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采用混合模式晶体管(BMHMT)构成低温BiCMOS集成电路
被引量:
3
1
作者
李树荣
郭维廉
+2 位作者
郑云光
刘理天
李志坚
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第9期715-720,共6页
本文介绍采用与CMOS工艺完全相容的双极/MOS混合模式晶体管(BMHMT)构成新型的低温BiCMOS集成电路.理论分析表明该电路与CMOS相比,在电压摆幅相同,静态功耗相近的条件下,具有更大的驱动能力,尤其在较低的...
本文介绍采用与CMOS工艺完全相容的双极/MOS混合模式晶体管(BMHMT)构成新型的低温BiCMOS集成电路.理论分析表明该电路与CMOS相比,在电压摆幅相同,静态功耗相近的条件下,具有更大的驱动能力,尤其在较低的工作电压下,其特点更加突出.我们用统一的标准和相同芯片面积设计了39级带负载的BiCMOS和CMOS环形振荡器.实验样品经室温和低温平均门延迟时间测试,表明在相同工作电压下BiCMOS优于CMOS.若两种电路都采用SOI结构。
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关键词
混合模式晶体管
VLSI
bmhmt
IC
铋CMOS
制造工艺
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职称材料
Si-Ge异质结基区BMHMT三端特性的器件模拟
2
作者
毛陆虹
郭维廉
+2 位作者
陈培毅
牛萍娟
沙亚男
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期141-143,共3页
在常规混合模式晶体管的基础上 ,提出了一种新的器件结构—— Si- Ge异质结基区 Bi-MOS混合模式晶体管 ( BMHMT)。由于基区采用禁带宽度较窄的 Si- Ge合金材料 ,引起空穴向发射区反注入的势垒提高 ,这样 ,一方面减小了空穴电流 IB,提高...
在常规混合模式晶体管的基础上 ,提出了一种新的器件结构—— Si- Ge异质结基区 Bi-MOS混合模式晶体管 ( BMHMT)。由于基区采用禁带宽度较窄的 Si- Ge合金材料 ,引起空穴向发射区反注入的势垒提高 ,这样 ,一方面减小了空穴电流 IB,提高了注入效率 ;同时又增大了迁移率 ,从而提高特征频率。因此 ,这种器件具有 β高、基区电阻低。
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关键词
混合模式晶体管
Si-Ge异质结
三端特性
bmhmt
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职称材料
SOI结构P型SiGe沟道混合模式晶体管器件模型研究
3
作者
夏克军
李树荣
+4 位作者
王纯
郭维廉
郑云光
陈培毅
钱佩信
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期312-317,共6页
在带有应变SiGe沟道的SOIMOSFET结构中 ,把栅和衬底相连构成了新型的混合模式晶体管 (SiGeSOIBMHMT) .在SIVACO软件的器件数值模拟基础上 ,对这种结构的P型沟道管工作过程作了分析 ,并建立了数学模型 .提出在低电压 (小于 0 7V)下 ,衬...
在带有应变SiGe沟道的SOIMOSFET结构中 ,把栅和衬底相连构成了新型的混合模式晶体管 (SiGeSOIBMHMT) .在SIVACO软件的器件数值模拟基础上 ,对这种结构的P型沟道管工作过程作了分析 ,并建立了数学模型 .提出在低电压 (小于 0 7V)下 ,衬底电极的作用可近似等效成栅 ,然后依据电荷增量 (非平衡过剩载流子 )的方法 ,推导出该结构的I V特性方程 .该方程的计算结果与器件模拟结果相一致 .
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关键词
晶体管
bmhmt
器件模型
SIGE
SOI
MOSFET
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职称材料
题名
采用混合模式晶体管(BMHMT)构成低温BiCMOS集成电路
被引量:
3
1
作者
李树荣
郭维廉
郑云光
刘理天
李志坚
机构
天津大学信息工程学院
清华大学微电子学研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第9期715-720,共6页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文介绍采用与CMOS工艺完全相容的双极/MOS混合模式晶体管(BMHMT)构成新型的低温BiCMOS集成电路.理论分析表明该电路与CMOS相比,在电压摆幅相同,静态功耗相近的条件下,具有更大的驱动能力,尤其在较低的工作电压下,其特点更加突出.我们用统一的标准和相同芯片面积设计了39级带负载的BiCMOS和CMOS环形振荡器.实验样品经室温和低温平均门延迟时间测试,表明在相同工作电压下BiCMOS优于CMOS.若两种电路都采用SOI结构。
关键词
混合模式晶体管
VLSI
bmhmt
IC
铋CMOS
制造工艺
Keywords
Bipolar transistors
Bismuth compounds
Silicon on insulator technology
分类号
TN387.5 [电子电信—物理电子学]
TN470.5 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
Si-Ge异质结基区BMHMT三端特性的器件模拟
2
作者
毛陆虹
郭维廉
陈培毅
牛萍娟
沙亚男
机构
天津大学电信工程学院微电子系
清华大学微电子学研究所
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期141-143,共3页
基金
国家自然科学基金重点项目!(6 9836 0 2 0 )
文摘
在常规混合模式晶体管的基础上 ,提出了一种新的器件结构—— Si- Ge异质结基区 Bi-MOS混合模式晶体管 ( BMHMT)。由于基区采用禁带宽度较窄的 Si- Ge合金材料 ,引起空穴向发射区反注入的势垒提高 ,这样 ,一方面减小了空穴电流 IB,提高了注入效率 ;同时又增大了迁移率 ,从而提高特征频率。因此 ,这种器件具有 β高、基区电阻低。
关键词
混合模式晶体管
Si-Ge异质结
三端特性
bmhmt
Keywords
Hybrid mode tr ansistor
Si-Ge device
Si-Ge heterojuncti on
Three-terminal characteristics
分类号
TN422.8 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
SOI结构P型SiGe沟道混合模式晶体管器件模型研究
3
作者
夏克军
李树荣
王纯
郭维廉
郑云光
陈培毅
钱佩信
机构
天津大学电信学院
清华大学微电子所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期312-317,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目 (批准号 :6 9836 0 2 0 )~~
文摘
在带有应变SiGe沟道的SOIMOSFET结构中 ,把栅和衬底相连构成了新型的混合模式晶体管 (SiGeSOIBMHMT) .在SIVACO软件的器件数值模拟基础上 ,对这种结构的P型沟道管工作过程作了分析 ,并建立了数学模型 .提出在低电压 (小于 0 7V)下 ,衬底电极的作用可近似等效成栅 ,然后依据电荷增量 (非平衡过剩载流子 )的方法 ,推导出该结构的I V特性方程 .该方程的计算结果与器件模拟结果相一致 .
关键词
晶体管
bmhmt
器件模型
SIGE
SOI
MOSFET
Keywords
bmhmt
device model
SiGe
SOI
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
采用混合模式晶体管(BMHMT)构成低温BiCMOS集成电路
李树荣
郭维廉
郑云光
刘理天
李志坚
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
Si-Ge异质结基区BMHMT三端特性的器件模拟
毛陆虹
郭维廉
陈培毅
牛萍娟
沙亚男
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
SOI结构P型SiGe沟道混合模式晶体管器件模型研究
夏克军
李树荣
王纯
郭维廉
郑云光
陈培毅
钱佩信
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
0
在线阅读
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职称材料
已选择
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