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Optimized Layers Design for AlGaN/GaN/InGaN Symmetrical Separate Confinement Heterojunction Multi-Quantum Well Laser Diode
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作者 陆敏 方慧智 张国义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期492-496,共5页
Waveguide characteristics of symmetrical separate confinement heterojunction multi quantum well (SCH MQW) AlGaN/GaN/InGaN laser diode (LD) are studied by using one dimensional (1 D) transfer matrix waveguide appro... Waveguide characteristics of symmetrical separate confinement heterojunction multi quantum well (SCH MQW) AlGaN/GaN/InGaN laser diode (LD) are studied by using one dimensional (1 D) transfer matrix waveguide approach.Aiming at photon confinement factor,threshold current,and power efficiency,layers design for SCH MQW LD is optimized.The optimal layers parameters are 3 periods In 0.02 Ga 0.98 N/In 0.15 Ga 0.85 N QW for active layer,In 0.1 Ga 0 9 N for waveguide layer with 90nm thick,and 120×(2 5nm/2 5nm) Al 0.25 Ga 0 75 N/GaN supper lattices for cladding layer with the laser wavelength of 396 6nm. 展开更多
关键词 algan/gan/ingan MQW SCH
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应力释放对InGaN/GaN量子阱有源区发光特性的影响机制
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作者 郭一庸 武智波 +3 位作者 徐昊一 李长富 高渊 冀子武 《聊城大学学报(自然科学版)》 2026年第2期249-254,共6页
制备了两个不同的绿光InGaN/GaN量子阱(QW)结构(具有和不具有应力释放层),研究了其电致发光(EL)的注入电流依赖性和光致发光(PL)的温度依赖性。EL测量结果显示,与不具有应力释放层的QW结构(S1)相比,具有应力释放层的QW结构(S2)有一个较... 制备了两个不同的绿光InGaN/GaN量子阱(QW)结构(具有和不具有应力释放层),研究了其电致发光(EL)的注入电流依赖性和光致发光(PL)的温度依赖性。EL测量结果显示,与不具有应力释放层的QW结构(S1)相比,具有应力释放层的QW结构(S2)有一个较强的EL强度、显著的能量红移和一个较小的效率下垂;而PL测量结果则显示了S2比S1有更少的非辐射中心、更大的活化能和更高的内量子效率。这些结果表明,应力释放层的导入不仅缓解了有源区的应力、增加了In原子的并入,还提高了其有源区的结构质量、增强了其局域效果,同时降低了其电子泄露。这一解释得到了高分辨率X射线衍射测量结果的证实,结果显示S2比S1有更低的位错密度和更好的结构/结晶质量。 展开更多
关键词 ingan/gan量子阱 应力释放层 电致发光 光致发光 效率下垂 内量子效率
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AlGaN/GaN异质结欧姆接触优化与导通机理研究
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作者 王强 曹京津 +2 位作者 曲莹 范晶晶 李飞扬 《微纳电子技术》 2026年第1期87-93,共7页
氮化镓(GaN)作为第三代宽禁带半导体材料具有禁带宽度大、电子迁移率高和临界击穿电场高等优点,已经广泛应用于新型电力系统。基于Ti/Al/Ni/Au金属叠层制备了AlGNa/GaN异质结欧姆接触。通过传输线模型(TLM)测试其接触电阻率和方块电阻... 氮化镓(GaN)作为第三代宽禁带半导体材料具有禁带宽度大、电子迁移率高和临界击穿电场高等优点,已经广泛应用于新型电力系统。基于Ti/Al/Ni/Au金属叠层制备了AlGNa/GaN异质结欧姆接触。通过传输线模型(TLM)测试其接触电阻率和方块电阻分别为1.01Ω·mm和304Ω/□。通过TLM结构的变温测试来研究AlGaN/GaN异质结欧姆接触的导通机理。实验结果表明,随着测试温度升高,接触电阻率仅从1.01Ω·mm增加到1.26Ω·mm,展现出良好的温度稳定性。比接触电阻率与温度的拟合曲线表明,场发射是AlGaN/GaN异质结欧姆接触电流传输的主导机制。透射电子显微镜的结果表明,在高温退火中,金属Ti扩散至AlGaN中与之发生反应并产生大量的N空位,在AlGaN势垒层中形成重掺杂,从而减小了势垒宽度,促进了欧姆接触的形成。 展开更多
关键词 algan/gan异质结 欧姆接触制备 传输线模型(TLM) 变温测试 导通机理
原文传递
量子阱数量变化对InGaN/AlGaN LED的影响 被引量:5
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作者 宋晶晶 张运炎 +2 位作者 赵芳 郑树文 范广涵 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1368-1372,共5页
采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,... 采用软件理论分析的方法分析了InGaN/AlGaN量子阱数量变化对发光二极管内量子效率、电子空穴浓度分布、载流子溢出产生的影响。分析结果表明:量子阱的个数不是越多越好,LED的光学性质和量子阱的个数并不成线性关系。量子阱个数太少时,电流溢出现象较明显;而当量子阱个数太多时,极化现象明显,且会造成材料浪费。因此应根据工作电流选择合适的量子阱个数。 展开更多
关键词 量子阱数量 数值模拟 ingan algan发光二极管 大功率
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InGaN/AlGaN双异质结绿光发光二极管 被引量:6
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作者 陆大成 韩培德 +10 位作者 刘祥林 王晓晖 汪度 袁海荣 王良臣 徐萍 姚文卿 高翠华 刘焕章 葛永才 郑东 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期414-416,共3页
报道了用 LP- MOVPE技术在蓝宝石 ( α- Al2 O3)衬底上生长出以双掺 Zn和 Si的 In Ga N为有源区的绿光 In Ga N/Al Ga N双异质结结构 ,并研制成功发射波长为 52 0— 540 nm的绿光LED.
关键词 氮化镓 InGaA/algan 双异质结 绿光发光二极管
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InGaN/AlGaN双异质结构蓝光LED的电学和光学性质 被引量:1
6
作者 陈志忠 沈波 +4 位作者 杨凯 施洪涛 陈鹏 郑有 李熹霖 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期256-259,共4页
研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发... 研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质。实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发光(EL)谱的测量,得到位于2.8eV的发射峰和位于3.2eV弱发射峰,随着电流增大而均出现蓝移。对大脉冲电流下LED的特性的退化作了研究。 展开更多
关键词 蓝发光二极管 双异质结构 电致发光 LED
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
7
作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 ingan/A1gan双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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氮空位在纳米GaN颗粒和InGaN AlGaN双异质结中的聚集(英文)
8
作者 张泽 王岩国 李辉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期253-258,共6页
直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ... 直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ,纳米颗粒中心将出现空洞 ,同时使该区的金属镓离子迁移到颗粒的表面。电子显微分析及分子力学理论计算表明 ,这种新的调制结构系空位的有序排列所致。在此基础上 ,进一步研究了InGaN AlGaN的双异质结薄膜结构中直径约为 5 0nm的空洞存在与发光失效的关系 ,讨论了N 展开更多
关键词 氮空位 gan ingan/algan 双异质结 聚集 氮化镓 氮铟镓 铝镓氮 纳米颗粒 调制结构 高分辨透射电子显微术 选区电子衍射 分子力学
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应变补偿InGaN/AlGaN超晶格改善近紫外LED性能
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作者 尹以安 章勇 +1 位作者 范广涵 李述体 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第8期42-46,共5页
通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替... 通过应变平衡理论设计出应变补偿的In0.1Ga0.9N/Al0.2Ga0.8N超晶格结构。为了验证该结构具有低的应变,实验生长了相应的样品,并通过双晶衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱实验证实其具有低应力。最后把该结构用于近紫外LED的两处构建,一是替代量子阱中的Ga N垒层,二是作p型层的接触层。实验发现,该结构的应用不但可以减弱量子阱的Stark效应和抑制电子泄露,而且降低p型接触层的欧姆接触电阻。且发现不用电子阻挡层情况下,其输出功率、PL光谱和I-V特性等都得到极大改善。 展开更多
关键词 应变平衡 ingan/algan超晶格 应变补偿 极化效应 p型欧姆接触电阻 近紫外LED
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AlGaN/GaN HEMT器件有效栅长和栅宽提取
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作者 吴淇暄 张贺秋 +4 位作者 朱江 宁思源 代晓 王子坤 梁红伟 《大连理工大学学报》 CAS 北大核心 2025年第1期105-110,共6页
有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了... 有效栅长、有效栅宽和沟道电阻等AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)参数对于工艺控制和器件设计非常重要.基于AlGaN/GaN HEMT器件源漏之间的总电阻与栅长及栅宽的倒数之间的线性关系,提出了一种简单方法提取有效栅长和有效栅宽.制作了两组AlGaN/GaN HEMT器件,这两组器件的源漏间距为80μm,栅源间距为10μm.其中一组器件固定栅宽为400μm,栅长分别为10、20、30、40、50、60μm;另一组器件固定栅长为40μm,栅宽分别为200、300、400、500、600、800μm.通过研究源漏之间的总电阻随栅长和栅宽变化规律,获得栅长与有效栅长的差值为0.48989μm,栅宽与有效栅宽的差值为-11.12191μm. 展开更多
关键词 algan/gan高电子迁移率晶体管 器件参数 有效栅长 有效栅宽
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PEI功能化AlGaN/GaNHEMT的CO_(2)传感特性研究
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作者 徐林欣 张贺秋 +6 位作者 夏晓川 吴一航 谷海燕 朱江 郭文平 黄慧诗 梁红伟 《大连理工大学学报》 北大核心 2025年第6期631-637,共7页
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)已被广泛应用于氢气、氨气和硫化氢等气体传感器的开发,但针对二氧化碳(CO_(2))气体的AlGaN/GaNHEMT传感器研究仍相对较少.采用物理涂覆法将聚乙烯亚胺(PEI)功能化AlGaN/GaNHEMT的栅极表面,构建了PEI-... AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)已被广泛应用于氢气、氨气和硫化氢等气体传感器的开发,但针对二氧化碳(CO_(2))气体的AlGaN/GaNHEMT传感器研究仍相对较少.采用物理涂覆法将聚乙烯亚胺(PEI)功能化AlGaN/GaNHEMT的栅极表面,构建了PEI-HEMT传感器用于CO_(2)检测.在室温条件下,该传感器可实现2%~15%浓度CO_(2)的检测.随着环境湿度升高,其对CO_(2)的响应灵敏度增强,基线漂移减小,但响应速度有所下降.由于物理涂覆的PEI层易发生脱落,PEI-HEMT传感器的长期稳定性较差.为此,进一步采用烷基偶联法通过戊二醛(GA)将PEI化学桥接于栅极,制备出PEI-GA-HEMT传感器.该结构表现出较PEI-HEMT更慢的CO_(2)响应速度,但具有良好的重复性与长期稳定性,检测范围也更宽,最低可检测至0.05%浓度的CO_(2). 展开更多
关键词 algan/gan高电子迁移率晶体管(HEMT) 聚乙烯亚胺(PEI) CO_(2)传感器
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不同温度下AlGaN/GaN HEMT直流特性研究
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作者 谷海燕 张贺秋 +3 位作者 朱江 徐林欣 吴一航 梁晓华 《大连理工大学学报》 北大核心 2025年第6期638-645,共8页
GaN材料具有宽禁带和耐高压特性,因此AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)能够在较高温度下正常工作.然而,随着温度升高,AlGaN/GaN HEMT性能会出现退化.研究其性能随温度的变化特性有助于优化宽温度范围内的器件特性.通过采用TCAD软件并... GaN材料具有宽禁带和耐高压特性,因此AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)能够在较高温度下正常工作.然而,随着温度升高,AlGaN/GaN HEMT性能会出现退化.研究其性能随温度的变化特性有助于优化宽温度范围内的器件特性.通过采用TCAD软件并引入热力学相关物理模型,对不同温度下的器件特性进行仿真.在仿真中考虑了高场速度饱和模型中电子饱和速度对晶格温度的依赖性,在300至573 K温度范围内将仿真结果与实验结果进行拟合,获得了电子饱和速度与温度之间的经验模型方程.此外,还分析了HEMT在高温下直流特性变化的物理机理. 展开更多
关键词 algan/gan HEMT 高温特性 自热效应 TCAD 电子饱和速度
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采用AlGaN/GaN阻挡层的大功率InGaN/GaN MQWs蓝光LED 被引量:1
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作者 齐胜利 陈志忠 +8 位作者 潘尧波 郝茂盛 邓俊静 田朋飞 张国义 颜建锋 朱广敏 陈诚 李士涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期216-218,共3页
大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB... 大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB)电子阻挡层,利用多量子势垒对电子的量子反射作用,有效地解决了大注入下载流子泄漏问题。与未使用多量子势垒电子阻挡层的样品相比,MQB样品的光功率和外量子效率分别提高了约80%和100%。 展开更多
关键词 氮化镓 多量子阱 发光二极管 铝镓氮/氮化镓 多量子势垒 外量子效率
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漏场板提升增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT击穿电压的研究 被引量:1
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作者 周世刚 于永强 +2 位作者 夏元治 钱君涵 吴春艳 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第5期622-627,共6页
p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT存在背势垒,因此可显著降低GaN缓冲层泄漏电流,提升器件击穿电压,但会面临漏极下方电场强度峰值集中的问题,导致击穿电压偏离。文章通过Silvaco ATLAS仿真,探讨漏场板结构和漏场板下钝化层厚度对p-... p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT存在背势垒,因此可显著降低GaN缓冲层泄漏电流,提升器件击穿电压,但会面临漏极下方电场强度峰值集中的问题,导致击穿电压偏离。文章通过Silvaco ATLAS仿真,探讨漏场板结构和漏场板下钝化层厚度对p-GaN帽层增强型AlGaN/GaN/AlGaN HEMT器件击穿电压的调制,优化漏极下方电场强度峰值分布。结果表明:漏场板的引入可显著提升器件的击穿电压,漏场板厚度在0.10~1.10μm范围时,器件的击穿电压随着漏场板厚度增大而增大;随着漏场板下方钝化层厚度的增大,漏场板边缘下方的沟道电场强度峰值减小,漏极下方的沟道电场强度峰值增大,当漏场板下方钝化层厚度增厚至0.25μm时,沟道电场强度峰值最小,器件的击穿电压提升至1370 V,增幅达53.6%。研究发现,击穿电压的提升主要是由于漏场板的电场调制效应降低了电场强度峰值。 展开更多
关键词 p-gan帽层增强型algan/gan/algan HEMT 漏场板 钝化层 击穿电压 电场强度
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Output light power of InGaN-based violet laser diodes improved by using a u-InGaN/GaN/AlGaN multiple upper waveguide 被引量:3
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作者 梁锋 赵德刚 +12 位作者 江德生 刘宗顺 朱建军 陈平 杨静 刘炜 刘双韬 邢瑶 张立群 王文杰 李沫 张源涛 杜国同 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第12期302-306,共5页
The upper waveguide (UWG) has direct influences on the optical and electrical characteristics of the violet laser diode (LD) by changing the optical field distribution or barrier of the electron blocking layer (... The upper waveguide (UWG) has direct influences on the optical and electrical characteristics of the violet laser diode (LD) by changing the optical field distribution or barrier of the electron blocking layer (EBL). In this study, a series of InGaN-based violet LDs with different UWGs are investigated systematically with LASTIP software. It is found that the output light power (OLP) under an injecting current of 120 mA or the threshold current (Ith) is deteriorated when the UWG is u-In0.02Ga0.98N/GaN or u-In0.02Ga0.98N/AlxGa1-xN (0 ≤ x ≤ 0.1), which should be attributed to small optical confinement factor (OCF) or severe electron leakage. Therefore, a new violet LD structure with u-In0.02Ga0.98N/GaN/Al0.05Ga0.95N multiple layer UWG is proposed to reduce the optical loss and increase the barrier of EBL. Finally, the output light power under an injecting current of 120 mA is improved to 176.4 mW. 展开更多
关键词 ingan-based violet LDs u-ingan/gan/algan multiple upper waveguide
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嵌入半超结的增强型GaN/AlGaN异质结垂直HFET
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作者 杨晨飞 韦文生 +3 位作者 汪子盛 丁靖扬 陈超逸 杨锦天 《电子器件》 2025年第5期979-988,共10页
元胞面积相同的GaN/AlGaN异质结垂直场效应管(HFETs)比横向HFET的击穿电压(V_(B))更高,值得进一步研发。本文利用Silvaco TCAD软件仿真,构建了一种包含GaN/AlGaN异质结源极、p型GaN埋层与n型GaN漂移区组成半超结的增强型垂直HFET,模拟... 元胞面积相同的GaN/AlGaN异质结垂直场效应管(HFETs)比横向HFET的击穿电压(V_(B))更高,值得进一步研发。本文利用Silvaco TCAD软件仿真,构建了一种包含GaN/AlGaN异质结源极、p型GaN埋层与n型GaN漂移区组成半超结的增强型垂直HFET,模拟了器件性能对异质结源极的Al组分、电流阻挡层掺杂浓度、GaN埋层宽度及掺杂浓度的依赖性;分析了Al组分突变、缓变异质结源极对器件性能的影响。结果反映,包含Al组分突变异质结源极器件的比导通电阻(R_(on,sp))更低,半超结对R_(on,sp)影响微弱,却能优化漂移区电场分布。与没有半超结的参照器件对比,本器件的V_(B)提升114.71%,寄生电容更小,关断延迟时间(t_(off))减少33.04%,导通延迟时间(t_(on))缩短25.28%。本文可为设计高性能HFET提供新的方案。 展开更多
关键词 增强型垂直HFET Al组份突变、缓变的gan/algan异质结 半超结
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AlGaN双势垒结构对高In组分InGaN/GaN MQWs太阳能电池材料晶体质量和发光性能的影响
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作者 单恒升 李明慧 +4 位作者 李诚科 刘胜威 梅云俭 宋一凡 李小亚 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第1期83-88,124,共7页
本文利用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在(001)面图形化蓝宝石衬底(PSS)上生长了一种含有AlGaN-InGaN/GaN MQWs(multiple quantum wells)-AlGaN双势垒结构的高In组分太阳能电池外延材料。高分辨率X射线衍射(HRXRD)和光致发光(... 本文利用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在(001)面图形化蓝宝石衬底(PSS)上生长了一种含有AlGaN-InGaN/GaN MQWs(multiple quantum wells)-AlGaN双势垒结构的高In组分太阳能电池外延材料。高分辨率X射线衍射(HRXRD)和光致发光(PL)谱分析表明,与含有AlGaN电子阻挡层的低In组分的量子阱结构太阳能电池外延材料相比,该结构材料具有较小的半峰全宽(FWHM),计算表明:此结构材料的位错密度降低了一个数量级,达到10^(7)cm^(-2);同时,有源区中的应变弛豫降低了51%;此外,此结构材料的发光强度增强了35%。研究结果表明含有AlGaN双势垒结构的外延材料可以减小有源区的位错密度,降低非辐射复合中心的数目,增大有源区有效光生载流子的数目,为制备高质量太阳能电池提供实验依据。 展开更多
关键词 金属有机化合物化学气相沉积 太阳能电池外延材料 algan双势垒结构 ingan/gan MQWs 位错密度 光生载流子
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基于超晶格结构的高电流密度增强型AlGaN/GaN HEMT
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作者 夏元治 吴春艳 +2 位作者 周世刚 钱君涵 于永强 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第10期1352-1356,共5页
凹槽栅是实现增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)的常见技术,但随着栅下AlGaN的刻蚀,极化效应减弱,二维电子气(two-dimensional electron gas,2DEG)浓度降低,电流密度显著降低。文章提出在凹... 凹槽栅是实现增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)的常见技术,但随着栅下AlGaN的刻蚀,极化效应减弱,二维电子气(two-dimensional electron gas,2DEG)浓度降低,电流密度显著降低。文章提出在凹槽栅金属-绝缘层-半导体(metal-insulator-semiconductor,MIS)结构栅下叠加4 nm GaN和1 nm AlN超晶格(superlattice,SL)结构,通过在AlGaN与GaN之间引入一层超晶格层、增加一层二维电子气沟道来提高电流密度,并利用Silvaco TCAD软件系统仿真凹槽深度、栅介质以及超晶格层对器件电流密度的影响。仿真结果表明:使用5 nm HfO_(2)栅介质层并增加一层超晶格层(4 nm GaN+1 nm AlN)的AlGaN/GaN SL-MISHEMT,阈值电压V_(th)为0.14 V,电流密度I_(ds)达到1014 mA/mm(V ds=10 V,V_(gs)=10 V);与常规AlGaN/GaN HEMT(V_(th)=-3.16 V)相比,器件阈值电压增加了3.28 V;与无超晶格层的AlGaN/GaN MISHEMT相比,电流密度提高了24%。 展开更多
关键词 algan/gan高电子迁移率晶体管(HEMT) 凹槽栅 超晶格(SL) 功率器件仿真
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栅极几何结构对MIS栅结构常关p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响
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作者 都继瑶 《沈阳理工大学学报》 CAS 2025年第1期72-77,共6页
高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGa... 高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响。栅极介质层采用5 nm厚的原位生长AlN,AlN/p-GaN界面呈现出更明显的能带弯曲和更宽的耗尽区,有利于阈值电压向正向偏移,且其相对较宽的能带错位有助于抑制栅极电流。实验结果表明:与栅极非覆盖区长度为0μm和6μm的MIS栅极相比,非覆盖区长度为3μm的MIS栅极可提高器件综合性能,有效抑制正向栅极电流,将阈值电压提高至3 V,并较好地保持电流密度为46 mA/mm;栅极结构中两侧没有栅极覆盖的区域在导通过程和导通状态下均可引起较大的沟道电阻,且沟道电阻随着非覆盖区长度增加而上升。 展开更多
关键词 p-gan/algan/gan异质结 AlN介质层 常关型器件 金属/绝缘体/半导体 栅极非覆盖区
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Performance improvement of blue InGaN light-emitting diodes with a specially designed n-AlGaN hole blocking layer 被引量:1
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作者 丁彬彬 赵芳 +9 位作者 宋晶晶 熊建勇 郑树文 张运炎 许毅钦 周德涛 喻晓鹏 张瀚翔 张涛 范广涵 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第8期721-725,共5页
Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically,... Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically, which involves analyses of the carrier concentration in the active region, energy band diagram, electrostatic field, and internal quantum efficiency (IQE). The results indicate that LEDs with an n-AIGaN HBL with gradual AI composition exhibit better hole injection efficiency, lower electron leakage, and a smaller electrostatic field in the active region than LEDs with a conven tional p-A1GaN EBL or a common n-A1GaN HBL. Meanwhile, the efficiency droop is alleviated when an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition is used. 展开更多
关键词 p-A1gan electron blocking layer (EBL) n-A1gan hole blocking layer (HBL) numerical simula-tion ingan light-emitting diode (LED)
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