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Ca2Si电子结构和光学性质的研究 被引量:12
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作者 杨创华 谢泉 +2 位作者 赵凤娟 陈茜 肖清泉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期4124-4128,共5页
采用第一性原理赝势平面波方法系统的计算了Ca2Si电子结构和光学性质,其中包括能带、态密度、介电函数、复折射率、吸收系数、光电导率和能量损失函数。计算结果显示Ca2Si是典型的半导体,正交相结构有一个直接的带隙,并且光学性质显... 采用第一性原理赝势平面波方法系统的计算了Ca2Si电子结构和光学性质,其中包括能带、态密度、介电函数、复折射率、吸收系数、光电导率和能量损失函数。计算结果显示Ca2Si是典型的半导体,正交相结构有一个直接的带隙,并且光学性质显示出各向异性。Ca2Si立方相的计算结果也显示是直接带隙半导体,并且有很高的振子强度。从能带和态密度的计算结果判断出它们的光学性质主要由Si的3p态电子向Ca的3d态的带间跃迁所决定。 展开更多
关键词 ca2si 第一性原理计算 电子结构 光学性质
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K掺杂立方相Ca2Si电子结构及光学性能的研究 被引量:5
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作者 丰云 谢泉 +3 位作者 高冉 王永远 沈向前 陈茜 《纳米科技》 2012年第1期1-6,共6页
基于第一性原理的密度泛函理论赝势平面波方法,采用广义梯度近似(GGA)对掺K的立方相Ca2Si的电子结构和光学性能,包括能带结构、态密度、介电函数、折射率、反射率、吸收系数、光电导率及能量损失函数进行理论计算,结果表明,掺K后立方... 基于第一性原理的密度泛函理论赝势平面波方法,采用广义梯度近似(GGA)对掺K的立方相Ca2Si的电子结构和光学性能,包括能带结构、态密度、介电函数、折射率、反射率、吸收系数、光电导率及能量损失函数进行理论计算,结果表明,掺K后立方相Ca2Si的能带向高能方向发生了偏移,形成直接带隙的P型半导体,禁带宽度为0.6230eV,光学带隙变宽,价带主要是Si的3p、Ca的4s、3d以及K的3p、4s态的贡献;静态介电函数ε1(0)=14.4;折射率n0=3.8;吸收系数最大峰值为3.47×105cm-1。通过掺杂调制材料电子结构和光电性能,为Ca2Si材料光电性能的开发与应用提供了理论依据。 展开更多
关键词 ca2si 掺杂 电子结构 光学性质 第一性原理
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溅射功率对Ca2Si薄膜性质的影响 被引量:1
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作者 任雪勇 谢泉 +4 位作者 杨吟野 肖清泉 杨创华 曾武贤 梁艳 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A04期1519-1521,共3页
采用射频磁控溅射技术在Si(100)衬底上沉积了si-ca-si薄膜,并在高真空条件下对样品进行退火处理,直接生成立方相Ca2Si薄膜。研究了不同溅射功率对薄膜的晶体结构、表面(断面)形貌的影响,并对其光学性质进行了测试分析。结果表明... 采用射频磁控溅射技术在Si(100)衬底上沉积了si-ca-si薄膜,并在高真空条件下对样品进行退火处理,直接生成立方相Ca2Si薄膜。研究了不同溅射功率对薄膜的晶体结构、表面(断面)形貌的影响,并对其光学性质进行了测试分析。结果表明:Ca2Si薄膜为立方结构且具有沿(111)向择优生长的特性,当溅射功率为120W时,Ca2Si薄膜变的均匀、致密,在400-800nm波长范围内,溅射功率对折射率n和吸收系数k的影响较小。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 ca2si薄膜 溅射功率
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Si空位缺陷对Ca2Si电子结构及光学性质的影响研究 被引量:1
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作者 邓永荣 陈秋琳 +1 位作者 骆远征 闫万珺 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2019年第4期278-281,共4页
基于第一性原理的方法计算了含Si空位缺陷Ca2Si的几何结构、能带结构、电子态密度及光学性质。计算结果表明,Si空位缺陷出现使Ca2Si的晶胞体积增大,带隙变宽,导电类型为n型,静态介电常数、反射率增大,介电函数虚部ε2、吸收系数向低能... 基于第一性原理的方法计算了含Si空位缺陷Ca2Si的几何结构、能带结构、电子态密度及光学性质。计算结果表明,Si空位缺陷出现使Ca2Si的晶胞体积增大,带隙变宽,导电类型为n型,静态介电常数、反射率增大,介电函数虚部ε2、吸收系数向低能方向移动。 展开更多
关键词 ca2si Si空位缺陷 第一性原理 电子结构 光学特性
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B掺杂Ca2Si电子结构的影响研究
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作者 邓永荣 何昌发 《科技创新与应用》 2020年第35期65-66,69,共3页
基于第一性原理的方法计算了B掺杂Ca2Si的电子结构,计算结果表明,B掺杂使晶胞体积减小,带隙变窄,导电类型为P型。
关键词 ca2si B掺杂 第一性原理
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半导体材料Ca2Si的研究进展
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作者 田川 《汽车世界》 2019年第18期208-208,共1页
随着我国经济社会的发展和工业化水平的不断提升,在工业发展的过程中高新技术、电子技术和信息技术的发展水平也在不断提升,其中半导体材料作为集成电路工业发展的重要基础,对于国家信息化建设有着深远的影响。集成电路在设计和制造的... 随着我国经济社会的发展和工业化水平的不断提升,在工业发展的过程中高新技术、电子技术和信息技术的发展水平也在不断提升,其中半导体材料作为集成电路工业发展的重要基础,对于国家信息化建设有着深远的影响。集成电路在设计和制造的过程中传统上所采用的材料不可回收和降解,对于我国的生态环境产生了不良的影响。为了适应我国环境友好型社会和环境友好型工业的发展需求,环境友好型半导体材料Ca2Si在目前集成电路设计和制作的过程中被广泛地运用,同时相关的工业企业也在不断加强对于Ca2Si材料的研究,旨在为提升集成电路的发展质量提供帮助。本文在开展研究的过程中旨在对环境友好型半导体材料Ca2Si的研究进展进行分析,探讨其应用前景及发展趋势。 展开更多
关键词 半导体材料 环境友好 ca2si
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Unexpected Carrier Mobility Anisotropy in the Two-dimensional Ca2Si Monolayer from First-principles Calculations
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作者 LI Rui-Feng YU Xin-Jiang +3 位作者 WEN Cui-Lian ZHANG Ying-Gan LIN Hui-Ling SA Bai-Sheng 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2020年第7期1243-1251,共9页
Development of the nano-electronics requires materials with both high carrier mobility and a sufficiently large electronic band gap.In this work,by means of ab initio calculations,we have predicted a new 2D Ca2Si mono... Development of the nano-electronics requires materials with both high carrier mobility and a sufficiently large electronic band gap.In this work,by means of ab initio calculations,we have predicted a new 2D Ca2Si monolayer with a quasi-planar hexa-coordinate structure.The geometrical structure,stability and electronic properties of Ca2Si monolayer have been systemically investigated.The Ca2Si monolayer is an indirect semiconductor with band gap of about 0.77 eV,which exhibits stable chemical bonding interactions as well as thermal and dynamic stability.Moreover,the carrier mobility in Ca2Si monolayer is electron dominated with a high electron mobility about 4590.47 cm2×V-1×s-1.It is excited that the 2D Ca2Si monolayer exhibits strong directionally anisotropic carrier mobility,which could effectively facilitate the migration and separation of the generated electron-hole pairs.Our calculations demonstrate that the 2D Ca2Si monolayer is potential for high efficiency solar cells and other nano-electronic applications. 展开更多
关键词 two-dimensional materials ca2si MONOLAYER first-principles calculations carrier mobility
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K掺杂正交相Ca_2Si电子结构和光学性质的第一性原理计算 被引量:5
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作者 丰云 谢泉 +3 位作者 高冉 沈向前 王永远 陈茜 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期155-160,共6页
采用第一性原理的平面波赝势方法和广义梯度近似(GGA),对K掺杂正交相Ca2Si前后的电子结构和光学性质进行比较分析。计算表明,掺K后正交相Ca2Si的能带向高能方向发生了偏移,形成直接带隙的p型半导体,禁带宽度为0.4318 eV,光学带隙变宽;掺... 采用第一性原理的平面波赝势方法和广义梯度近似(GGA),对K掺杂正交相Ca2Si前后的电子结构和光学性质进行比较分析。计算表明,掺K后正交相Ca2Si的能带向高能方向发生了偏移,形成直接带隙的p型半导体,禁带宽度为0.4318 eV,光学带隙变宽;掺杂K后价带主要是Si的3p态,Ca的3d、4s态以及K的3p、4s态的贡献。并利用计算的能带结构和态密度分析了K掺杂正交相Ca2Si前后的复介电函数、能量损失函数、反射光谱及吸收光谱,结果显示掺K增强了材料对太阳光谱中红外波段的能量利用。研究结果说明掺杂是改变材料电子结构和光电性能的有效手段,为Ca2Si材料光电性能的开发与应用提供了理论依据。 展开更多
关键词 ca2si 掺杂 电子结构 光学性质 第一性原理
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Sc掺杂正交相Ca_2Si电子结构及光学性质的第一性原理 被引量:7
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作者 冉耀宗 高冉 +3 位作者 黄浦 谢泉 陈茜 丰云 《光谱实验室》 CAS CSCD 2012年第6期3500-3507,共8页
采用基于第一性原理的密度泛函理论(DFT)赝势平面波方法,对块体及掺Sc的正交相Ca2Si的电子结构和光学性质进行了系统计算。计算结果表明,掺Sc后的Ca2Si能带向低能端偏移,形成n型半导体,正交相结构能隙变为0.6084eV,相比块体Ca2Si带隙加... 采用基于第一性原理的密度泛函理论(DFT)赝势平面波方法,对块体及掺Sc的正交相Ca2Si的电子结构和光学性质进行了系统计算。计算结果表明,掺Sc后的Ca2Si能带向低能端偏移,形成n型半导体,正交相结构能隙变为0.6084eV,相比块体Ca2Si带隙加宽了一倍,但仍为直接带隙半导体。Ca2Si掺杂Sc后,正交相导带主要是Ca的4s、3d态和Sc的3d、3p态电子构成,静态介电常数变大,折射率也变大,吸收系数相比块体在低能段基本无变化,在高能段虽吸收系数减小,但仍保持105数量级且大于β-FeSi2的吸收系数,说明Ca2Si在太阳能电池上具有较好的应用前景。通过掺杂有效调制了Ca2Si的电子结构和光学性质,计算结果为Ca2Si光电材料的设计与应用提供了理论依据。 展开更多
关键词 ca2si 正交相 掺杂 电子结构 光学性质 第一性原理
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第一性原理计算Al掺杂的正交相Ca_2Si的电子结构及光学性质 被引量:2
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作者 邓永荣 张春红 +3 位作者 闫万珺 覃信茂 周士芸 陈少波 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期135-140,共6页
采用基于第一性原理方法对Ca_2Si和Al掺杂Ca_2Si的能带结构、态密度和光学性质进行计算.结果表明Al掺杂引起了晶格结构畸变,晶胞体积增大;Al掺杂Ca_2Si使得费米能级插入价带中,Ca_2Si导电类型变为P型半导体,禁带宽度由未掺杂时的0.26减... 采用基于第一性原理方法对Ca_2Si和Al掺杂Ca_2Si的能带结构、态密度和光学性质进行计算.结果表明Al掺杂引起了晶格结构畸变,晶胞体积增大;Al掺杂Ca_2Si使得费米能级插入价带中,Ca_2Si导电类型变为P型半导体,禁带宽度由未掺杂时的0.26减小到0.144eV,价带主要由Si的3p,Al的3p以及Ca的4s和3d共同贡献,导带主要由Si的3p态贡献;光学性质的结果显示,由于Al掺入,ε1(0)值增大,ε2(ω)向低能端移动,吸收系数、复折射率增大,反射率减小. 展开更多
关键词 Al掺杂ca2si 电子结构 光学特性 第一性原理
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射频溅射沉积不同厚度Ca膜退火直接形成Ca_2Si膜(英文) 被引量:5
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作者 杨吟野 谢泉 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期675-678,共4页
使用射频磁控溅射系统在恒定溅射功率、Ar气压和Ar气流流量下,在Si(100)衬底上,分别沉积不同厚度的Ca膜。随后,800℃真空退火45分钟、1小时和1.5小时。半导体钙硅化物,即立方相的Ca2Si膜和简单正交相的Ca2Si膜首次、单独、直接生长在Si(... 使用射频磁控溅射系统在恒定溅射功率、Ar气压和Ar气流流量下,在Si(100)衬底上,分别沉积不同厚度的Ca膜。随后,800℃真空退火45分钟、1小时和1.5小时。半导体钙硅化物,即立方相的Ca2Si膜和简单正交相的Ca2Si膜首次、单独、直接生长在Si(100)衬底上。实验结果指明在多相共生的Ca-Si化合物中,Ca膜的沉积厚度、因溅射而生长的Ca-Si化合物的生长厚度决定了某一个单相的钙硅化物独立的生长。另外,退火温度为800℃时,有利于单相钙硅化物的独立生长。并且,退火时间也是关键因素。 展开更多
关键词 ca2si 晶核形成 半导体硅化物 退火 磁控溅射
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环境半导体材料Ca_2Si的电子结构研究 被引量:3
12
作者 肖清泉 谢泉 +3 位作者 杨吟野 张晋敏 赵凤娟 杨创华 《海南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2008年第2期148-152,共5页
运用Materials Studio软件对半导体材料Ca2Si的电子结构进行了计算,结果表明,Ca2Si材料为直接带隙类型材料,计算值比实验测量值小.Ca2Si的价带由Ca的4s、4p、3d态和Si的3p态构成;Ca2Si的导带主要是由钙的3d、4s、4p态构成,硅的3s、3p对... 运用Materials Studio软件对半导体材料Ca2Si的电子结构进行了计算,结果表明,Ca2Si材料为直接带隙类型材料,计算值比实验测量值小.Ca2Si的价带由Ca的4s、4p、3d态和Si的3p态构成;Ca2Si的导带主要是由钙的3d、4s、4p态构成,硅的3s、3p对导带的贡献相对要小得多. 展开更多
关键词 环境半导体材料 ca2si 电子结构
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环境友好半导体Ca_2Si晶体生长及其性能研究 被引量:1
13
作者 崔冬萌 任雪勇 +2 位作者 谢泉 付姗姗 周文娟 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2008年第5期459-464,共6页
环境友好半导体材料Ca2Si晶体是直接带隙半导体,在室温下,其禁带宽度为1.9 eV,且在4.5 eV以下能量范围内,Ca2Si的光吸收系数大于β-FeSi2,因此,有望使用Ca2Si开发发光二极管、高效率太阳能电池等。综述了近年来Ca2Si的晶格特性、光电性... 环境友好半导体材料Ca2Si晶体是直接带隙半导体,在室温下,其禁带宽度为1.9 eV,且在4.5 eV以下能量范围内,Ca2Si的光吸收系数大于β-FeSi2,因此,有望使用Ca2Si开发发光二极管、高效率太阳能电池等。综述了近年来Ca2Si的晶格特性、光电性质及其制备方法的研究进展,由于现有的制备方法不适合大面积的制备Ca2Si材料,因此,提出了利用磁控溅射技术制备Ca2Si材料的设想。展望了Ca2Si的应用前景,探讨了当前Ca2Si研究领域中存在的问题。 展开更多
关键词 ca2si晶体 直接带隙材料 太阳能电池
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环境友好半导体材料Ca_2Si的研究进展 被引量:1
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作者 肖清泉 谢泉 +2 位作者 杨吟野 张晋敏 任雪勇 《山西科技》 2007年第2期106-107,113,共3页
Ca2Si是由两种丰富且无毒的化学元素构成,被认为是很有前景的新型环境半导体材料之一。文章综述了近年来Ca2Si的晶格特性、光电性质及其制备方法的研究进展,并着重对两步法制备Ca2Si薄膜进行了介绍,最后展望了Ca2Si的应用前景,探讨了当... Ca2Si是由两种丰富且无毒的化学元素构成,被认为是很有前景的新型环境半导体材料之一。文章综述了近年来Ca2Si的晶格特性、光电性质及其制备方法的研究进展,并着重对两步法制备Ca2Si薄膜进行了介绍,最后展望了Ca2Si的应用前景,探讨了当前Ca2Si研究领域中存在的问题。 展开更多
关键词 环境半导体材料 ca2si 晶格特性 光电性质 制备方法
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环境友好半导体Ca_2Si的研究进展 被引量:1
15
作者 任雪勇 杨创华 肖清泉 《重庆工学院学报》 2007年第15期24-28,共5页
概述了Ca2Si的基本性质、制备工艺和应用,阐述了Ca2Si的研究进展及其制备,指出了存在的问题以及今后的研究方向.
关键词 光电材料 ca2si 结构 制备
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不同射频溅射功率下直接制备Ca_2Si薄膜(英文)
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作者 杨吟野 谢泉 +2 位作者 王义 曾正 罗胜耘 《测试技术学报》 2009年第5期402-406,共5页
磁控溅射系统在恒定Ar气压和Ar气流流量下,使用不同射频溅射功率在Si(100)衬底上分别沉积Ca薄膜;随后,800℃真空退火1 h.立方相的Ca2Si薄膜首次、单独、直接生长在Si(100)衬底上.实验结果指出,在多相共生的Ca-Si化合物中,沉积Ca薄膜时... 磁控溅射系统在恒定Ar气压和Ar气流流量下,使用不同射频溅射功率在Si(100)衬底上分别沉积Ca薄膜;随后,800℃真空退火1 h.立方相的Ca2Si薄膜首次、单独、直接生长在Si(100)衬底上.实验结果指出,在多相共生的Ca-Si化合物中,沉积Ca薄膜时的射频溅射功率影响了立方相Ca2Si薄膜的质量;最优化的溅射功率是85 W.另外,退火温度为800℃时,有利于单一相Ca2Si的独立生长.并且,退火时间也是关键因素. 展开更多
关键词 ca2si 射频溅射 形核 退火 半导体硅化物
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环境半导体Ca_2Si薄膜制备及椭偏光谱研究
17
作者 肖清泉 谢泉 +2 位作者 杨吟野 余志强 赵珂杰 《湖南工程学院学报(自然科学版)》 2008年第4期37-39,共3页
采用磁控溅射系统成功地制备出了环境半导体Ca2Si薄膜,并对制备出的Ca2Si薄膜进行了椭偏光谱测量研究,得到了不同退火温度下Ca2Si薄膜的光学常数谱.结果表明,Ca2Si薄膜的折射率在4.3 eV附近取得极小值,其消光系数在3.3 eV附近取得极大值.
关键词 环境半导体 ca2si薄膜 磁控溅射 椭偏光谱
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P掺杂正交相Ca_2Si电子结构及光学性质的第一性原理计算 被引量:9
18
作者 岑伟富 杨吟野 +1 位作者 范梦慧 邵树琴 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期153-157,共5页
采用基于密度泛函理论第一性原理超软贋势平面波方法系统计算了Ca2Si及P掺杂Ca2Si的电子结构、光学性质,分析了P掺杂对Ca2Si的能带结构、电子态密度、光学性质的影响.计算结果表明:掺入P后Ca2Si的能带向低能方向偏移,禁带宽带为0.557 95... 采用基于密度泛函理论第一性原理超软贋势平面波方法系统计算了Ca2Si及P掺杂Ca2Si的电子结构、光学性质,分析了P掺杂对Ca2Si的能带结构、电子态密度、光学性质的影响.计算结果表明:掺入P后Ca2Si的能带向低能方向偏移,禁带宽带为0.557 95eV,价带主要由Si的3p,P的3p以及Ca的4s、3d电子构成,导带主要由Ca的3d电子贡献.通过能带结构和态密度分析了P掺杂正交相Ca2Si的复介电函数、折射率、反射谱、吸收谱和能量损失函数,结果表明P掺杂增强了Ca2Si的光利用率,说明掺杂能够有效改变材料电子结构和光电性能,为Ca2Si材料光电性能的开发、应用提供理论依据. 展开更多
关键词 电子结构 光学性质 第一性原理 ca2si 掺杂
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不同浓度Ti掺杂Ca_2Si电子结构及光学性质的研究 被引量:2
19
作者 邓永荣 闫万珺 +2 位作者 张春红 覃信茂 周士芸 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2019年第1期49-53,共5页
采用第一性原理方法计算不同Ti含量Ca_2Si的几何结构、能带结构、电子态密度及光学性质。几何结构和电子结构的计算结果表明,Ti掺杂使Ca_2Si的晶格常数a增大,b、c减小,晶胞体积减小。Ca_(2-x)Ti_xSi的带隙变宽,其中掺杂浓度为4.2%时带... 采用第一性原理方法计算不同Ti含量Ca_2Si的几何结构、能带结构、电子态密度及光学性质。几何结构和电子结构的计算结果表明,Ti掺杂使Ca_2Si的晶格常数a增大,b、c减小,晶胞体积减小。Ca_(2-x)Ti_xSi的带隙变宽,其中掺杂浓度为4.2%时带隙最大为0.55 eV,费米面进入导带,导电类型为n型。Ti的掺入削弱了Ca的3d态电子贡献,费米能级附近电子态密度仍主要由Ca-3d态电子贡献。光学性质的计算结果表明,Ti掺入后介电函数虚部、吸收系数向低能端偏移,光学跃迁强度减弱,反射率在E=0 eV处增大。 展开更多
关键词 ca2si Ti掺杂 第一性原理 电子结构 光学特性
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微波场作用下白光LED用绿色荧光粉Ca_3Sc_2Si_3O_(12)∶Ce的快速合成及其发光特性 被引量:8
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作者 冯春燕 孟媛 +2 位作者 刘小丽 王敬贤 杨琳 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期87-91,共5页
采用微波法快速合成了Ca3Sc2Si3O12∶Ce绿色荧光粉。用X射线粉末衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光分光光度计等对合成产物的结构、形貌、以及发光特性进行了研究。结果表明:材料的晶体结构与Ca3Sc2Si3O12的相同,属于立方晶系,具有Ia3d空... 采用微波法快速合成了Ca3Sc2Si3O12∶Ce绿色荧光粉。用X射线粉末衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光分光光度计等对合成产物的结构、形貌、以及发光特性进行了研究。结果表明:材料的晶体结构与Ca3Sc2Si3O12的相同,属于立方晶系,具有Ia3d空间群。颗粒的形貌为类球形,分散性很好,尺寸小于1μm。激发光谱为一位于400~500 nm的宽带,可与蓝光LED芯片匹配使用。发射光谱也呈现为一宽带,发射主峰位于505 nm,该宽峰对应于Ce3+离子的5d-2F5/2及5d-2F7/2能级跃迁。研究发现Ce的掺杂浓度对样品主发射峰的发光强度有着很重要的影响,Ca3-xSc2Si3O12∶Cex荧光粉的最佳掺杂浓度为x=0.10时达到最大,继续增加Ce的浓度发光强度反而降低。 展开更多
关键词 Ca3Sc2Si3O12∶Ce 微波法 激发光谱 发射光谱
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