ASML公司光学光刻技术最新进展 被引量：8

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作者 张强 胡松 +1 位作者 姚汉民 刘业异 《微细加工技术》 2002年第3期8-11,27,共5页

荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一 ,通过不断的技术创新 ,在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上 。

关键词 asml公司 光刻机 投影光刻物镜 光学对准 照明系统 双平台扫描

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ASML企业运营模式案例研究 被引量：4

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作者 牛媛媛 王天明 《科技创业月刊》 2020年第5期95-100,共6页

在前道光刻机领域,荷兰ASML公司处于绝对的技术领先和市场垄断地位。ASML本质上是一组拥有核心技术的独立企业联盟,本着优势互补、强强联合原则,由ASML-Zeiss-Philips核心企业和关键供应商组成。ASML采用模块化产品和专业化平台进行产... 在前道光刻机领域,荷兰ASML公司处于绝对的技术领先和市场垄断地位。ASML本质上是一组拥有核心技术的独立企业联盟,本着优势互补、强强联合原则,由ASML-Zeiss-Philips核心企业和关键供应商组成。ASML采用模块化产品和专业化平台进行产品系列化开发,这种模块化产品架构与企业运作特点相契合。开拓创新是ASML的灵魂和核心竞争力,ASML拥有一支涉及多学科多领域的高科技研发团队,每年的研发费用数以亿计。 展开更多

关键词 asml 光刻机 模块化 企业联盟 供应商

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不断攀登前沿科技顶峰的ASML——访ASML中国区技术行销经理程天风先生

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作者 胡芃 程天风 《中国集成电路》 2006年第3期80-81,共2页

ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发展与提升,ASML作出了巨大的贡献。SEMICONChina2006展会召开前... ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发展与提升,ASML作出了巨大的贡献。SEMICONChina2006展会召开前夕,记者特意走访了ASML公司,以下是对ASML中国区技术行销经理程天风先生的访谈内容。 展开更多

关键词 技术 经理 行销 中国 asml公司 科技 攀登 集成电路制造 光刻设备 分支机构

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储备力量 蓄势待发——访ASML中国区总经理David Sachse和技术行销经理程天风

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作者 孙小雨 卢玥光 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期22-23,26,共3页

关键词 asml公司 DavidSachse 程天风 人物访谈 半导体业 光刻设备

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04年ASML将超过尼康，成为光刻设备市场老大

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《集成电路应用》 2005年第1期24-24,共1页

光刻设备供应商ASML Holding NV在2004年第四季度市场表现强劲，The Information Network公司分析，这家荷兰公司有可能在2004年夺走尼康公司光刻设备市场第一的排位。

关键词 asml公司 光刻设备 市场 销售额

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TSMC取得ASML超紫外光微影设备以研发新世代工艺

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《中国集成电路》 2010年第3期3-3,共1页

TSMC与ASML公司共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCANNXE：3100-超紫外光（Extreme Ultra—violet，EUV）微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。这项设备将安装于TSMC的超大晶圆厂（GigaFab）-台积十二厂，用以发展新世代... TSMC与ASML公司共同宣布，TSMC将取得ASML公司TWINSCANNXE：3100-超紫外光（Extreme Ultra—violet，EUV）微影设备，是全球六个取得这项设备的客户伙伴之一。这项设备将安装于TSMC的超大晶圆厂（GigaFab）-台积十二厂，用以发展新世代的工艺技术。TSMC也将成为全球第一个可以在自身晶圆厂发展超紫外光微影技术的专业集成电路制造服务业者。 展开更多

关键词 TSMC 紫外光 设备 工艺 世代 asml公司 研发 集成电路制造

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Gigaphoton为ASML平板印刷术提供新型准分子激光器

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作者 子华 《广东印刷》 2005年第3期5-5,共1页

半导体行业的光源制造商Gigaphoton公司，宣布了一种新的氟化氩(ArF)准分子激光器——GT40A(发射波长193nm，重复率为4kHz)。这个新模型已经利用平板印刷工具在荷兰Veldhoven的ASML被综合测试和认证。

关键词 Gigaphoton公司 asml 平板印刷 准分子激光器 GT40A

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世上最贵的精密仪器ASMLEUV无尘车间

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《起重运输机械》 2019年第10期12-12,共1页

荷兰ASML公司拥有世界上最好的芯片制造的核心设备——EUV极紫外光刻。在芯片加工过程部分环节的生产环境:车间入场需全副“武装”:整套入场服包含:头罩、无尘服、袜子、鞋子、口罩以及手套。人是无尘车间最大的污染源,每天代谢脱落10... 荷兰ASML公司拥有世界上最好的芯片制造的核心设备——EUV极紫外光刻。在芯片加工过程部分环节的生产环境:车间入场需全副“武装”:整套入场服包含:头罩、无尘服、袜子、鞋子、口罩以及手套。人是无尘车间最大的污染源,每天代谢脱落10亿个皮肤微粒,都会对机器产生影响,必须穿入场服隔离。无尘车间内的空气要比外面干净10倍。 展开更多

关键词 车间 无尘 精密仪器 asml公司 芯片制造 极紫外光刻 核心设备 生产环境

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Micronic与ASML就光掩膜蚀刻技术签署合作协议

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《集成电路应用》 2005年第2期25-25,共1页

瑞典Micronic Laser Systems AB公司日前表示，该公司与荷兰ASML Netherlands公司最近签署了一项授权协议，授予ASML以Micronic在空间光调制器和数据通道技术领域的专利产品组合为基础，面向半导体应用推广光学掩膜蚀刻的权利。

关键词 Micronic公司 asml公司 光掩膜蚀刻技术 合作协议

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ASML对12寸晶圆显影设备推预付订金制

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《集成电路应用》 2004年第6期33-33,共1页

关键词 asml公司 晶圆显影设备 预付订金制 市场

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ASML公司的90nm及其更小特征尺寸的光学光刻技术

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《电子工业专用设备》 2003年第6期37-37,共1页

2003年11月10日，ASML在浦东华美达大酒店(Ramada)四楼举办了一场光刻技术研讨会，并希望通过此次会议，使ASML及其技术合作伙伴在先进科技上将最新的一些成果和心得带给客户及业界，能够更好地促进与客户之间的技术交流。

关键词 客户 技术合作伙伴 浦东 酒店 科技 asml公司 技术交流 特征尺寸 光学光刻 光刻技术

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上海先进半导体选用ASML光刻工具

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《新材料产业》 2003年第6期39-39,共1页

关键词 上海先进半导体制造有限公司 半导体 asml公司 光刻工具 制造

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450mm(18英寸)晶圆计划踩煞车ASML:现阶段已无必要性

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《电子工业专用设备》 2015年第2期44-45,共2页

荷商微影设备大厂ASML在2012年提出的＂客户联合投资专案＂（Customer Co-Investment Program）,广邀台积电、英特尔（Intel）和三星电子（Samsung Electronics）三家半导体大厂投资入股研发450 mm晶圆机台和极紫外光（EUV）机台,不过,... 荷商微影设备大厂ASML在2012年提出的＂客户联合投资专案＂（Customer Co-Investment Program）,广邀台积电、英特尔（Intel）和三星电子（Samsung Electronics）三家半导体大厂投资入股研发450 mm晶圆机台和极紫外光（EUV）机台,不过,现在整个半导体产业链对于450 mm晶圆世代的来临已无急迫需求，研发资金会以300mm（12英寸晶圆的EUV机台为主，450mm晶圆计划已紧急踩煞车。 展开更多

关键词 asml 联合投资 半导体设备 SAMSUNG 三星电子 市占率 摩尔定律 中芯国际 急迫需求 尼康

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ASML的创新之路

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作者 王正华 《中国集成电路》 2006年第6期58-62,共5页

关键词 浸没式光刻技术 纳米 准分子激光 SM 光源 专用设备 辐射源 专业设备 生产设备 数值孔径 光学镜头 asml 晶圆片 设备供应商

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多主体协同培养半导体人才的国际经验与启示

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作者 王素梅 张秋菊 《中国科学院院刊》 北大核心 2025年第8期1421-1428,共8页

半导体产业具有高技术密集性、高资本密集性、技术更新迭代快等显著特征,传统的以高校为主体的人才培养模式无法满足半导体产业快速发展的需求,需要探索更加灵活高效的多主体协同培养模式。文章分析了多主体协同培养人才的动力机制,总... 半导体产业具有高技术密集性、高资本密集性、技术更新迭代快等显著特征,传统的以高校为主体的人才培养模式无法满足半导体产业快速发展的需求,需要探索更加灵活高效的多主体协同培养模式。文章分析了多主体协同培养人才的动力机制,总结了荷兰阿斯麦公司(ASML)、比利时微电子中心(IMEC)、美国国家半导体技术中心(NSTC)多主体协同培养半导体人才的国际经验,提出探索多元化多主体协同培养模式、强化半导体人才供需对接、加强创新平台建设、强化基础学科建设等方面的启示,以期为我国半导体人才培养和提升我国半导体产业的竞争力提供参考。 展开更多

关键词 半导体 人才 多主体协同 荷兰阿斯麦公司 比利时微电子中心 美国国家半导体技术中心

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ASML和清华大学合作开展光刻技术研究 被引量：1

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作者 盛柏桢 《半导体信息》 2003年第2期23-24,共2页

据报道,荷兰ASML公司总裁CEO Doug Dunn先生2002年5月到清华大学访问并与清华大学微电子学研究所签署联合应用技术合作协议。清华大学微电子学研究所从1984年起就是 ASML 的用户之一,与 ASML 公司长期保持良好的合作关系。现经双方的友... 据报道,荷兰ASML公司总裁CEO Doug Dunn先生2002年5月到清华大学访问并与清华大学微电子学研究所签署联合应用技术合作协议。清华大学微电子学研究所从1984年起就是 ASML 的用户之一,与 ASML 公司长期保持良好的合作关系。现经双方的友好协商,在光刻技术领域开展合作研究。合作项目的主要内容为:清华大学微电子学研究所引进一台 ASML 公司制造的价值200万欧元先进的Ⅰ线光刻机,双方结合清华大学已有的集成电路工艺条件及研究力量,形成先进的微电子技术研究与开发能力,联合开展微机械制造、生物芯片、Ⅲ—Ⅴ族半导体与 Ge-Si 器件及 SOC 系统集成等热点技术研究,并对 ASML 光刻机在特殊领域的应用进行适用性技术探索。本合作项目的总经费约为700多万欧元(约合6000万元人民币)。 展开更多

关键词 合作项目 asml 光刻技术 集成电路工艺 研究力量 热点技术 技术合作协议 微机械 适用性技术 系统集成

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Intel 41亿力助ASML研发450mm晶圆技术

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作者 郑冬冬 《半导体信息》 2012年第4期19-20,共2页

说起ASMLHoldingN.V.(阿斯麦),你可能会感觉到很陌生,但是Intel、三星、海力士、台积电、中芯国际等等这些声名显赫的巨头,之所以一直能不断把半导体工艺推向前进,很大程度上都要感谢这家来自荷兰的全球光刻设备顶级巨头背后默默的贡献... 说起ASMLHoldingN.V.(阿斯麦),你可能会感觉到很陌生,但是Intel、三星、海力士、台积电、中芯国际等等这些声名显赫的巨头,之所以一直能不断把半导体工艺推向前进,很大程度上都要感谢这家来自荷兰的全球光刻设备顶级巨头背后默默的贡献。没有它提供的世界上精度最高、效率最高、应用最广泛的光刻机,都得去喝西北风。(另外两家能够提供光刻机的是尼康、佳能) 展开更多

关键词 光刻机 半导体工艺 asml INTEL 41 海力士 中芯国际 尼康 声名显赫 阿斯 硅半导体

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后发企业与创新联合体共演驱动产业关键核心技术持续突破的机制研究 被引量：15

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作者 张贝贝 尹西明 +2 位作者 陈泰伦 余江 陈劲 《科研管理》 CSSCI CSCD 北大核心 2024年第8期83-94,共12页

如何持续突破产业关键核心技术,是以科技创新引领现代化产业体系构建、加快发展新质生产力的核心抓手与重点议题。然而现有研究鲜有关注中观层面如何桥接宏观产业生态和微观主体,进而实现产业关键核心技术持续突破的过程机制这一重要的... 如何持续突破产业关键核心技术,是以科技创新引领现代化产业体系构建、加快发展新质生产力的核心抓手与重点议题。然而现有研究鲜有关注中观层面如何桥接宏观产业生态和微观主体,进而实现产业关键核心技术持续突破的过程机制这一重要的理论与实践议题。本研究聚焦光刻机这一集成电路产业代表性关键核心技术,以光刻系统集成商ASML为案例,运用纵向单案例方法系统探究:后发企业如何通过与创新联合体共演,持续突破产业关键核心技术并实现超越追赶?研究发现:面向光刻技术的阶跃性目标,基于“动机(M)-战略(S)-创新联合体(C)”的过程逻辑,ASML与其创新联合体持续共演,通过“权力分配”主体协同、“产业牵引”知识整合和“核心-外围”利益共生三种价值共创机制,驱动光刻机技术持续突破。随着创新联合体从萌芽、升级、强化到共生,ASML逐步完成其在光刻市场的后发追赶到引领超越。研究结论拓展并深化了产业创新生态系统视角下产业关键核心技术突破与后发追赶的理论研究,为培育壮大科技领军企业,提升产业技术创新能力,加快现代化产业体系建设和发展新质生产力提供重要启示。 展开更多

关键词 产业创新生态 创新联合体 产业关键核心技术 asml 后发追赶 新质生产力

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ASM1模型中主要动力学参数的测定方法 被引量：15

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作者 刘芳 顾国维 《中国给水排水》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期37-40,共4页

介绍了ASM1中主要动力学参数 μm ,A、bH、μm ,H和kh 等的测定方法 ,并对每个参数的不同测定方法进行了对比。通过对批量反应器或完全混合反应器中OUR或NUR动态变化过程的测定即可实现对 μm ,A、bH、μm ,H和kh 等参数的估值。

关键词 asml 动力学参数 测定方法

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