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CdIn2O4薄膜性质及其应用研究 被引量:1
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作者 张津 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1193-1195,共3页
利用射频反应溅射法在玻璃衬底上在Ar和O2气氛中从Cd-In合金靶上制备出了CdIn2O4薄膜.实验结果表明退火处理对CdIn2O4薄膜的光电性质有重要的影响.退火处理进一步降低了CdIn2O4膜的电阻率,在可见光区域内该膜的最高光透射率超过了90%.... 利用射频反应溅射法在玻璃衬底上在Ar和O2气氛中从Cd-In合金靶上制备出了CdIn2O4薄膜.实验结果表明退火处理对CdIn2O4薄膜的光电性质有重要的影响.退火处理进一步降低了CdIn2O4膜的电阻率,在可见光区域内该膜的最高光透射率超过了90%.研究还发现CdIn2O4膜电阻在CO气氛中十分敏感的发生变化,并且提高温度和在膜上生长不连续的Pt粒子可进一步增强气敏特性.实验研究还表明CdIn2O4膜气敏传感器响应时间比通用的气敏元件快得多. 展开更多
关键词 cdin2o4薄膜 退火处理 电阻率 气敏性
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透明导电CdIn2O4薄膜的结构和Seebeck效应
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作者 杨丰帆 方亮 +4 位作者 李丽 付光宗 张勇 李明伟 喻江涛 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期67-75,共9页
在Ar和O2混合气氛中,利用直流反应磁控溅射Cd-In合金靶制备了CdIn2O4(简称CIO)薄膜,利用AFM和XRD技术表征了薄膜的形貌和组成,用XPS分析了薄膜的化学成分和元素价态,并在室温下测量了CIO薄膜的Seebeck效应以及加入磁场后的Seebeck效应.... 在Ar和O2混合气氛中,利用直流反应磁控溅射Cd-In合金靶制备了CdIn2O4(简称CIO)薄膜,利用AFM和XRD技术表征了薄膜的形貌和组成,用XPS分析了薄膜的化学成分和元素价态,并在室温下测量了CIO薄膜的Seebeck效应以及加入磁场后的Seebeck效应.实验结果表明:CIO薄膜是多晶薄膜,其表面粗糙度为1.60~2.60nm,晶粒大小为13~36nm,晶界清晰.它由CIO相和In2O3相组成,部分样品还含有微量的CdO相,退火处理后氧缺乏状态和氧充足状态的面积比由退火前的0.69增加到0.71,薄膜的导电性能得到提高.CIO薄膜具有非常明显的Seebeck效应,温差电动势随温差的增加而线性增加,温差电动势率随着电阻的增加而减小;加入磁场后,薄膜的温差电动势率变小.文章对制备条件和结构的关系以及Seebeck效应和加入磁场后的Seebeck效应的机理作了详细探讨. 展开更多
关键词 透明导电cdin2o4薄膜 结构 SEEBECK效应 温差电动势率
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射频反应溅射沉积透明导电CdIn2O4薄膜 被引量:3
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作者 彭栋梁 蒋生蕊 《薄膜科学与技术》 1993年第1期28-32,共5页
关键词 沉积 cdin2o4 薄膜 射频 溅射
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直流反应磁控溅射法制备CdIn_2O_4薄膜的光电性能研究 被引量:2
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作者 杨丰帆 方亮 +4 位作者 孙建生 徐勤涛 吴苏友 张淑芳 董建新 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期460-466,共7页
利用直流反应磁控溅射法制备了CdIn2O4(CIO)薄膜,研究了氧浓度、基片温度、溅射时间和退火处理对薄膜光电性能的影响。结果表明:电阻率随着氧浓度的增加和溅射时间的减小而增加,随着基片温度的升高先减小后增加;透光率随着氧浓度、基片... 利用直流反应磁控溅射法制备了CdIn2O4(CIO)薄膜,研究了氧浓度、基片温度、溅射时间和退火处理对薄膜光电性能的影响。结果表明:电阻率随着氧浓度的增加和溅射时间的减小而增加,随着基片温度的升高先减小后增加;透光率随着氧浓度、基片温度的增加和溅射时间的减小而增加。退火处理后,薄膜的电阻率降低,光吸收边发生"蓝移"。点缺陷对薄膜的光电性能产生重要影响,光吸收边的移动是"Burstein-Moss"效应和多体效应共同作用的结果。综合实验结果和理论研究,推荐了直流反应磁控溅射法制备CIO薄膜的最佳条件。此条件下制备薄膜的电阻率为2.95×10-4Ω.cm,波长为628 nm时薄膜的透光率高达91.7%。 展开更多
关键词 直流反应磁控溅射法 cdin2o4薄膜 光电性能 最佳条件
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一种新型保温薄膜材料——CdIn_2O_4的研究 被引量:2
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作者 王蜀霞 王万录 廖克俊 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期73-75,共3页
研究了射频反应溅射三元化合物 Cd In2 O4 薄膜的电学和光学性质 ,讨论了反应气体中氧气浓度和热处理对Cd In2 O4 薄膜红外反射率的影响 ,实验结果表明 ,Cd In2 O4 薄膜在红外区域具有很高的反射率 ,是一种极好的红外反射膜。用它作为... 研究了射频反应溅射三元化合物 Cd In2 O4 薄膜的电学和光学性质 ,讨论了反应气体中氧气浓度和热处理对Cd In2 O4 薄膜红外反射率的影响 ,实验结果表明 ,Cd In2 O4 薄膜在红外区域具有很高的反射率 ,是一种极好的红外反射膜。用它作为冰箱内保温膜和室内及冷库保温窗玻璃 ,效果十分明显 。 展开更多
关键词 光电特性 cdin2o4薄膜 射频反应溅射 保温膜 冰箱 冷库
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Cdln_2O_4膜红外性质分析 被引量:2
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作者 姬荣斌 张小兰 王万录 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第1期73-76,共4页
CdIn_2O_4膜在可见光区域透射率高,在红外区域反射率高。利用射频反应溅射Cd-In靶制备该膜时,溅射气体中氧含量及退火温度对其红外反射率有明显影响。
关键词 cdin2o4 红外性质 半导体薄膜
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热处理对透明导电CdIn_2O_4薄膜光电性质的影响 被引量:2
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作者 蒋生蕊 彭栋梁 +1 位作者 李斌 王万录 《真空科学与技术》 CSCD 1993年第2期124-129,共6页
在Ar、O_2混合气氛中射频反应性溅射Cd-In合金靶,制备了透明导电CdIn_2O_4(简称CIO)薄膜。研究了热处理对CIO薄膜的电学和光学性质的影响。实验结果表明,沉积后的热处理使CIO膜的电阻率均进一步减小,获得的薄膜最低电阻率为2.9×10^... 在Ar、O_2混合气氛中射频反应性溅射Cd-In合金靶,制备了透明导电CdIn_2O_4(简称CIO)薄膜。研究了热处理对CIO薄膜的电学和光学性质的影响。实验结果表明,沉积后的热处理使CIO膜的电阻率均进一步减小,获得的薄膜最低电阻率为2.9×10^(-6)Ω·m,可见光区域最高透光率约为90%。在CIO膜的透射和反射谱中,观察到大的Burstein移动,并根据CIO膜的光学数据计算的热处理前后的光隙能值分别为2.46eV和2.63eV。 展开更多
关键词 热处理 cdin2o4 薄膜 光电性质
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CdIn_2O_4薄膜气敏特性的研究
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作者 董玉峰 廖克俊 +1 位作者 王万录 王蜀霞 《广西师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2000年第S2期4-7,共4页
在 Ar+O2 混合气体中用射频反应性溅射方法制备了纯的和 Pt掺杂的 Cd In2 O4薄膜 ,用 XRD,AES等方法分析了薄膜的结构和化学成分 .测试了两种薄膜对酒精气体的气敏特性 ,包括灵敏度随温度、气体浓度的变化以及传感器元件的响应曲线 ,并... 在 Ar+O2 混合气体中用射频反应性溅射方法制备了纯的和 Pt掺杂的 Cd In2 O4薄膜 ,用 XRD,AES等方法分析了薄膜的结构和化学成分 .测试了两种薄膜对酒精气体的气敏特性 ,包括灵敏度随温度、气体浓度的变化以及传感器元件的响应曲线 ,并对气敏机理进行了讨论 . 展开更多
关键词 射频反应性溅射 cdin2o4薄膜 气敏特性
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一种新型丙酮气敏材料CdIn_2O_4的制备与表征 被引量:8
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作者 储向峰 刘杏芹 孟广耀 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1999年第4期486-490,共5页
用化学共沉淀法制备出纳米CdIn2O4超微粉,研究了制备条件对材料相结构的影响.对其电导研究表明,纳米CdIn2O4的导电性受气氛影响很大,在空气中受表面吸附氧的数量和状态的影响,呈n型半导体的特性,有和SnO2一样的典型电导一温度曲... 用化学共沉淀法制备出纳米CdIn2O4超微粉,研究了制备条件对材料相结构的影响.对其电导研究表明,纳米CdIn2O4的导电性受气氛影响很大,在空气中受表面吸附氧的数量和状态的影响,呈n型半导体的特性,有和SnO2一样的典型电导一温度曲线,而在氩气中则更多呈现出金属导电性.对CdIn2O4气敏性能研究表明,由CdIn2O4纳米粉制成的旁热式厚膜气敏元件在350℃对两酮有较高的灵敏度和选择性. 展开更多
关键词 复合氧化物 丙酮 测定 气敏材料
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Effect of Oxygen Concentration and Annealing Theatment on the Optical Properties of the Transparent Conductive CdIn_2O_4 Thin Films 被引量:4
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作者 Bin WU Changyong CHEN and Shibin ZHANG(Physics Dept., Lanzhou University, Lanzhou 730000, China)Wanlu WANG and Kejun LIAO(Applied Physics Dept., Chongqing University, Chongqing 400044, China) 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1998年第2期161-166,共6页
Transparent conductive cadmium indium oxide films (CdIn2O4) were prepared by r.f. reactive sputtering from Cd-In alloy targets under an Ar-O2 atmosphere. Electrical conductivity of the order of 105Ω-1.m-1 and the opt... Transparent conductive cadmium indium oxide films (CdIn2O4) were prepared by r.f. reactive sputtering from Cd-In alloy targets under an Ar-O2 atmosphere. Electrical conductivity of the order of 105Ω-1.m-1 and the optical transmission as high as 94% are easily attained by postdeposition annealing treatment. The effects of oxygen concentration in the reactive gas mixture and post-deposition annealing treatment on the optical transmittance as well as optical parameters, such as refractive index (n), extinction coefficient (k), real part (ε') and imaginary part (ε') of the dielectric constant, were studied in the visible and near-infrared region. The highfrequency dielectric constant ε∞ the plasma frequency ωP, and the conduction band effective mass mc of different samples were also investigated 展开更多
关键词 Thin Effect of Oxygen Concentration and Annealing Theatment on the Optical Properties of the Transparent Conductive cdin2o4 Thin Films
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透明导电CdIn_2O_4薄膜光学常数的计算
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作者 曾菱 李斌 《真空与低温》 2000年第4期235-240,244,共7页
针对射频反应性溅射 Cd- In合金靶沉积的透明导电 CdIn2O4薄膜可见光区和近红外透射区透射和反射谱,分别采用包络线法迭代计算和 Szczyrbowski提出的非均匀膜模型计算出了薄膜的光学常数。根据 Drude理论求出了自由载流子有效质量,... 针对射频反应性溅射 Cd- In合金靶沉积的透明导电 CdIn2O4薄膜可见光区和近红外透射区透射和反射谱,分别采用包络线法迭代计算和 Szczyrbowski提出的非均匀膜模型计算出了薄膜的光学常数。根据 Drude理论求出了自由载流子有效质量,并与通过等离子体波长λ p所确定的有效质量进行了比较。 展开更多
关键词 透明导电cdin2o4薄膜 光学常数 半导体薄膜
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Cdln_2O_4膜红外性质分析
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作者 姬荣斌 张小兰 王万录 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第2期185-189,共5页
利用射频反应溅射Cd-In合金靶沉积的CdIn_2O_4薄膜是n型高兼并半导体,其红外反射率随溅射气体中氧浓度的不同而有异,相同氧浓度下沉积的薄膜经过退火处理后红外反射率也会发生变化。原因是不同氧浓度下沉积薄膜的氧空位不同,其自由载流... 利用射频反应溅射Cd-In合金靶沉积的CdIn_2O_4薄膜是n型高兼并半导体,其红外反射率随溅射气体中氧浓度的不同而有异,相同氧浓度下沉积的薄膜经过退火处理后红外反射率也会发生变化。原因是不同氧浓度下沉积薄膜的氧空位不同,其自由载流子浓度也就不同,从而使薄膜有不同的吸收系数。实验结果与理论计算值符合较好。 展开更多
关键词 CIO膜 红外吸收率 半导体薄膜
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EFFECT OF THE DEFECT STATES DENSITY ON OPTICAL BAND GAP OF CdIn_(2)O_(4)THIN FILM
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作者 H.S.San Z.G.Wu +1 位作者 B.Li B.X.Feng 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第3期403-410,共8页
Transparent conducting oxides CdIn2O4 thin films were prepared by radio-frequenc y reactive sputtering from a Cd-In alloy target in Ar+O2 atmosphere. By transmis sion spectrum and Hall measurement for different sample... Transparent conducting oxides CdIn2O4 thin films were prepared by radio-frequenc y reactive sputtering from a Cd-In alloy target in Ar+O2 atmosphere. By transmis sion spectrum and Hall measurement for different samples prepared at different s ubstrate temperatures, it could be found that the carrier concentration would in crease with the decrease of substrate temperature, but absorption edge showed an abrupt variation from a blue shift to a red shift. Theoretically, the paper for mulated the effect of high-density point defects on band structures; it embodied the formation of band tailing, Burstein-Moss shift and band-gap narrowing. The density of holes will influence the magnitude of optical band gap and transmitta nce of light. Since extrapolation method does not fit degenerate semiconductor m aterials, a more accurate method of obtaining optical band gap is curve fitting. In addition, ionized impurities scattering is the main damping mechanism of the free electrons in CdIn2O4 films, the density of ionized impurities induced by a ltering substrate temperature will affect the carriers mobility. 展开更多
关键词 SPUTTERING cdin2o4 thin film electrical property optical property
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MOFs诱导中空Co3O4/CdIn2S4合成及光催化CO2还原性能研究 被引量:2
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作者 杨金曼 朱兴旺 +2 位作者 周固礼 许晖 李华明 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期2780-2787,共8页
光催化二氧化碳转化技术,不仅可以利用取之不尽用之不竭的太阳光能,而且可将二氧化碳转化为高附加值的碳基燃料,受到研究者们的广泛关注。实验设计合成了新颖的中空结构的Co3O4/CdIn2S4异质结光催化剂。两种半导体的高效耦合作用极大地... 光催化二氧化碳转化技术,不仅可以利用取之不尽用之不竭的太阳光能,而且可将二氧化碳转化为高附加值的碳基燃料,受到研究者们的广泛关注。实验设计合成了新颖的中空结构的Co3O4/CdIn2S4异质结光催化剂。两种半导体的高效耦合作用极大地促进了光生载流子分离,同时形成更多暴露活性位点。基于异质结独特的结构优势,表现出高效的CO2还原性能,5%Co3O4/CdIn2S4的CO生成速率达74μmol·g^−1·h^−1,与单体CdIn2S4相比,不仅活性得到很大提升,同时CO选择性达到100%。 展开更多
关键词 光催化 CO2还原 中空 Co3O4/CdIn2S4异质结
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n型透明导电薄膜CdIn_2O_4电学性质的研究和大面积制备的最佳条件 被引量:2
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作者 伞海生 陈冲 +2 位作者 何毓阳 王君 冯博学 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期1736-1741,共6页
在Ar +O2 气氛中 ,采用射频反应溅射Cd In靶制备CdIn2 O4 薄膜 .制得的薄膜经x射线衍射 (XRD)检测为CdIn2 O4 和CdO相组成的多晶 .从理论上分析了热处理前后氧空位、掺杂点缺陷和富氧电子陷阱在影响膜的载流子浓度和电子散射中所起的重... 在Ar +O2 气氛中 ,采用射频反应溅射Cd In靶制备CdIn2 O4 薄膜 .制得的薄膜经x射线衍射 (XRD)检测为CdIn2 O4 和CdO相组成的多晶 .从理论上分析了热处理前后氧空位、掺杂点缺陷和富氧电子陷阱在影响膜的载流子浓度和电子散射中所起的重要作用 .同时 ,对样品进行Hall效应、Seebeck效应测试并得出不同载流子浓度下的迁移率、有效质量、弛豫时间以及它们之间的相互关系 ,特别强调了弛豫时间的重要性 .为了提高导电膜的透射率 ,还分析了Burstein Moss漂移和带隙收缩对光带隙的影响 ,并在薄膜制备时选择了合适的衬底温度Ts≈ 2 80℃ .实验表明 ,在氧分压为 8%左右时制备的薄膜质量较好 ,热处理后的指标大约为迁移率 μH =31× 10 - 4m2 V·s ,电阻率 ρ =1 89× 10 - 5Ω·m . 展开更多
关键词 透明导电薄膜 射频反应溅射 cdin2o4 电学性质 导电机制 带隙收缩
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基片温度和退火对CdIn_2O_4薄膜光学性质和载流子浓度的影响 被引量:1
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作者 李斌 曾菱 张凤山 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1291-1295,共5页
对射频反应性溅射Cd In合金靶制备的透明导电CdIn2 O4薄膜 ,研究了基片温度及沉积后在氩气流中退火对薄膜的透射、反射和吸收光谱 ,光学常数和载流子浓度的影响。结果表明 :提高基片温度减少了薄膜的载流子浓度 ,退火增加了薄膜的载流... 对射频反应性溅射Cd In合金靶制备的透明导电CdIn2 O4薄膜 ,研究了基片温度及沉积后在氩气流中退火对薄膜的透射、反射和吸收光谱 ,光学常数和载流子浓度的影响。结果表明 :提高基片温度减少了薄膜的载流子浓度 ,退火增加了薄膜的载流子浓度。随着基片温度提高 ,薄膜折射率n和消光系数κ的短波峰将逐渐蓝移 ,而退火使其出现红移。基片温度和退火对薄膜光学常数的影响与其对薄膜载流子浓度的影响是一致的。在制备CdIn2 O4这样一种对于沉积方法和沉积条件极为敏感的透明导电薄膜的沉积过程中 ,这一现象对于实时监控具有极为重要的意义。 展开更多
关键词 cdin2o4薄膜 基片温度 退火 光学性质 载流子浓度 透明导电三元金属氧化物薄膜
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