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Growth of high quality InSb thin films on GaAs substrates by molecular beam epitaxy method with AlInSb/GaSb as compound buffer layers 被引量:1
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作者 Yong Li Xiao-Ming Li +9 位作者 Rui-Ting Hao Jie Guo Yu Zhuang Su-Ning Cui Guo-Shuai Wei Xiao-Le Ma Guo-Wei Wang Ying-Qiang Xu Zhi-Chuan Niu Yao Wang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第2期573-577,共5页
A series of In Sb thin films were grown on Ga As substrates by molecular beam epitaxy(MBE).Ga Sb/Al In Sb is used as a compound buffer layer to release the strain caused by the lattice mismatch between the substrate a... A series of In Sb thin films were grown on Ga As substrates by molecular beam epitaxy(MBE).Ga Sb/Al In Sb is used as a compound buffer layer to release the strain caused by the lattice mismatch between the substrate and the epitaxial layer,so as to reduce the system defects.At the same time,the influence of different interface structures of Al In Sb on the surface morphology of buffer layer is explored.The propagation mechanism of defects with the growth of buffer layer is compared and analyzed.The relationship between the quality of In Sb thin films and the structure of buffer layer is summarized.Finally,the growth of high quality In Sb thin films is realized. 展开更多
关键词 compound buffers alinsb/gasb defect inhibition INSB molecular beam epitaxy(MBE)
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基于GaAs界面的长波InAs/GaSb超晶格红外焦平面探测器研制
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作者 周旭昌 蒋志 +13 位作者 班雪峰 王海澎 孔金丞 邓功荣 岳彪 黄俊博 木迎春 雷晓虹 陈蕊 王海虎 陈杰 周艳 段碧雯 李淑芬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第8期56-63,共8页
开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流... 开展了基于GaAs界面的InAs/GaSb超晶格红外探测器材料和焦平面探测器研究。采用分子束外延(MBE)技术在InAs衬底上生长了高质量的PB1nB2N双势垒超晶格材料,通过GaAs界面的引入来提高了超晶格材料生长温度来改善材料晶体质量并降低暗电流;同时通过结构设计将电场加载到宽带隙的电子和空穴势垒阻挡层,实现了窄带隙吸收层与耗尽区分离,减小产生-复合暗电流。采用ICP干法刻蚀技术制备出光滑台面,通过硫化/介质膜复合钝化技术实现了低侧壁漏电,研制出长波640×512焦平面探测器组件,截止波长为10.14μm,NETD达到17.8 mK,有效像元率达到99.89%,量子效率达到37%,成像验证展现出优良的光电性能。 展开更多
关键词 GaAs界面 INAS/gasb超晶格 长波 焦平面
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中/长波双色1280×1024 InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器研究
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作者 刘铭 游聪娅 +11 位作者 任昂 程雨 张轶 王静 王晓乾 闫勇 周蕾 常发冉 徐应强 张烨 梁岩 王国伟 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第12期78-84,共7页
双色红外探测器利用不同波段的响应特性差异,可有效提高探测识别能力。文中报道了中/长波双色超晶格红外探测器研究结果。探测器采用两个超晶格PN结二极管以背靠背形式形成PN-N P的叠层外延结构。双波段信号通过偏压调节顺序读出。通过... 双色红外探测器利用不同波段的响应特性差异,可有效提高探测识别能力。文中报道了中/长波双色超晶格红外探测器研究结果。探测器采用两个超晶格PN结二极管以背靠背形式形成PN-N P的叠层外延结构。双波段信号通过偏压调节顺序读出。通过台面制备、表面钝化、电极生长、倒装互连、衬底减薄等制备工艺,研制出了阵列规格1280×1024、像元中心距15μm×15μm中/长波双色超晶格红外探测器组件。经测试,探测器中波和长波的50%截止波长分别为4.99μm和9.53μm,在F/2、77 K条件下中波和长波噪声等效温差(NETD)分别达到18.9 m K和27.6 mK。中波和长波成像质量良好,双波段差异对比清晰,体现了中/长波双波段探测成像的优势。 展开更多
关键词 Ⅱ类超晶格 双色 焦平面阵列 INAS/gasb
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非均匀离散化有限差分法应用于InAs/GaSb超晶格微带计算
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作者 蒋志 周旭昌 +1 位作者 杨晋 孔金丞 《红外技术》 北大核心 2025年第11期1382-1389,共8页
基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波... 基于k·p微扰理论的8带Kane模型和Lüttinger-Kohn模型是计算锑化物二类超晶格微带结构的有效手段,常用于锑化物二类超晶格材料和器件结构设计。在8带k·p模型基础上用非均匀离散化有限差分法构建长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格的总矩阵。通过计算超晶格总哈密顿矩阵的本征值对超晶格在波矢空间的E-k关系进行数值求解,得到长波InAs/GaSb超晶格和中波InAs/GaSb超晶格在波矢空间高对称点附近的微带(mini-band)结构。其中中波和长波超晶格的有效带隙分别为0.247 eV和0.109 eV,与均匀网格离散化方案的计算结果一致,并与以相同超晶格结构作吸收层的器件100%截止波长测试结果一致。非均匀网格离散化方案与均匀网格离散化方案相比,在保证精算准确性的前提下,能显著提升InAs/GaSb超晶格微带结构的数值计算效率。 展开更多
关键词 INAS/gasb超晶格 k·p模型 有限差分法 非均匀离散化
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Mid-wavelength infrared planar junction photodetector based on InAs/GaSb Type-Ⅱsuperlattices
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作者 Shihao Zhang Hongyue Hao +13 位作者 Ye Zhang Shuo Wang Xiangyu Zhang Ruoyu Xie Lingze Yao Faran Chang Yifan Shan Haofeng Liu Guowei Wang Donghai Wu Dongwei Jiang Yingqiang Xu Zhichuan Niu Wenjing Dong 《Journal of Semiconductors》 2025年第11期70-74,共5页
In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),fo... In this paper,a planar junction mid-wavelength infrared(MWIR)photodetector based on an InAs/GaSb type-Ⅱsuper-lattices(T2SLs)is reported.The Intrinsic-πMN superlattices was grown by the molecular beam epitaxy(MBE),followed with a ZnS layer grown by the chemical vapor deposition(CVD).The p-type contact layer was constructed by thermal diffusion in the undoped superlattices.The Zinc atom was successfully realised into the superlattice and a PπMN T2SL structure was con-structed.Furthermore,the effects of different diffusion temperatures on the dark current performance of the devices were researched.The 50%cut-off wavelength of the photodetector is 5.26μm at 77 K with 0 V bias.The minimum dark current density is 8.67×10^(−5) A/cm^(2) and the maximum quantum efficiency of 42.5%,and the maximum detectivity reaches 3.90×10^(10) cm·Hz^(1/2)/W at 77 K.The 640×512 focal plane arrays(FPA)based on the planner junction were fabricated afterwards.The FPA achieves a noise equivalent temperature difference(NETD)of 539 mK. 展开更多
关键词 InAs/gasb type-Ⅱsuperlattices planar photodetector mid-wavelength infrared zinc diffusion
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Mixed‑Dimensional Nanowires/Nanosheet Heterojunction of GaSb/Bi_(2)O_(2)Se for Self‑Powered Near‑Infrared Photodetection and Photocommunication
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作者 Guangcan Wang Zixu Sa +6 位作者 Zeqi Zang Pengsheng Li Mingxu Wang Bowen Yang Xiaoyue Wang Yanxue Yin Zai‑xing Yang 《Nano-Micro Letters》 2025年第11期572-583,共12页
With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narr... With high surface-to-volume ratio,the abundant surface states and high carrier concentration are challenging the nearinfrared photodetection behaviors of narrow band gap semiconductors nanowires.In this study,the narrow band gap semiconductor of Bi_(2)O_(2)Se nanosheets(NSs)is adopted to construct mixed-dimensional heterojunctions with GaSb nanowires(NWs)for demonstrating the impressive self-powered NIR photodetection.Benefiting from the built-in electric field of~140 meV,the as-constructed NW/NS mixeddimensional heterojunction self-powered photodetector shows the low dark current of 0.07 pA,high I_(light)/I_(dark)ratio of 82 and fast response times of<2/2 ms at room temperature.The self-powered photodetector performance can be further enhanced by fabricating the NW array/NS mixed-dimensional heterojunction by using a contact printing technique.The excellent photodetection performance promises the asconstructed NW/NS mixed-dimensional heterojunction self-powered photodetector in imaging and photocommunication. 展开更多
关键词 Near-infrared photodetection Self-powered photodetection Mixed-dimensional heterojunction gasb nanowire Bi_(2)O_(2)Se nanosheet
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GaAs基GaSb体材料及InAs/GaSb超晶格材料的MBE生长 被引量:5
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作者 郝瑞亭 徐应强 +2 位作者 周志强 任正伟 牛智川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1088-1091,共4页
采用分子束外延方法在GaAs(100)衬底上生长GaSb体材料,以此GaSb为缓冲层生长了不同InAs厚度的InAs/GaSb超晶格,其10K光致发光谱峰值波长在2.0~2.6μm.高分辨透射电子显微镜观察证实超晶格界面清晰,周期完整.
关键词 分子束外延 GAAS gasb INAS/gasb超晶格
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320×256元InAs/GaSb II类超晶格中波红外双色焦平面探测器 被引量:10
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作者 白治中 徐志成 +5 位作者 周易 姚华城 陈洪雷 陈建新 丁瑞军 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期716-720,共5页
报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ... 报道了320×256元InAs/GaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果.探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,信号提取采用顺序读出方式.运用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料,双波段红外吸收区的超晶格周期结构分别为7 ML InAs/7 ML GaSb和10 ML InAs/10 ML GaSb.焦平面阵列像元中心距为30μm.在77 K时测试,器件双色波段的50%响应截止波长分别为4.2μm和5.5μm,其中N-on-P器件平均峰值探测率达到6.0×10^(10) cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为8.6%;P-on-N器件平均峰值探测率达到2.3×10~9 cmHz^(1/2)W^(-1),盲元率为9.8%.红外焦平面偏压调节成像测试得到较为清晰的双波段成像. 展开更多
关键词 INAS/gasb 超晶格 双色 焦平面
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长波InAs/GaSbⅡ类超晶格红外探测器 被引量:11
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作者 周易 陈建新 +5 位作者 徐庆庆 徐志成 靳川 许佳佳 金巨鹏 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期210-213,224,共5页
报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度... 报道了50%截止波长为12.5μm的InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器材料及单元器件.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.吸收区结构为15ML(InAs)/7ML(GaSb),器件采用PBIN的多层异质结构以抑制长波器件暗电流.在77K温度下测试了单元器件的电流-电压(Ⅰ-Ⅴ)特性,响应光谱和黑体响应.在该温度下,光敏元大小为100μm×100μm的单元探测器RmaxA为2.5Ωcm2,器件的电流响应率为1.29A/W,黑体响应率为2.1×109cmHz1/2/W,11μm处量子效率为14.3%.采用四种暗电流机制对器件反向偏压下的暗电流密度曲线进行了拟合分析,结果表明起主导作用的暗电流机制为产生复合电流. 展开更多
关键词 InAs/gasbⅡ类超晶格 长波12.5μm 暗电流
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InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色红外焦平面探测器 被引量:13
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作者 朱旭波 彭震宇 +9 位作者 曹先存 何英杰 姚官生 陶飞 张利学 丁嘉欣 李墨 张亮 王雯 吕衍秋 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第11期91-96,共6页
InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。开展了InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色焦平面探测器器件结构设计、材料外延、芯片制备,对钝化方法进行了研究,制备出性能优良的320×256双色焦平面探测器。首先... InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的优选材料。开展了InAs/GaSb二类超晶格中/短波双色焦平面探测器器件结构设计、材料外延、芯片制备,对钝化方法进行了研究,制备出性能优良的320×256双色焦平面探测器。首先以双色叠层背靠背二极管电压选择结构作为基本结构,设计了中/短波双色芯片结构,然后采用分子束外延技术生长出结构完整、表面平整、低缺陷密度的PNP结构超晶格材料。采用硫化与SiO2复合钝化方法,最终制备的器件在77 K下中波二极管的RA值达到13.6 kΩ·cm^2,短波达到538 kΩ·cm^2。光谱响应特性表明短波响应波段为1.7~3μm,中波为3~5μm。双色峰值探测率达到中波3.7×10^11cm·Hz^1/2W^-1以上,短波2.2×10^11cm·Hz^1/2W^-1以上。响应非均匀性中波为9.9%,短波为9.7%。中波有效像元率为98.46%,短波为98.06%。 展开更多
关键词 INAS/gasb超晶格 双色 中短波 焦平面阵列 红外探测器
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InAs/GaSb超晶格中波焦平面材料的分子束外延技术 被引量:7
11
作者 徐庆庆 陈建新 +3 位作者 周易 李天兴 吕翔 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期406-408,438,共4页
报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长技术研究.通过改变GaSb衬底上分子束外延InAs/GaSb超晶格材料的衬底温度,以及界面的优化等,改善超晶格材料的表面形貌和晶格失配,获得了晶格失配Δa/a=1.5×10-4,原子级平整表面的InA... 报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长技术研究.通过改变GaSb衬底上分子束外延InAs/GaSb超晶格材料的衬底温度,以及界面的优化等,改善超晶格材料的表面形貌和晶格失配,获得了晶格失配Δa/a=1.5×10-4,原子级平整表面的InAs/GaSb超晶格材料,材料77 K截止波长为4.87μm. 展开更多
关键词 INAS/gasb 超晶格 分子束外延
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GaSb衬底上外延InAs_xSb_(1-x)材料的LP-MOCVD研究 被引量:4
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作者 李晓婷 王一丁 +5 位作者 汪韬 殷景致 王警卫 赛小锋 高鸿楷 张志勇 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1363-1366,共4页
采用自制的低压金属有机化学汽相淀积LP-MOCVD设备,在(100)面GaSb单晶衬底上外延生长了InAsSb材料.用X射线双晶衍射、光学显微镜和扫描电镜、电子探针能谱仪等对材料特性进行了表征,分析研究了生长温度、Ⅴ/Ⅲ比、过渡层等对外延层的影... 采用自制的低压金属有机化学汽相淀积LP-MOCVD设备,在(100)面GaSb单晶衬底上外延生长了InAsSb材料.用X射线双晶衍射、光学显微镜和扫描电镜、电子探针能谱仪等对材料特性进行了表征,分析研究了生长温度、Ⅴ/Ⅲ比、过渡层等对外延层的影响.并且获得了与GaSb衬底晶格失配度较低的表面光亮的晶体质量较好的InAsSb外延层. 展开更多
关键词 LP-MOCVD gasb INASSB 生长温度
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InAs/GaSbⅡ型超晶格的拉曼和光致发光光谱 被引量:4
13
作者 郭杰 孙维国 +3 位作者 彭震宇 周志强 徐应强 牛智川 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第2期278-281,共4页
采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数... 采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数方向移动5cm-1,频移温度系数约为0.023cm-1/K。光致发光(PL)峰在2.4~2.8μm,由带间辐射复合和束缚激子复合构成,2.55μmPL峰随温度变化(15~150K)发生微小红移,超晶格中InAs电子带与GaSb空穴带带间距随温度变化比体材料的禁带宽度小。PL发光强度在15~50K随温度升高而升高,在60~150K则相反,并在不同温度段表现出不同的温度依赖关系。 展开更多
关键词 超晶格 INAS/gasb 拉曼光谱 光致发光 温度
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nBn型InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器光电特性研究 被引量:6
14
作者 胡锐 邓功荣 +5 位作者 张卫锋 何雯谨 冯江敏 袁俊 莫镜辉 史衍丽 《红外技术》 CSCD 北大核心 2014年第11期863-867,共5页
设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温... 设计了nBn结构的InAs/GaSb II类超晶格红外探测器,从理论和实验两方面对nBn器件的暗电流特性进行了研究,研究结果表明:理论计算的暗电流和实际测试结果趋势一致。另外,研制了p-i-n结构器件并与nBn器件进行了比较,测试结果显示:在77 K温度下,nBn器件的暗电流要比p-i-n器件暗电流小2个量级。温度升高到150 K时,nBn器件暗电流变大2个量级,而p-i-n器件暗电流变大4个量级;nBn器件峰值探测率下降到1/5,p-i-n器件峰值探测率下降2个量级。可见nBn器件适合高温工作,适合高性能红外焦平面探测器的研制。 展开更多
关键词 NBN 超晶格 INAS/gasb 暗电流 Shockley-Read-Hall
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InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料的ICP刻蚀 被引量:6
15
作者 陈永远 邓军 +2 位作者 史衍丽 苗霈 杨利鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期433-437,共5页
分别采用Cl2/Ar和SiCl4/Ar作为刻蚀气体对InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料进行ICP(Inductively Couple Plasma)刻蚀。结果表明,两种刻蚀气体的刻蚀深度与刻蚀时间都呈线性关系;在2 mTorr气压下,RF功率为50 W,SiCl4流量为3 sccm,Ar为9 s... 分别采用Cl2/Ar和SiCl4/Ar作为刻蚀气体对InAs/GaSb二类超晶格红外探测材料进行ICP(Inductively Couple Plasma)刻蚀。结果表明,两种刻蚀气体的刻蚀深度与刻蚀时间都呈线性关系;在2 mTorr气压下,RF功率为50 W,SiCl4流量为3 sccm,Ar为9 sccm时,刻蚀速率为100 nm/min,且与材料的掺杂浓度无关。实验还表明,SiCl4/Ar作为刻蚀气体时,Ar流量在很大范围内对刻蚀速率没用明显影响,但Ar的流量越大,刻蚀的均匀性越好;用Cl2/Ar作为刻蚀气体时,刻蚀速率也是100 nm/min,但Ar流量对刻蚀速率有影响:当Ar流量小于3 sccm时,刻蚀速率随Ar流量的减小而明显降低。 展开更多
关键词 ICP刻蚀 InAs gasb 二类超晶格 SiCl4 AR CL2 AR
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InAs/GaSbⅡ类超晶格中波红外探测器 被引量:5
16
作者 徐庆庆 陈建新 +4 位作者 周易 李天兴 金巨鹏 林春 何力 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第1期7-9,42,共4页
InAs/GaSb II类超晶格探测器是近年来国际上发展迅速的红外探测器,其优越性表现在高量子效率和高工作温度,以及良好的均匀性和较低的暗电流密度,因而受到广泛关注。报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长和器件性能。通过优化... InAs/GaSb II类超晶格探测器是近年来国际上发展迅速的红外探测器,其优越性表现在高量子效率和高工作温度,以及良好的均匀性和较低的暗电流密度,因而受到广泛关注。报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外延生长和器件性能。通过优化分子束外延生长工艺,包括生长温度和快门顺序等,获得了具原子级表面平整的中波InAs/GaSb超晶格材料,X射线衍射零级峰的双晶半峰宽为28.8″,晶格失配Δa/a=1.5×10-4。研制的p-i-n单元探测器在77 K温度下电流响应率达到0.48 A/W,黑体探测率为4.54×1010cmHz1/2W,峰值探测率达到1.75×1011cmHz1/2W。 展开更多
关键词 INAS/gasb 超晶格 红外探测器 分子束外延
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GaAs基短周期InAs/GaSb超晶格红外探测器研究 被引量:5
17
作者 郭杰 彭震宇 +5 位作者 鲁正雄 孙维国 郝瑞亭 周志强 许应强 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期165-167,228,共4页
采用分子束外延(MBE)方法,在(001)GaAs衬底上生长了短周期Ⅱ型超晶格(SLs):InAs/GaSb(2ML/8ML)和InAs/GaSb(8ML/8ML).从X射线衍射(HRXRD)中计算出超晶格周期分别为31.2和57.3.室温红外透射光谱表明两种超晶格结构在短波2.1μm和中波5μ... 采用分子束外延(MBE)方法,在(001)GaAs衬底上生长了短周期Ⅱ型超晶格(SLs):InAs/GaSb(2ML/8ML)和InAs/GaSb(8ML/8ML).从X射线衍射(HRXRD)中计算出超晶格周期分别为31.2和57.3.室温红外透射光谱表明两种超晶格结构在短波2.1μm和中波5μm处有明显吸收.通过腐蚀、光刻和欧姆接触,制备了短波和中波的单元光导探测器.在室温和低温下进行光谱响应测试和黑体测试,77K下,50%截止波长分别为2.1μm和5.0μm,黑体探测率Db*b均超过2×108cmHz1/2/W.室温下短波探测器Db*b超过108cmHz1/2/W. 展开更多
关键词 超晶格 InAs/gasb红外探测器 分子束外延 光谱响应
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不同厚度对分子束外延生长GaSb薄膜的影响 被引量:4
18
作者 熊丽 李美成 +4 位作者 邱永鑫 张保顺 李林 刘国军 赵连城 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1635-1637,共3页
采用分子束外延(MBE)在GaAs衬底上生长GaSb薄膜,为了减小因晶格失配度较大所引起的位错密度,采用低温GaSb作为缓冲层。通过X射线双晶衍射仪和原子力显微镜分析得出,当低温GaSb缓冲层的厚度为20nm时,GaSb外延层中的位错密度最小,晶体质... 采用分子束外延(MBE)在GaAs衬底上生长GaSb薄膜,为了减小因晶格失配度较大所引起的位错密度,采用低温GaSb作为缓冲层。通过X射线双晶衍射仪和原子力显微镜分析得出,当低温GaSb缓冲层的厚度为20nm时,GaSb外延层中的位错密度最小,晶体质量最好。此外,缓冲层和外延层的厚度共同对GaSb薄膜晶体质量和表面形貌产生影响。 展开更多
关键词 分子束外延 gasb 缓冲层 厚度
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128×128元InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面探测器 被引量:3
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作者 许佳佳 金巨鹏 +7 位作者 徐庆庆 徐志成 靳川 周易 陈洪雷 林春 陈建新 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期501-504,共4页
报道了128×128元InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面阵列探测器的研究成果.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.红外吸收区结构为13 ML(InAs)/9 ML(GaSb),器件采用PIN结构,焦平面阵列光敏元大小为40μm×40μm.通... 报道了128×128元InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外焦平面阵列探测器的研究成果.实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长超晶格材料.红外吸收区结构为13 ML(InAs)/9 ML(GaSb),器件采用PIN结构,焦平面阵列光敏元大小为40μm×40μm.通过台面形成、侧边钝化和金属电极生长,以及与读出电路互连等工艺,得到了128×128面阵长波焦平面探测器.在77 K时测试,器件的100%截止波长为8μm,峰值探测率6.0×109cmHz1/2W-1.经红外焦平面成像测试,探测器可得到较为清晰的成像. 展开更多
关键词 长波红外探测器 InAs gasb Ⅱ类超晶格 焦平面阵列
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MBE方法在GaAs(001)衬底上外延生长GaSb膜 被引量:3
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作者 郝瑞亭 申兰先 +5 位作者 邓书康 杨培志 涂洁磊 廖华 徐应强 牛智川 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期734-736,共3页
利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长... 利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(HallEffect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究。发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高。引入GaSb/AlSb超晶格可有效阻断进入GaSb外延层的穿通位错,对应的PL谱强度增强,材料的光学质量变好。 展开更多
关键词 gasb GAAS 分子束外延(MBE)
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