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A Comparative Study of Fabrication of Long Wavelength Diode Lasers Using CCl2F2/O2 and H2/CH4
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作者 B.Cakmak M.Biber +1 位作者 T.Karacali C.Duman 《Optics and Photonics Journal》 2013年第2期21-24,共4页
We report comparatively on fabrication of two-section ridge-waveguide tapered 3 quantum well (QW) InGaAsP/InP (1300 nm) and 5 QW AlGaInAs/InP (1550 nm) diode lasers. Gas mixtures of CCl2F2/O2 and H2/CH4 were used to f... We report comparatively on fabrication of two-section ridge-waveguide tapered 3 quantum well (QW) InGaAsP/InP (1300 nm) and 5 QW AlGaInAs/InP (1550 nm) diode lasers. Gas mixtures of CCl2F2/O2 and H2/CH4 were used to form ridge-waveguide on the lasers with InP-based material structures. As known, chlorine- and hydro-carbon based gases are used to fabricate ridge-waveguide structures. Here, we show the difference between the structures obtained by using the both gas mixtures in which surface and sidewall structures as well as performance of the lasers were analysed using scanning electron microscopy. It is demonstrated that gas mixtures of CCl2F2/O2 highly deteriorated the etched structures although different flow rates, rf powers and base pressures were tried. We also show that the structures etched with H2/CH4 gas mixtures produced much better results that led to the successful fabrication of two-section devices with ridge-waveguide. The lasers fabricated using H2/CH4 were characterized using output power-current (P-I) and spectral results. 展开更多
关键词 Diode Lasers FABRICATION Two-Section Ridge-Waveguide ccl2f2/O2 and H2/CH4
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负载型钯酞菁催化剂上CCl_2F_2的选择性加氢脱氯反应 被引量:5
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作者 曹育才 李建龙 姜玄珍 《磁流体发电情报》 EI CAS 2004年第3期373-378,共6页
负载型钯酞菁能有效催化CCl2 F2 的选择性加氢脱氯反应 ,在氟化物为载体的钯酞菁催化剂上 ,CCl2 F2转化成CH2 F2 的选择性可达 75 %以上 .对比研究表明 ,负载型钯酞菁催化剂上CCl2 F2 选择性加氢脱氯的稳态催化活性要高于普通的负载型... 负载型钯酞菁能有效催化CCl2 F2 的选择性加氢脱氯反应 ,在氟化物为载体的钯酞菁催化剂上 ,CCl2 F2转化成CH2 F2 的选择性可达 75 %以上 .对比研究表明 ,负载型钯酞菁催化剂上CCl2 F2 选择性加氢脱氯的稳态催化活性要高于普通的负载型金属钯催化剂 .在钯活性中心引入环状酞菁配体能有效提高催化剂在高腐蚀性反应条件下的稳定性 .红外光谱、X射线衍射和紫外 可见光谱表征揭示了负载型钯酞菁催化剂具有良好催化活性和催化稳定性的可能原因 . 展开更多
关键词 负载型钯酞菁催化剂 ccl2f2 选择性加氢脱氯反应 催化性能
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高比表面积α-AlF_3的制备和表征 被引量:3
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作者 于洪波 王月娟 +2 位作者 彭小波 朱琳 罗孟飞 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第5期905-909,共5页
采用炭硬模板法制备了高比表面积的α-AlF3(HS-α-AlF3)。首先,将一定浓度的蔗糖溶液浸渍到γ-Al2O3中,然后经过热处理,使得蔗糖分解为炭。其次,将含炭的γ-Al2O3固体用HF气体进行氟化。最后,再利用燃烧法除去炭硬模板。采用XRD、低温... 采用炭硬模板法制备了高比表面积的α-AlF3(HS-α-AlF3)。首先,将一定浓度的蔗糖溶液浸渍到γ-Al2O3中,然后经过热处理,使得蔗糖分解为炭。其次,将含炭的γ-Al2O3固体用HF气体进行氟化。最后,再利用燃烧法除去炭硬模板。采用XRD、低温氮吸附-脱附、NH3-TPD、SEM-EDX等技术对样品进行了表征。结果表明,当炭化温度为450℃时,HF-N2混合气体积比为1:4,除碳温度为425℃时,制得的α-AlF3比表面积最大,为66 m2.g-1。此外,HS-α-AlF3催化剂对CCl2F2歧化反应的催化活性也明显高于常规方法制备的低比表面积的α-AlF3,这是因为高比表面积的α-AlF3催化剂具有较大的酸量。 展开更多
关键词 α-AlF3 高比表面积 炭硬模板 ccl2f2歧化反应
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CCl_2F_2等离子体干法刻蚀InSb-In薄膜的研究 被引量:1
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作者 赵智昊 陈俊芳 +2 位作者 黄钊洪 吴先球 熊予莹 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2003年第4期8-10,共3页
用朗缪尔探针诊断了反应室内的等离子体密度,研究了CCl2F2等离子体对InSb In薄膜的刻蚀,结果表明该实验装置能够产生高密度等离子体,在刻蚀样品表面等离子体密度达到6.7170×1010cm-3,CCl2F2等离子体能有效地对InSb In薄膜进行刻蚀。
关键词 等离子体 干法刻蚀 锑化铟-铟薄膜 ccl2f2 InSb-In薄膜 磁传感器
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部分气体具有高耐电强度性能的原因
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《农村电工》 2016年第12期43-43,共1页
编辑同志: 请问为什么SR6(六氟化硫)、CCl2F2(氟利昂)、CCl4(四氯化碳)等气体具有高耐电强度性能? (江西省九江县 谷绿) 谷绿同志: (1)这些气体中都含有卤族元素,卤族元素的原子结构中最外层电子为7个,而原子最外层... 编辑同志: 请问为什么SR6(六氟化硫)、CCl2F2(氟利昂)、CCl4(四氯化碳)等气体具有高耐电强度性能? (江西省九江县 谷绿) 谷绿同志: (1)这些气体中都含有卤族元素,卤族元素的原子结构中最外层电子为7个,而原子最外层电子饱和数为8个,因此卤族元素具有强大的俘获电子的能力,亦即具有很强的负电性。 展开更多
关键词 强度性能 气体 原因 ccl2f2 卤族元素 原子结构 六氟化硫 四氯化碳
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1-氟-1,1-二氯乙烷与氟原子反应的理论研究 被引量:1
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作者 郭佳 赵清岚 《化学研究》 CAS 2011年第6期82-84,共3页
利用密度泛函理论研究了CH3CCl2F与F原子的反应机理.在MPW1K水平下计算了反应物、过渡态和产物的几何构型和频率,并进一步利用内禀反应坐标理论获得了反应的最小能量路径;在G3(MP2)水平下对所有驻点进行了单点能量校正.结果表明,CH3CCl2... 利用密度泛函理论研究了CH3CCl2F与F原子的反应机理.在MPW1K水平下计算了反应物、过渡态和产物的几何构型和频率,并进一步利用内禀反应坐标理论获得了反应的最小能量路径;在G3(MP2)水平下对所有驻点进行了单点能量校正.结果表明,CH3CCl2F与F原子的反应存在两个H迁移反应通道:CH2H′CCl2F+F→CHH′CCl2F+HF(Ra→)CH2CCl2F+H′F(Rb) 展开更多
关键词 反应机理 CH2H′CCl2F 密度泛函理论
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