期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到391篇文章
< 1 2 … 20 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
激光熔覆AlN/TiAl制备Ti-Al-N复合涂层及其摩擦性能研究
1
作者 黄飞龙 肖华强 +1 位作者 林波 莫太骞 《激光技术》 北大核心 2025年第2期188-194,共7页
为了制备耐磨钛基涂层,采用激光熔覆技术在TC4表面制备了Ti-Al-N涂层,对不同激光功率下涂层的物相组成、组织演变、硬度进行观察分析,再对复合涂层在空气环境中的摩擦学性能进行分析。结果表明,涂层增强相主要由Ti_(2)AlN,TiN,TiAl及Ti_... 为了制备耐磨钛基涂层,采用激光熔覆技术在TC4表面制备了Ti-Al-N涂层,对不同激光功率下涂层的物相组成、组织演变、硬度进行观察分析,再对复合涂层在空气环境中的摩擦学性能进行分析。结果表明,涂层增强相主要由Ti_(2)AlN,TiN,TiAl及Ti_(x)Al_(y)等组成,各物相衍射峰强度随激光功率的增加而改变,基体相则由(γ-TiAl+α_(2)-Ti_(3)Al)组成;涂层与基体冶金结合,随着激光功率的增加,组织由弥散分布的柱状晶逐渐变成粗大树枝晶,但在2.4 kW功率时,组织又变得细小;复合涂层的显微硬度可以达到基体的2.14倍;在空气摩擦环境中,不同试样均以磨粒磨损为主,其中基体磨损严重;不同激光功率下的涂层均大幅度提高了基体的耐磨性,涂层中有增强相的存在,涂层的最小磨损率为0.786×10^(-4) mm^(3)·N^(-1)·min^(-1),基体为1.34×10^(-4) mm^(3)·N^(-1)·min^(-1);通过控制激光功率可以调节涂层性能。这一研究可以对激光熔覆制备高耐磨钛基复合涂层在航天、海工设备中的应用提供基础支持。 展开更多
关键词 激光技术 钛合金 激光熔覆 Ti-al-n复合涂层 干摩擦磨损
在线阅读 下载PDF
Al/N共掺多孔碳电极材料的制备及电化学性能研究
2
作者 焦雅棋 张少栋 王凯 《当代化工研究》 2025年第8期168-170,共3页
具有比表面积大、反应位点丰富、孔径可调等优点的新型金属有机骨架(Metal organic frameworks,MOFs)被广泛认为是有巨大发展潜力的锂离子电池负极材料。但MOFs电极材料的锂离子传输能力弱、电导率低和结构稳定性差等问题,严重阻碍了其... 具有比表面积大、反应位点丰富、孔径可调等优点的新型金属有机骨架(Metal organic frameworks,MOFs)被广泛认为是有巨大发展潜力的锂离子电池负极材料。但MOFs电极材料的锂离子传输能力弱、电导率低和结构稳定性差等问题,严重阻碍了其实用化进程。通过水热自组装和热解工艺,设计并制备出Al/N共掺的MOFs衍生的多孔碳电极材料,其在电流密度0.2 A/g下循环500圈后比容量仍高达304.6 mAh/g,对应库伦效率达到99%,且容量保持率接近100%,展现出优异的循环稳定性。 展开更多
关键词 al-MOFs al/n共掺 自组装 锂离子电池 电化学性能
在线阅读 下载PDF
Al_(2)SiO_(5)N阻挡层厚度对全固态电致变色器件性能的影响
3
作者 王晓萌 苏一凡 +4 位作者 张程 唐鹏 林松盛 付志强 石倩 《材料研究与应用》 2025年第2期283-292,共10页
为解决全固态电致变色器件中LiNbO_(3)电解质层漏电问题,以Al_(2)SiO_(5)N作为阻挡层,利用其优异的介电性能,改善器件的综合性能。采用磁控溅射法,以99.95%纯度的Al_(2)SiO_(5)作为靶材,在射频功率为150 W、气压为1.5 Pa条件下,在纯氮... 为解决全固态电致变色器件中LiNbO_(3)电解质层漏电问题,以Al_(2)SiO_(5)N作为阻挡层,利用其优异的介电性能,改善器件的综合性能。采用磁控溅射法,以99.95%纯度的Al_(2)SiO_(5)作为靶材,在射频功率为150 W、气压为1.5 Pa条件下,在纯氮气氛中制备了Al_(2)SiO_(5)N薄膜。采用XRD、SEM和AFM对Al_(2)SiO_(5)薄膜微观结构及表面形貌进行表征,通过循环伏安法及结合紫外-可见光谱对ITO/WO_(3)/Al_(2)SiO_(5)N/LiNbO_(3)/Al_(2)SiO_(5)N/NiO_x/ITO器件进行电致变色性能测试,系统地研究了Al_(2)SiO_(5)N薄膜层厚度对该器件光电性能的影响及其作用机制。结果表明,随着沉积时间的延长,Al_(2)SiO_(5)薄膜的厚度增加,致密性逐渐提高,纳米团簇趋于均匀并呈现小岛状结构。Al_(2)SiO_(5)薄膜作为电致变色器件的阻挡层,可明显改善器件的漏电现象。当Al_(2)SiO_(5)N层的厚度为90 nm时,全固态电致变色器件的电流密度从无阻挡层时的300.83μA·cm^(-2)降至15.70μA·cm^(-2),有效地抑制了漏电现象。同时,器件最大光调制率为52.31%,着色时间为9 s,脱色时间为4 s,最大着色效率为60.67 cm^(2)·C^(-1)。通过优化Al_(2)SiO_(5)N阻挡层与其他功能层之间的界面匹配性,揭示了Al_(2)SiO_(5)N层对电致变色器件光电性能的提升作用,为开发高性能无机固态电致变色器件提供了新思路。 展开更多
关键词 全固态电致变色 器件 阻挡层 LinbO_(3) 电流泄漏 al_(2)SiO_(5)n al^(3+)/Li^(+) 光电性能
在线阅读 下载PDF
Al对Ni/MCM-41催化N-乙基咔唑加氢性能的影响
4
作者 张英琦 盛强 李翔 《现代化工》 北大核心 2025年第S2期271-277,共7页
采用后嫁接方法在分子筛MCM-41中引入铝,再采用等体积浸渍法制备了Ni/MCM-41以及含铝MCM-41负载的Ni催化剂[Ni/Al_(x)-MCM-41,x代表n(Si)∶n(Al)]。结合多种催化剂表征技术,研究了铝对Ni/MCM-41催化N-乙基咔唑(NEC)加氢性能的影响。引... 采用后嫁接方法在分子筛MCM-41中引入铝,再采用等体积浸渍法制备了Ni/MCM-41以及含铝MCM-41负载的Ni催化剂[Ni/Al_(x)-MCM-41,x代表n(Si)∶n(Al)]。结合多种催化剂表征技术,研究了铝对Ni/MCM-41催化N-乙基咔唑(NEC)加氢性能的影响。引入铝后在载体MCM-41中产生了以Lewis酸为主的酸中心,并且酸量随铝含量的增加而增加。X射线光电子能谱结果表明,与Ni/MCM-41相比,Ni/Al_(x)-MCM-41催化剂表面还原态Ni物种含量更高,电子密度也有所增加。随铝含量的增加,Ni/Al_(x)-MCM-41催化剂的H_(2)化学吸附量急剧降低。引入铝显著降低了Ni/Al_(x)-MCM-41催化NEC加氢活性。载体结构和酸性质并非影响催化剂活性的主要因素。铝与镍金属的强相互作用可能是导致Ni催化剂表面性质改变、H_(2)化学吸附量降低及其对NEC加氢活性显著降低的主要原因。 展开更多
关键词 MCM-41 al-MCM-41 nI n-乙基咔唑 加氢 金属-载体强相互作用
原文传递
助催化剂Ni_(3)N负载Al掺杂SrTiO_(3)的合成及其光解水析氢应用
5
作者 杨茜 常春香 +5 位作者 谢英鹏 李阳 陈昱辉 王博饶 伊鲁东 韩忠昊 《无机化学学报》 北大核心 2025年第3期440-452,共13页
采用熔盐法制备出铝掺杂的钛酸锶(Al-SrTiO_(3)),并通过水热法及气相氮化法在Al-SrTiO_(3)表面紧密负载了Ni_(3)N助催化剂。通过对Ni_(3)N/Al-SrTiO_(3)体系载流子转移特性表征以及密度泛函理论计算分析发现,Al-SrTiO_(3)上的光生电子... 采用熔盐法制备出铝掺杂的钛酸锶(Al-SrTiO_(3)),并通过水热法及气相氮化法在Al-SrTiO_(3)表面紧密负载了Ni_(3)N助催化剂。通过对Ni_(3)N/Al-SrTiO_(3)体系载流子转移特性表征以及密度泛函理论计算分析发现,Al-SrTiO_(3)上的光生电子在费米能级差的作用下可快速转移到Ni_(3)N上,有效促进了Al-SrTiO_(3)上光生载流子的分离,从而提高其分解水析氢性能。光催化析氢测试结果表明,当Ni_(3)N助催化剂负载量(Ni与Al-SrTiO_(3)的质量比)为7%时,Al-SrTiO_(3)的析氢速率相对负载前提升了82倍。 展开更多
关键词 光催化 铝掺杂钛酸锶 ni_(3)n 析氢反应
在线阅读 下载PDF
(Ti,Al)N涂层的微观组织和性能 被引量：20
6
作者 陈利 吴恩熙 +2 位作者 尹飞 王社权 汪秀全 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期279-283,共5页
采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR-TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和(Ti,Al)N涂层的微观组织结构和性能。结果表明:TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶,(Ti,Al)N涂层为面心立方平直柱状晶,由于... 采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR-TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和(Ti,Al)N涂层的微观组织结构和性能。结果表明:TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶,(Ti,Al)N涂层为面心立方平直柱状晶,由于固溶了Al元素,(Ti,A l)N涂层呈(200)面择优生长;(Ti,Al)N涂层在硬质合金基体上无外延生长;(Ti,Al)N涂层在800℃氧化后形成Al2O3/TiO2/(Ti,Al)N的分层结构;(Ti,Al)N涂层具有更高的硬度和更好的切削性能。 展开更多
关键词 (TI al)n涂层 硬质合金 外延生长 氧化性能 切削性能
在线阅读 下载PDF
Al含量对(Ti,Al)N涂层结构性能的影响 被引量：20
7
作者 李佳 夏长清 +1 位作者 刘昌斌 戴晓元 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第12期29-31,35,共4页
(Ti,Al)N是20世纪80年代未期在TiN基础上发展起来的一种新型多元涂层材料。由于加入Al元素,(Ti,Al)N不但硬度、耐磨性优于TiN,而且大大改善了涂层的抗高温氧化性能。综述了Al元素在(Ti,Al)N涂层中的作用机理,以及Al含量对(Ti,Al)N涂层... (Ti,Al)N是20世纪80年代未期在TiN基础上发展起来的一种新型多元涂层材料。由于加入Al元素,(Ti,Al)N不但硬度、耐磨性优于TiN,而且大大改善了涂层的抗高温氧化性能。综述了Al元素在(Ti,Al)N涂层中的作用机理,以及Al含量对(Ti,Al)N涂层的晶体结构、抗高温氧化、硬度和耐磨性的影响。指出当Ti和Al的比例近似为1:1时,(Ti,Al)N涂层将获得优越的综合使用性能。 展开更多
关键词 多元涂层材料 (TI al)n 硬度 耐磨性
在线阅读 下载PDF
电弧离子镀梯度(Ti，Al)N薄膜的结构与抗氧化性能 被引量：7
8
作者 冯长杰 辛丽 +2 位作者 李明升 朱圣龙 王福会 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期1-6,共6页
采用电弧离子镀(AIP)技术在航空发动机压气机用1Cr11Ni2W2MoV不锈钢上沉积(Ti,Al)N梯度薄膜,并研究其微观结构和高温抗氧化性能。结果表明,薄膜均匀致密,与基体结合良好;薄膜为B1型(NaCl)单相结构,具有(220)择优取向;薄膜是内层富TiN、... 采用电弧离子镀(AIP)技术在航空发动机压气机用1Cr11Ni2W2MoV不锈钢上沉积(Ti,Al)N梯度薄膜,并研究其微观结构和高温抗氧化性能。结果表明,薄膜均匀致密,与基体结合良好;薄膜为B1型(NaCl)单相结构,具有(220)择优取向;薄膜是内层富TiN、外层富(Ti,Al)N的梯度薄膜;梯度薄膜在700℃和800℃氧化后,表层形成富Al2O3的保护膜,在700℃较长时间内和800℃短时间内对不锈钢基体具有良好的保护作用。 展开更多
关键词 电弧离子镀 梯度(Ti al)n薄膜 结构 氧化
在线阅读 下载PDF
磁控双靶反应共溅射(Ti,Al)N薄膜的研究 被引量：11
9
作者 闫梁臣 熊小涛 +2 位作者 杨会生 高克玮 王燕斌 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期233-237,共5页
采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射... 采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射光谱仪(PEM)对磁控反应溅射过程监测结果表明,钛铝原子与氮原子反应存在一个临界点,低于临界点,磁控反应溅射为金属态溅射模式,高于临界点,磁控溅射向非金属态溅射模式转变,溅射速率降低。 展开更多
关键词 (TI al)n 磁控共溅射 等离子体发射光谱 金属态溅射 非金属态溅射
在线阅读 下载PDF
PVD法制备(Ti,Al)N涂层中残余应力对其质量的影响 被引量：14
10
作者 吴化 陈涛 宋力 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期60-64,92,共6页
在国产离子镀和空心阴极离子镀复合镀膜机上,通过改变脉冲偏压值制备了(Ti,Al)N涂层。用X射线衍射仪对涂层的相组成进行了检测分析,并通过测得的衍射谱线计算了(Ti,Al)N涂层中的残余应力值;扫描电镜观察涂层表面微观形貌显示涂层表面存... 在国产离子镀和空心阴极离子镀复合镀膜机上,通过改变脉冲偏压值制备了(Ti,Al)N涂层。用X射线衍射仪对涂层的相组成进行了检测分析,并通过测得的衍射谱线计算了(Ti,Al)N涂层中的残余应力值;扫描电镜观察涂层表面微观形貌显示涂层表面存在"大颗粒"现象;用材料表面微纳米力学测试系统检测了涂层与基体间的结合力和涂层的硬度值。对涂层中残余应力与质量和性能之间关系的研究分析表明:(Ti,Al)N涂层中存在着残余压应力,且随脉冲偏压值的增加其值有先减小后增大的趋势;涂层中"大颗粒"现象随脉冲偏压值的提高能够显著得到减轻,涂层与基体间结合力得到提高,涂层的硬度值增大,涂层质量和力学性能均得到改善。 展开更多
关键词 (TI al)n涂层 残余应力 X射线衍射法 大颗粒
在线阅读 下载PDF
直流磁控溅射沉积（Ti，Al）N膜的研究 被引量：10
11
作者 蒋生蕊 彭栋梁 +2 位作者 赵学应 谢亮 李强 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第5期B232-B237,共6页
研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ... 研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有优良高温抗氧化性能的原因． 展开更多
关键词 磁控溅射 高温氧化 (Ti al)n膜
在线阅读 下载PDF
添加Y对炮钢表面电弧离子镀(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响 被引量：5
12
作者 张健 韩继龙 +3 位作者 郭策安 卢旭东 金浩 郭秋萍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第13期13144-13147,共4页
利用电弧离子镀技术,在炮钢表面沉积TiAlN和TiAlYN两种薄膜,研究添加1%(原子分数)Y对(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响。两种沉积薄膜的样品在空气中850℃下氧化10h,用SEM、EDAX和XRD分别分析两种薄膜的形貌、成分及相组成。结果表明,在空气... 利用电弧离子镀技术,在炮钢表面沉积TiAlN和TiAlYN两种薄膜,研究添加1%(原子分数)Y对(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响。两种沉积薄膜的样品在空气中850℃下氧化10h,用SEM、EDAX和XRD分别分析两种薄膜的形貌、成分及相组成。结果表明,在空气中850℃下氧化10h后,两种薄膜的氧化产物均为Al2O3和TiO2的混合氧化物;TiAlN薄膜的动力学曲线呈近似直线规律,而TiAlYN薄膜动力学曲线符合抛物线规律;前者表面氧化物晶粒粗大,而后者表面氧化物晶粒细小,且氧化膜厚度不足前者的一半;添加Y可以减少膜层表面液滴的数量,提高膜层的抗氧化性能。 展开更多
关键词 炮钢 Y (TI al)n 电弧离子镀 氧化
在线阅读 下载PDF
SiC颗粒增强铝基复合材料基材上制备(Ti,Al)N涂层的研究 被引量：4
13
作者 郑静地 邹友生 +4 位作者 宋贵宏 宫骏 刘越 孙超 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期745-748,共4页
利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层.研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性能的影响.结果表明,在较小偏压下, (Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向;偏压在-150 V时,涂层无择优取... 利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层.研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性能的影响.结果表明,在较小偏压下, (Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向;偏压在-150 V时,涂层无择优取向;但随偏压继续升高,出现(200)和(220)择优取向.在添加Ti过渡层时,涂层与基体形成致密均匀的良好结合.同时通过设计梯度涂层,获得了厚度达105μm的无裂纹(Ti,Al)N涂层. 展开更多
关键词 (TI al)n涂层 复合材料 电弧离子镀 偏压 SiC 相组成 晶格常数
在线阅读 下载PDF
电弧离子镀(Ti,Al)N复合薄膜的结构和性能研究 被引量：34
14
作者 李明升 王福会 +3 位作者 王铁钢 宫骏 孙超 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期55-60,共6页
利用电弧离子镀设备在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体表面沉积了不同成分的(Ti1-xAlx)N薄膜;X射线衍射分析表明,x在0-0.5之间时,薄膜是B1型(NaCl)单相结构;x=0.64时,同时出现B1和B4型(ZnS)两种相结构,x≥0.79时,只出现B4型结构;随着Al含量的增... 利用电弧离子镀设备在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体表面沉积了不同成分的(Ti1-xAlx)N薄膜;X射线衍射分析表明,x在0-0.5之间时,薄膜是B1型(NaCl)单相结构;x=0.64时,同时出现B1和B4型(ZnS)两种相结构,x≥0.79时,只出现B4型结构;随着Al含量的增加,晶格常数减小,B1结构的薄膜择优取向由(111)向(220)转变.力学性能测试表明,适当Al含量可以提高薄膜的硬度、膜基结合强度及抗磨损性能; B1结构(Ti,Al)N薄膜的氧化实验表明,随着Al含量的增加,薄膜抗氧化性能显著提高. 展开更多
关键词 复合薄膜 电弧离子镀 结构 力学性能
在线阅读 下载PDF
多弧离子沉积（Ti，Al）N薄膜的结构与形貌 被引量：6
15
作者 吴一平 乔学亮 +2 位作者 陈建国 孙培祯 周景萍 《机械工程材料》 CAS CSCD 1995年第4期29-31,共3页
对在多弧离子镀膜机上采用Ｔｉ／Ａｌ机械复合靶沉积出（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的组织形貌与结构进行了分析，结果表明，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有（１１１）晶面的择优取向，仍保持着ＴｉＮ的结构特征，但（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ晶面间距小于ＴｉＮ... 对在多弧离子镀膜机上采用Ｔｉ／Ａｌ机械复合靶沉积出（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的组织形貌与结构进行了分析，结果表明，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有（１１１）晶面的择优取向，仍保持着ＴｉＮ的结构特征，但（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ晶面间距小于ＴｉＮ的晶面间距．没有ＡｌＮ相出现，这是ＴｉＮ相优先于ＡｌＮ相形成的缘故。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜上分布有针孔和三种不同形貌液滴颗粒。 展开更多
关键词 (Ti al)n薄膜 多弧离子镀 热作模具钢 薄膜 沉积
在线阅读 下载PDF
反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能 被引量：5
16
作者 周滔 聂璞林 +2 位作者 李铸国 黄坚 蔡珣 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期34-38,共5页
采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压... 采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压对(Ti,Al)N薄膜取向及Ti、Al、N原子含量有明显影响,从而导致薄膜硬度及膜基结合性能发生变化。研究中,在氮分压为33.3×10-3Pa、基体偏压为-100V时制备的(Ti,Al)N薄膜力学性能最优,其纳米硬度为43.4GPa,达到40GPa超硬薄膜的要求。 展开更多
关键词 (Ti al)n薄膜 磁控溅射 氮分压 基体偏压 力学性能
在线阅读 下载PDF
TiN涂层电化学腐蚀行为研究 Ⅱ.添加Al对TiN涂层保护性能与失效机制的影响 被引量：22
17
作者 李瑛 屈力 +1 位作者 王福会 邵忠宝 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 2003年第3期134-138,共5页
利用电化学方法以及扫描电镜 (SEM)、扫描隧道显微镜 (STM )技术等 ,研究了添加Al对离子镀TiN薄膜涂层在 0 5mol/LNaCl和 1mol/LH2 SO4溶液中的保护性能和失效机制的影响 ,发现铝的添加使TiN涂层在中性和酸性溶液中的耐蚀性能明显改善 .
关键词 A1元素 TIn涂层 保护性能 失效机制
在线阅读 下载PDF
Al-N共掺杂ZnO电子结构和光学性质 被引量：21
18
作者 高小奇 郭志友 +1 位作者 张宇飞 曹东兴 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期509-514,共6页
基于密度泛函理论的第一性原理,分析了Al-N共掺杂ZnO的电子结构和光学性质。计算了Al-N复合体共掺ZnO的结合能,发现Al-N复合体可以在ZnO中稳定存在,因此Al-N共掺可以提高N在ZnO的固溶度。研究表明：N掺杂ZnO体系,由于N-2p和Zn-3d态电子... 基于密度泛函理论的第一性原理,分析了Al-N共掺杂ZnO的电子结构和光学性质。计算了Al-N复合体共掺ZnO的结合能,发现Al-N复合体可以在ZnO中稳定存在,因此Al-N共掺可以提高N在ZnO的固溶度。研究表明：N掺杂ZnO体系,由于N-2p和Zn-3d态电子轨道杂化作用,在费米能级附近引入深受主能级,价带顶和导带底发生位移,导致禁带宽带变窄。而Al-N共掺杂体系,适当控制Al和N的比例,克服了N单掺杂时受主间的相互排斥,降低了受主能级,对改善ZnO的p型掺杂有重要意义。在Al-N共掺ZnO中,Al的引入,导致共掺体系的禁带宽度减小,吸收带边红移,实验现象证实了这一结果。 展开更多
关键词 al-n共掺杂 ZnO 电子结构 光学特性
在线阅读 下载PDF
脉冲偏压对(Ti，Al)N／TiN／(Ti，Al)N多层复合涂层成分和硬度的影响 被引量：11
19
作者 毛延发 唐为国 +2 位作者 兰新哲 周廉 韩培刚 《稀有金属快报》 CSCD 2008年第6期12-16,共5页
采用脉冲偏压多弧离子镀技术在Hss-Al高速钢上涂镀(Ti,Al)N/TiN(/Ti,Al)N多层复合涂层。所用设备为复合八阵弧离子镀膜生长系统。简要介绍了多层复合膜的镀层工艺过程。鉴于复合涂层中的Al含量对涂层的性能特别是抗磨损性能有极重要的影... 采用脉冲偏压多弧离子镀技术在Hss-Al高速钢上涂镀(Ti,Al)N/TiN(/Ti,Al)N多层复合涂层。所用设备为复合八阵弧离子镀膜生长系统。简要介绍了多层复合膜的镀层工艺过程。鉴于复合涂层中的Al含量对涂层的性能特别是抗磨损性能有极重要的影响,实验中重点考察了脉冲偏压幅对Al含量的影响。同时测试了复合涂层的Vickers硬度与偏压幅值的关系。研究结果得出,随着脉冲偏压幅值的增加,涂层中Al含量先增加,然后减少,偏压幅值为-150V时,Al含量高达36.41at%;偏压幅与涂层显微硬度的关系有相似的规律,在偏压幅值为-150V时,7层复合膜的Vickers硬度达2750MPa左右,10层复合膜的硬度约2880MPa。 展开更多
关键词 多弧离子膜 (Ti al)n/Tin/(Ti al)n 多声能复合涂层 维氏硬度
在线阅读 下载PDF
(Ti,Al)N涂层应力沿层深分布的调整及大厚度涂层的制备 被引量：10
20
作者 赵升升 程毓 +2 位作者 常正凯 王铁钢 孙超 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期277-282,共6页
利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N_2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N_2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N_2分压的增加,涂层应力沿层深呈"钟罩型&q... 利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N_2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N_2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N_2分压的增加,涂层应力沿层深呈"钟罩型"分布,且全膜厚的应力值也明显增大;通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随N_2分压的增加,涂层硬度会显著增加,而膜/基结合力则大幅下降;采用改变N_2分压工艺制备(Ti,Al)N涂层,可有效调整涂层残余应力沿层深分布趋势,改善其力学性能,并可成功制备厚度在130μm以上的硬质涂层. 展开更多
关键词 (Ti A1)n 硬质涂层 应力分布 调整应力 n_2分压
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 20 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部