuremetallorganic chemical vapor deposition (MOCVD). Growth interruption and strain buffer layer wereintroduced to improve the photoluminescence (PL) perform... Strained InGaAs/GaAs quantum well (QW) was grown by low-pressuremetallorganic chemical vapor deposition (MOCVD). Growth interruption and strain buffer layer wereintroduced to improve the photoluminescence (PL) performance of the InGaAs/GaAs quantum well. GoodPL results were obtained under condition of growth an interruption of 10 s combined with a moderatestrain buffer layer. Wavelength lasers of 1064 nm using the QW were grown and processed intodevices. Broad area lasers (100 μm x 500 μm) show very low threshold current densities (43 A/cm^2)and high slop efficiency (0.34 W/A, per facet). 展开更多
关键词 Algaas/gaas/Ingaas strained quantum well MOCVD strain buffer layer growthinterruption laser diodes
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The properties of CdTe solar cells with ZnTe/ZnTe: Cu buffer layers
2
作者 宋慧瑾 Zheng Jiagui +6 位作者 FengLianghuan Yan Qiang Lei Zhi Wu Lili Zhang Jingquan Li Wei Li Bing 《High Technology Letters》 EI CAS 2008年第1期57-60,共4页
CdS/CdTe solar cells with ZnTe/ZnTe: Cu buffer layers were fabricated and studied. The energy band structure of it was analyzed. The C-V, I-V characteristics and the spectral response show that the ZnTe/ZnTe:Cu buff... CdS/CdTe solar cells with ZnTe/ZnTe: Cu buffer layers were fabricated and studied. The energy band structure of it was analyzed. The C-V, I-V characteristics and the spectral response show that the ZnTe/ZnTe:Cu buffer layers improve the back contact characteristic properties, the diode characteristics of the forward junction and the short-wave spectral response of the CdTe solar cells. The ZnTe/ZnTe-Cu buffer layers affect the solar cell conversion efficiencv and its fill factor. 展开更多
关键词 ZnTe/ZnTe: Cu buffer layers cdte solar cells co-evaporation deposition thin film
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Preparation and Interface Studies on HgCdTe/CdTe/GaAs Grown by MOCVD
3
作者 丁永庆 彭瑞伍 +2 位作者 陈记安 杨臣华 陈美霓 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第2期102-106,共5页
When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.... When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.The electrical properties of CMT depend upon the thickness of CdTe epi-layers.The CdTe/GaAs interface was examined by both scanning electron microscope(SEM)and electron auger spectra (EAS).The influence of defects observed at interface on electrical and optical properties of CMT fihns was dis- cussed. 展开更多
关键词 MOCVD Hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas buffer layers INTERFACE Electrical property of CMT
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不同结构的反射式GaAs光电阴极的光谱特性比较 被引量:3
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作者 高频 张益军 《红外技术》 CSCD 北大核心 2011年第7期429-432,共4页
利用分子束外延生长了三种结构的反射式GaAs光电阴极,其中一种为传统结构的反射式GaAs光电阴极,另外两种为具有GaAlAs缓冲层的均匀掺杂和梯度掺杂反射式GaAs光电阴极。激活后的光谱响应测试结果表明,与传统结构的反射式GaAs光电阴极相比... 利用分子束外延生长了三种结构的反射式GaAs光电阴极,其中一种为传统结构的反射式GaAs光电阴极,另外两种为具有GaAlAs缓冲层的均匀掺杂和梯度掺杂反射式GaAs光电阴极。激活后的光谱响应测试结果表明,与传统结构的反射式GaAs光电阴极相比,具有GaAlAs缓冲层的均匀掺杂反射式GaAs光电阴极的长波响应更好,而具有GaAlAs缓冲层的梯度掺杂反射式GaAs光电阴极相比其它结构的反射式GaAs光电阴极能够获得更好的光电发射性能,光谱响应曲线更平坦,拟合光谱响应曲线结果表明其电子扩散长度和电子表面逸出几率都得到了增加,从而具有更高的积分灵敏度和长波响应。 展开更多
关键词 gaas光电阴极 反射式 光谱响应 缓冲层 梯度掺杂
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In_(0.2)Ga_(0.8)As-GaAs复合应力缓冲层上的1.3μm InAs/GaAs自组织量子点
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作者 方志丹 龚政 +2 位作者 苗振华 牛智川 沈光地 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期324-327,共4页
用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和xML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从... 用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和xML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从约1.7×109cm-2显著增加到约3.8×109cm-2.同时,复合层也有利于提高量子点中In的组份,使量子点的高宽比增加,促进量子点发光峰红移.对于x=10 ML的样品室温下基态发光峰达到1350 nm. 展开更多
关键词 INAS/gaas量子点 复合应力缓冲层 光荧光 原子力显微镜
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不同缓冲层对GaAs基In_(0.3)Ga_(0.7)As材料特性的影响 被引量:4
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作者 张银桥 蔡建九 +4 位作者 张双翔 张永 林志园 王向武 陈开建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期469-472,共4页
采用组分跳变和低温大失配缓冲层技术在GaAs衬底上外延了In0.3Ga0.7As材料。测试结果表明,采用组分跳变缓冲层生长的In0.3Ga0.7As主要依靠逐层间产生失配位错来释放应力,并导致表面形成纵横交错的Cross-hatch形貌;而采用低温大失配缓冲... 采用组分跳变和低温大失配缓冲层技术在GaAs衬底上外延了In0.3Ga0.7As材料。测试结果表明,采用组分跳变缓冲层生长的In0.3Ga0.7As主要依靠逐层间产生失配位错来释放应力,并导致表面形成纵横交错的Cross-hatch形貌;而采用低温大失配缓冲层技术则主要通过在低温缓冲层中形成大量缺陷来充分释放应力,并在后续外延的In0.3Ga0.7As表面没有与失配位错相关的Cross-hatch形貌出现。此外,仅需50nm厚的低温大失配缓冲层即可促使In0.3Ga0.7As中的应力完全释放,这种超薄缓冲层技术在工业批产中显得更为经济。 展开更多
关键词 砷化镓 铟镓砷 缓冲层 弛豫特性
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GaAs(100)上外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(101)铁电薄膜的制备与性能研究
7
作者 李争刚 朱俊 +1 位作者 刘兴鹏 周云霞 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期40-44,共5页
采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性... 采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性能的目的。TiO_2和STO的生长通过原位反射高能电子衍射仪(RHEED)实时监控。该异质结构的面外外延关系为PZT(101)//STO(110)//TiO_2(110)//GaAs(100)。PZT/STO/TiO_2/GaAs异质结构在电场为-250×10~3V/cm时漏电流密度低于1×10^(-6)A/cm^2,剩余极化强度(2P_r)高达24×10^(-6)C/cm^2。此外,在模拟太阳光(AM1.5G)照明下,这种异质结构通过剩余极化增强的光电转换效率为10.01%。 展开更多
关键词 激光分子束外延 外延PZT gaas衬底 SrTiO3(STO)/TiO2缓冲层 铁电性能 光伏性能
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Preparation and Characterization of Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te Epilayers Grown by Hot Wall MOCVD
8
作者 丁永庆 彭瑞伍 +5 位作者 韦光宇 陈纪安 李贤春 张玉平 刘克岳 赵振香 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1993年第3期175-180,共6页
Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-... Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-ray diffraction,TEM,DCXD,FTIR and Van der Pauw technique were employed to determine the crystalline,optical and electrical properties of CMT epilayers,which are effectively im- proved as compared with the previous data. 展开更多
关键词 Hot wall MOCVD Hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas buffer layers Optoelectronic properties CMT
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无人机薄膜太阳电池缓冲层应力补偿结构优化
9
作者 钱勇 毕黎琛 +3 位作者 郭哲俊 施祥蕾 宋琳琳 孙利杰 《微纳电子技术》 2026年第2期100-108,共9页
临近空间长航时太阳能无人机(UAV)使用三结薄膜砷化镓太阳电池。采用赝型倒装外延结构和外延层剥离工艺,获得了柔性可赋形的薄膜太阳电池及组件,但是赝型倒装结构因使用晶格失配缓冲层(Al_(y)Ga_(1-x-y)In_(x)As)结构而带来晶格失配应力... 临近空间长航时太阳能无人机(UAV)使用三结薄膜砷化镓太阳电池。采用赝型倒装外延结构和外延层剥离工艺,获得了柔性可赋形的薄膜太阳电池及组件,但是赝型倒装结构因使用晶格失配缓冲层(Al_(y)Ga_(1-x-y)In_(x)As)结构而带来晶格失配应力,是诱发薄膜砷化镓太阳电池裂纹缺陷、产生电极金属离子迁移通道、引起电性能衰降以及因应力造成电池形变的主要因素。在三结薄膜砷化镓太阳电池中的晶格失配缓冲层引入应力补偿结构并优化,计算比较应力补偿结构对电池应变的影响,在缓冲层上外延生长并获得高质量In_(0.3)GaAs底电池。通过计算底电池的外延层应力、检测外延片翘曲度、比较单片电池弯曲程度,确定了应力补偿结构优化Al_(y)Ga_(1-x-y)In_(x)As缓冲层的参数,减少了应变造成太阳电池缺陷诱发电池性能衰降的概率,降低了电池形变,提升了太阳能无人机用三结薄膜砷化镓太阳电池及组件的可靠性和耐候性。 展开更多
关键词 薄膜砷化镓太阳电池 缓冲层 应力补偿结构 应变 薄膜应力
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分子束外延HgCdTe薄膜的CdTe缓冲层特性研究 被引量:3
10
作者 宋立媛 唐利斌 +2 位作者 李艳辉 孔令德 陈雪梅 《红外技术》 CSCD 北大核心 2009年第11期628-630,633,共4页
CdTe是GaAs衬底上分子束外延(MBE)HgCdTe薄膜时的缓冲层,引入缓冲层的目的是减小失配位错,CdTe缓冲层的生长直接影响到后续HgCdTe薄膜的制备质量,然而目前现有文献鲜有报道CdTe缓冲层的最佳厚度。采用X射线双晶衍射、位错腐蚀坑密度(EPD... CdTe是GaAs衬底上分子束外延(MBE)HgCdTe薄膜时的缓冲层,引入缓冲层的目的是减小失配位错,CdTe缓冲层的生长直接影响到后续HgCdTe薄膜的制备质量,然而目前现有文献鲜有报道CdTe缓冲层的最佳厚度。采用X射线双晶衍射、位错腐蚀坑密度(EPD)、FT-IR和椭圆偏振光谱的方法,从CdTe缓冲层厚度对位错密度的影响入手,分析并确定了理想的CdTe缓冲层厚度。 展开更多
关键词 分子束外延 cdte缓冲层 位错密度
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N离子注入改性SnO_2缓冲层及其CdTe太阳电池应用
11
作者 刘源 唐鹏 +4 位作者 张静全 武莉莉 李卫 王文武 冯良桓 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第17期152-157,共6页
使用等离子注入技术对SnO_2薄膜进行N离子注入改性,进行方块电阻、光学透过、表面形貌、Kelvin探针和X射线光电子能谱(XPS)表征,并将其作为缓冲层应用到CdTe太阳电池中。研究结果发现,对于30nm厚的SnO_2缓冲层,经过30s、10min不同时间N... 使用等离子注入技术对SnO_2薄膜进行N离子注入改性,进行方块电阻、光学透过、表面形貌、Kelvin探针和X射线光电子能谱(XPS)表征,并将其作为缓冲层应用到CdTe太阳电池中。研究结果发现,对于30nm厚的SnO_2缓冲层,经过30s、10min不同时间N离子注入以后,其300~800nm波长范围透过率有所降低,而体电阻率则明显增加,特别是N离子注入10min的SnO_2缓冲层,表面出现很多凹孔,呈蜂窝状结构,且对后续沉积的CdS层表面形貌产生了明显影响。Kelvin探针表征结果显示,随着N离子注入时间的延长,SnO_2缓冲层功函数逐渐增加,最高达到约5.075eV,比本征SnO_2缓冲层的功函数高出0.15eV。XPS测试结果显示,N离子注入10min后,SnO_2缓冲层N1s结合能峰位向低结合能方向发生了明显移动,而O1s结合能峰位则向高结合能方向移动了,且表面区非晶格氧所占比例增大。对比电池结果,有N离子注入改性SnO_2缓冲层的电池与无缓冲层的电池相比,效率从10%左右增加到12%以上,最高达到12.47%,其中开路电压提高最为显著,从约750mV提高到790mV以上,提升了约5%,电池的整体均匀性也明显改善。 展开更多
关键词 N离子注入 SnO2缓冲层 原子力显微镜 X射线光电子能谱 cdte太阳电池
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Research on surface photovoltage spectroscopy for GaAs photocathodes with Al_xGa_(1-x)As buffer layer
12
作者 张淑琴 陈亮 庄松林 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第11期5-8,共4页
Surface photovoltage spectroscopy equations for cathode materials with an AlxGa1-xAs buffer layer are determined in order to effectively measure the body parameters for transmission-mode (t-mode) photocathode materi... Surface photovoltage spectroscopy equations for cathode materials with an AlxGa1-xAs buffer layer are determined in order to effectively measure the body parameters for transmission-mode (t-mode) photocathode materials before Cs-O activation. Body parameters of cathode materials are well fitted through experiments and fitting calculations for the designed AlxGa1-xAs/GaAs structure material. This investigation examines photo-excited performance and measurements of body parameters for t-mode cathode materials of different doping structures. It also helps study various doping structures and optimize structure designs in the future. 展开更多
关键词 gaas x)As buffer layer Research on surface photovoltage spectroscopy for gaas photocathodes with Al_xGa AL
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宽光谱响应的高效CdTe薄膜太阳电池 被引量:1
13
作者 刘娇 鲍飞雄 +2 位作者 傅干华 沈凯 麦耀华 《太阳能》 2021年第5期48-58,共11页
碲化镉(CdTe)薄膜太阳电池是最成功的产业化薄膜太阳电池技术。近年来,CdTe薄膜太阳电池的新一轮技术革新使小面积CdTe薄膜太阳电池的最高光电转换效率从16.5%快速提升至22.1%,该太阳电池的材料和结构的创新,以及相应的宽光谱响应特性... 碲化镉(CdTe)薄膜太阳电池是最成功的产业化薄膜太阳电池技术。近年来,CdTe薄膜太阳电池的新一轮技术革新使小面积CdTe薄膜太阳电池的最高光电转换效率从16.5%快速提升至22.1%,该太阳电池的材料和结构的创新,以及相应的宽光谱响应特性是其光电转换效率提升的最显著原因。结合电池结构对宽光谱响应的高效CdTe薄膜太阳电池的制备技术及研究进展进行了介绍,并对此类CdTe薄膜太阳电池的发展做出展望。 展开更多
关键词 cdte 薄膜太阳电池 缓冲层 CdSeTe 宽光谱响应
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过渡层对Ge衬底GaAs外延层晶体质量的影响 被引量:1
14
作者 李晓婷 赛小锋 +2 位作者 汪韬 曹希斌 石刚 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2007年第6期58-61,共4页
利用低压金属有机化学汽相淀积(MOCVD)设备在Ge衬底上生长GaAs外延层。通过改变GaAs过渡层的生长温度对GaAs外延层进行了表征,利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪研究了表面形貌和晶体质量,优化出满足高效太阳能电池要求的高质量GaAs单晶... 利用低压金属有机化学汽相淀积(MOCVD)设备在Ge衬底上生长GaAs外延层。通过改变GaAs过渡层的生长温度对GaAs外延层进行了表征,利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪研究了表面形貌和晶体质量,优化出满足高效太阳能电池要求的高质量GaAs单晶层生长条件。 展开更多
关键词 gaas/GE 过渡层 生长温度 晶体质量
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InGaAs/GaAs应变量子阱激光器MOCVD生长研究 被引量:8
15
作者 刘安平 段利华 周勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期163-165,共3页
采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱(QW),通过降低生长温度、提高生长速度以及采用应变缓冲层(SBL)结构,改善了应变QW生长表面质量和器件荧光(PL)谱特性,实验表明,通过优化工艺条件和采用SBL等手段提高... 采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法生长了InGaAs/GaAs应变量子阱(QW),通过降低生长温度、提高生长速度以及采用应变缓冲层(SBL)结构,改善了应变QW生长表面质量和器件荧光(PL)谱特性,实验表明,通过优化工艺条件和采用SBL等手段提高了应变QW质量。生长的QW结构用于1054 nm激光器的制作,经测试,器件具有较低的阈值电流和较高的单面斜率效率,性能较好。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相淀积(MOCVD) Ingaas/gaas量子阱(QW) 应变缓冲层(SBL)
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四步法制备高质量硅基砷化镓薄膜(英文) 被引量:2
16
作者 刘广政 徐波 +2 位作者 叶晓玲 刘峰奇 王占国 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1263-1268,共6页
为了提高在硅基上外延砷化镓薄膜的质量和实验的可重复性,我们提出了一种叫做四步生长法的新方法,该方法是通过在低温成核层和高温外延层中间先后插入低温缓冲层和高温缓冲层实现的。通过此方法,可以制备出表面具有单畴结构、在强白光... 为了提高在硅基上外延砷化镓薄膜的质量和实验的可重复性,我们提出了一种叫做四步生长法的新方法,该方法是通过在低温成核层和高温外延层中间先后插入低温缓冲层和高温缓冲层实现的。通过此方法,可以制备出表面具有单畴结构、在强白光下依然光亮如镜、粗糙度低且缺陷少的高质量砷化镓薄膜,而且此方法的重复性很好。即便没有任何生长后的退火处理,外延出的1μm厚砷化镓薄膜在5μm×5μm扫描区域内的表面粗糙度只有2.1 nm,且由X射线双晶衍射测试出的砷化镓(004)峰的半高宽只有210.6 arcsec。 展开更多
关键词 硅基砷化镓 四步生长法 缓冲层 分子束外延
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基于氧化镍背接触缓冲层碲化镉薄膜太阳电池的研究
17
作者 肖迪 王东明 +5 位作者 李珣 李强 沈凯 王德钊 吴玲玲 王德亮 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期282-289,共8页
采用电子束蒸发法制备了NiO薄膜,并对其作为碲化镉薄膜太阳电池背接触缓冲层材料进行了相关研究.NiO缓冲层的加入使得碲化镉太阳电池开路电压显著增大.通过X射线光电子能谱测试得到的NiO/CdTe界面能带图表明NiO和CdTe的能带匹配度很好.... 采用电子束蒸发法制备了NiO薄膜,并对其作为碲化镉薄膜太阳电池背接触缓冲层材料进行了相关研究.NiO缓冲层的加入使得碲化镉太阳电池开路电压显著增大.通过X射线光电子能谱测试得到的NiO/CdTe界面能带图表明NiO和CdTe的能带匹配度很好.NiO是宽禁带P型半导体材料,在电池背接触处形成背场,减少了电子在背表面处的复合,从而提高电池开路电压.通过优化NiO薄膜厚度,制备得到转换效率为12.2%、开路电压为789 mV的碲化镉太阳电池.研究证实NiO是用来制备高转换效率、高稳定性碲化镉薄膜太阳电池的一种极有前景的缓冲层材料. 展开更多
关键词 碲化镉 薄膜太阳电池 氧化镍 缓冲层
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