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新型AgInSbTe相变薄膜的结晶活化能研究 被引量:2
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作者 张广军 顾冬红 +2 位作者 李青会 干福熹 刘音诗 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期230-234,共5页
利用磁控溅射法制备了新型AgInSbTe相变薄膜,热处理前后的X射线衍射(XRD)表明了薄膜在热作用下从非晶态转变到晶态.通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热(DSC)实验测定了不同升温速率条件下的结晶峰温度,计算了粉末的摩尔结晶活化能、原子... 利用磁控溅射法制备了新型AgInSbTe相变薄膜,热处理前后的X射线衍射(XRD)表明了薄膜在热作用下从非晶态转变到晶态.通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热(DSC)实验测定了不同升温速率条件下的结晶峰温度,计算了粉末的摩尔结晶活化能、原子激活能和频率因子.从结晶活化能E可以判断出新型AgInSbTe相变薄膜具有较高的结晶速度,可以用于高速可擦重写相变光盘. 展开更多
关键词 新型aginsbte相变薄膜 结晶动力学 XRD DSC
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AgInSbTe相变薄膜的热刻蚀腐蚀特性
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作者 李豪 耿永友 吴谊群 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期620-626,共7页
研究了AgInSbTe相变薄膜作为一种新的热刻蚀材料的腐蚀特性。采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了非晶态AgInSbTe薄膜,经真空加热退火晶化.以氢氧化钠溶液作为腐蚀剂,研究了退火温度、腐蚀剂浓度、腐蚀时间对晶态、非晶态AgInSbTe薄... 研究了AgInSbTe相变薄膜作为一种新的热刻蚀材料的腐蚀特性。采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了非晶态AgInSbTe薄膜,经真空加热退火晶化.以氢氧化钠溶液作为腐蚀剂,研究了退火温度、腐蚀剂浓度、腐蚀时间对晶态、非晶态AgInSbTe薄膜腐蚀特性的影响.结果表明:以非晶态形式存在的沉积态AgInSbTe薄膜在0.001 mol/L氢氧化钠溶液中腐蚀速度小于0.04 nm/min,退火晶化后,薄膜的腐蚀速度大幅度提高,晶态和非晶态薄膜的腐蚀选择比随退火温度的升高而增大.当腐蚀时间为20 min时,经300℃真空退火的晶态AgInSbTe薄膜比相应非晶态的腐蚀速度高45倍以上.腐蚀后薄膜表面质量良好(粗糙度<1 nm,10μm×10μm区域).并对AgInSbTe相变薄膜的腐蚀机理进行了讨论. 展开更多
关键词 aginsbte相变薄膜 无机热刻蚀材料 腐蚀特性
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溅射工艺参数对AgInSbTe相变薄膜光学性质的影响 被引量:4
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作者 李进延 侯立松 +2 位作者 阮昊 谢泉 干福熹 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期638-640,共3页
采用射频磁控溅射工艺 ,在K9玻璃基片上用Ag In Sb Te合金靶制备了相变薄膜。对沉积态薄膜在 30 0℃下进行了热处理 ,测量了薄膜的光学性质。通过改变本底气压、溅射气压及溅射功率 ,研究了工艺参数对薄膜光学性质的影响。实验表明 ,本... 采用射频磁控溅射工艺 ,在K9玻璃基片上用Ag In Sb Te合金靶制备了相变薄膜。对沉积态薄膜在 30 0℃下进行了热处理 ,测量了薄膜的光学性质。通过改变本底气压、溅射气压及溅射功率 ,研究了工艺参数对薄膜光学性质的影响。实验表明 ,本底气压、溅射气压及溅射功率综合决定了AgInSbTe薄膜的光学性质。对AgInSbTe薄膜的制备 ,选择较高的本底真空度、适当的溅射气压及溅射功率是非常重要的。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 aginsbte相变薄膜 光学性质 存储技术
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AgInSbTe薄膜的短波长记录性能分析 被引量:1
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作者 魏劲松 阮昊 +1 位作者 陈仲裕 干福熹 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1281-1285,共5页
采用自制的装置研究了Ag5In5Sb47Te3 3 薄膜的静态记录性能与记录激光的功率和脉冲宽度的关系 ,并对其记录畴形貌特点进行了直接观察。结果表明只有记录激光的功率和脉冲宽度在一定范围之内才能起到信息记录的作用 ,所得的记录畴形貌十... 采用自制的装置研究了Ag5In5Sb47Te3 3 薄膜的静态记录性能与记录激光的功率和脉冲宽度的关系 ,并对其记录畴形貌特点进行了直接观察。结果表明只有记录激光的功率和脉冲宽度在一定范围之内才能起到信息记录的作用 ,所得的记录畴形貌十分清晰 ,基本为非晶态Ag5In5Sb47Te3 3 ;小于该范围的激光能量不能使材料结构发生较大的变化 ,所得的记录畴形貌模糊 ,反射率对比度低于 2 % ;大于该范围所得的记录畴由烧蚀区和其周围的非晶态Ag5In5Sb47Te3 3 组成。另外 ,得到了记录激光功率为 12mW、脉冲宽度为 90ns的Ag5In5Sb47Te3 3 薄膜的短波长最佳记录条件 ,其记录畴的反射率对比度为 2 2 % ,直径为 380nm~ 4 0 0nm。 展开更多
关键词 短波长 aginsbte薄膜 记录畴 记录性能 信息存储 记录激光 可擦写光盘
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Laser direct writing pattern structures on AgInSbTe phase change thin film
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作者 顿爱欢 魏劲松 干福熹 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第8期71-74,共4页
Different pattern structures are obtained on the AglnSbTe (AIST) phase change film as induced by laser beam. Atomic force microscopy (AFM) was used to observe and analyze the different pattern structures. The AFM ... Different pattern structures are obtained on the AglnSbTe (AIST) phase change film as induced by laser beam. Atomic force microscopy (AFM) was used to observe and analyze the different pattern structures. The AFM photos clearly show the gradually changing process of pattern structures induced by different threshold effects, such as crystallization threshold, microbump threshold, melting threshold, and ablation threshold. The analysis indicates that the AIST material is very effective in the fabrication of pattern structures and can offer relevant guidance for application of the material in the future. 展开更多
关键词 AIST Laser direct writing pattern structures on aginsbte phase change thin film AFM LINE FIGURE
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