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(112)面CdTe/Cd_(1-y)Zn_yTe,Hg_(1-x)Cd_xTe/CdTe和CdTe/GaAs异质结的方向倾斜
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作者 刘义族 于福聚 《应用科学学报》 CAS CSCD 2001年第3期261-264,共4页
用 X射线双晶衍射 ( XDCD)法测得分子束外延 ( MBE)法生长的 Cd Te/ Cd0 .959Zn0 .0 4 1 Te( 112 ) B异质结的倾斜角为 0 .2 185°,而且朝 [1- 1- 1]晶体学方向倾斜 .为了获得较精确的倾斜角值 ,绘制了外延层和衬底衍射角的差值Δ... 用 X射线双晶衍射 ( XDCD)法测得分子束外延 ( MBE)法生长的 Cd Te/ Cd0 .959Zn0 .0 4 1 Te( 112 ) B异质结的倾斜角为 0 .2 185°,而且朝 [1- 1- 1]晶体学方向倾斜 .为了获得较精确的倾斜角值 ,绘制了外延层和衬底衍射角的差值Δθ与绕样品表面法线旋转的角度 之间的准正弦函数 .为高分辨率透射电子显微镜 ( HRTEM)分析制备了 MBE法生长的 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te/ Ga As( 1- 12 ) B多层异质结的横截面薄膜 .Cd Te/ Ga As异质结的 HRTEM明场象表明 Cd Te( 1- 12 )缓冲层相对于 Ga As( 1- 12 )衬底朝 [1- 11- ]方向倾斜约 3°,并且在 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te异质结 ,Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te( 1- 12 )外延膜相对于 Cd Te( 1- 12 )缓冲层在 [11- 1]方向 ,即 [1- 11- ]的反方向倾斜约 1°.也分析了 Hg0 .535Cd0 .4 6 5Te/ Cd Te/ Ga As多层膜之间的倾斜角关系 . 展开更多
关键词 分子束外延法 异质结 倾斜角 X射线双晶衍射法 Hgcdte/cdte/gaas多层膜 失配位错
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Preparation and Interface Studies on HgCdTe/CdTe/GaAs Grown by MOCVD
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +2 位作者 陈记安 杨臣华 陈美霓 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第2期102-106,共5页
When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.... When we use MOCVD technique,an excellent CdTe epi-layer was grown on GaAs substrates and the CdTe/GaAs hybrid substrates suitable for growing Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)were obtained.The x value in CMT is between 0.2 and 0.8.The electrical properties of CMT depend upon the thickness of CdTe epi-layers.The CdTe/GaAs interface was examined by both scanning electron microscope(SEM)and electron auger spectra (EAS).The influence of defects observed at interface on electrical and optical properties of CMT fihns was dis- cussed. 展开更多
关键词 MOCVD Hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas buffer layers INTERFACE Electrical property of CMT
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MOCVD法生长HgCdTe/CdTe/GaAs多层异质材料工艺研究
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +1 位作者 陈记安 杨臣华 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1990年第3期42-45,共4页
用自已设计的MOCVD设备,国产的DMCd和DETe金属有机源,采用变通的多层互扩散工艺生长了HgCdTe/CdTe/GaAs外延片,获得良好的n型HgCdTe外延层。研究了生长速率与温度的关系;组份与DMCd/DETe之比的关系;x值与汞源温度的关系。生长CdTe和HgC... 用自已设计的MOCVD设备,国产的DMCd和DETe金属有机源,采用变通的多层互扩散工艺生长了HgCdTe/CdTe/GaAs外延片,获得良好的n型HgCdTe外延层。研究了生长速率与温度的关系;组份与DMCd/DETe之比的关系;x值与汞源温度的关系。生长CdTe和HgCdTe外延层的衬底温度分别约为:370℃和420℃。汞源温度约为280℃,汞压约0.02atm。DMCd/DETe随生长x值不同而不同。气流在2.6~3.7cm/s之间。 展开更多
关键词 HGcdte cdte/gaas 异质材料 MOCVD
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在Si和GaAs衬底上分子束外延CdTe的晶格应变
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作者 王元樟 陈路 +4 位作者 巫艳 吴俊 于梅芳 方维政 何力 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期729-733,共5页
本文利用高分辨率多重晶多重反射X射线衍射技术对分子束外延CdTe(211)B/Si(211)与CdTe(211)B/GaAs(211)B材料的CdTe外延薄膜进行了倒易点二维扫描,并通过获得的倒易点二维图,对CdTe缓冲层的应力和应变状况进行了分析。研究显示,对于一... 本文利用高分辨率多重晶多重反射X射线衍射技术对分子束外延CdTe(211)B/Si(211)与CdTe(211)B/GaAs(211)B材料的CdTe外延薄膜进行了倒易点二维扫描,并通过获得的倒易点二维图,对CdTe缓冲层的应力和应变状况进行了分析。研究显示,对于一定厚度的CdTe外延薄膜,在从生长温度280℃降至室温20℃的过程中,由于和衬底存在热膨胀系数的差异,将在外延薄膜中产生热应力,使外延薄膜发生应变,并且这种应变取代了失配应变,在晶格畸变中占据主导地位。对于Si衬底,热应变表现为张应力;对于GaAs衬底,热应变表现为压应力。该研究结果对于进一步优化在大失配的异质衬底上外延同Hg1-xCdxTe材料晶格匹配的Cd1-yZnyTe材料的Zn组分具有指导意义。 展开更多
关键词 cdte/gaas cdte/Si 热应变 高分辨率多重晶多重反射X射线衍射 分子束外延
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GaAs(001)衬底上经双缓冲层生长的Hg_(1-x)Cd_xTe-HgTe超晶格结构 被引量:1
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作者 刘义族 于福聚 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2001年第3期39-42,共4页
用 X-射线衍射测定了分子束外延 ( MBE)法生长的 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格样品在 ( 0 0 1 )附近的扫描徊摆曲线 ,并用动力学理论模拟计算出衍射曲线 ,实验曲线与理论计算基本上相符合 .由实验衍射曲线计算出的超晶格周期长度 ,阱 Hg T... 用 X-射线衍射测定了分子束外延 ( MBE)法生长的 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格样品在 ( 0 0 1 )附近的扫描徊摆曲线 ,并用动力学理论模拟计算出衍射曲线 ,实验曲线与理论计算基本上相符合 .由实验衍射曲线计算出的超晶格周期长度 ,阱 Hg Te层厚度及垒 Hg1-x Cdx Te层厚度与模拟计算的相一致 .用透射电子显微镜 ( TEM)对同一样品的横截面进行了分析 ,对 Cd Te/Zn Te/Ga As异质结界面失配位错的组态特征进行了研究 .证明用 Cd Te/Zn Te作为双缓冲层比单一的 Cd Te有较好的效果 .截面 TEM高分辨率明场象显示 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格的生长较为成功 ,界面较为平整 .由截面 TEM高分辨率明场象观测的周期长度与 展开更多
关键词 分子束外延法 Hg1-xCdxTe-HgTe超晶格 cdte/ZnTe/gaas异质结 双缓冲层生长 晶格结构 晶格生长
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Preparation and Characterization of Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te Epilayers Grown by Hot Wall MOCVD
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作者 丁永庆 彭瑞伍 +5 位作者 韦光宇 陈纪安 李贤春 张玉平 刘克岳 赵振香 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1993年第3期175-180,共6页
Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-... Hg_(1-x)Cd_xTe(CMT)epilayers with corresponding wavelength of 10.6μm(x=0.2)were reproducibly grown on GaAs substrates in a movable hot wall MOCVD reactor.Rather high uniformity of solid compo- sitions was obtained.X-ray diffraction,TEM,DCXD,FTIR and Van der Pauw technique were employed to determine the crystalline,optical and electrical properties of CMT epilayers,which are effectively im- proved as compared with the previous data. 展开更多
关键词 Hot wall MOCVD Hgcdte/cdte/gaas structures cdte/gaas Buffer layers Optoelectronic properties CMT
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傅里叶变换红外拉曼光谱检测半导体薄膜下衬底特性 被引量:1
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作者 王炜 陈熙仁 +1 位作者 余灯广 邵军 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第1期50-55,共6页
高质量半导体薄膜是制备高性能光电器件的基础,其光电子性质很大程度受衬底所制约,实验检测薄膜下衬底性质,有助于薄膜生长优化。然而,表面薄膜覆盖后的衬底特性检测通常受到严重制约。报道一种傅里叶变换拉曼光谱方法,利用低光子能量... 高质量半导体薄膜是制备高性能光电器件的基础,其光电子性质很大程度受衬底所制约,实验检测薄膜下衬底性质,有助于薄膜生长优化。然而,表面薄膜覆盖后的衬底特性检测通常受到严重制约。报道一种傅里叶变换拉曼光谱方法,利用低光子能量红外激发光的深穿透特性,降低薄膜影响,有效获取薄膜下半导体衬底的拉曼散射信息。GaAs上外延CdTe薄膜演示分析表明,相对于常规拉曼光谱方法,CdTe薄膜拉曼散射被抑制而GaAs衬底信号得到显著增强,光谱信噪比超过70,可为半导体薄膜下衬底的实验测试乃至多层半导体纵向结构表征的有效新途径。 展开更多
关键词 红外拉曼 傅里叶变换 cdte/gaas薄膜 信噪比
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