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GaAs、Al_xGa_（1－x）As外延层少子扩散长度及霍耳迁移率的无接触测 被引量：1
1
作者 王宗欣 褚幼令 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期583-588,共6页
用微波介质波导法无接触测试了生长在半绝缘衬底上的ＧａＡｓ、ＡｌｘＧａ１－ｘＡｓ外延层的微波光电导谱和横向磁阻，给出了从微波光电导谱计算少子扩散长度和从横向磁阻计算霍耳迁移率的方法，并且由此算得外延层的少于扩散长度和霍... 用微波介质波导法无接触测试了生长在半绝缘衬底上的ＧａＡｓ、ＡｌｘＧａ１－ｘＡｓ外延层的微波光电导谱和横向磁阻，给出了从微波光电导谱计算少子扩散长度和从横向磁阻计算霍耳迁移率的方法，并且由此算得外延层的少于扩散长度和霍耳迁移率．本方法对被测样品的几何形状和尺寸无特殊要求，测试区域小于５×５ｍｍ２，具有无损伤、不污染的优点，并配有微机控制，测试迅速方便． 展开更多
关键词 GAAS 外延层 alaas 少子扩散长度 霍耳迁移率
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