采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了一系列Ta_(2)O_(5)单层膜,深入探究了不同先进等离子源(APS)偏压对薄膜光学性能、连续激光辐照下的温升特性、微观结构、表面形貌、应力特性的影响。研究结果显示:合理的APS偏压能够优化Ta_(2)O_(5)...采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了一系列Ta_(2)O_(5)单层膜,深入探究了不同先进等离子源(APS)偏压对薄膜光学性能、连续激光辐照下的温升特性、微观结构、表面形貌、应力特性的影响。研究结果显示:合理的APS偏压能够优化Ta_(2)O_(5)薄膜的化学计量比,进而显著降低薄膜的吸收系数以及连续激光辐照过程中的温升幅度;通过调控APS偏压可以实现对薄膜中残余应力的精准调控。经实验验证,在130 V APS偏压下制备的Ta_(2)O_(5)薄膜的综合性能最优。本研究还借助COMSOL软件针对Ta_(2)O_(5)单层膜的热畸变现象展开了仿真分析,进一步深化了对该薄膜热学行为的理解,为其后续在相关领域的应用提供了坚实的理论依据。展开更多
文摘采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了一系列Ta_(2)O_(5)单层膜,深入探究了不同先进等离子源(APS)偏压对薄膜光学性能、连续激光辐照下的温升特性、微观结构、表面形貌、应力特性的影响。研究结果显示:合理的APS偏压能够优化Ta_(2)O_(5)薄膜的化学计量比,进而显著降低薄膜的吸收系数以及连续激光辐照过程中的温升幅度;通过调控APS偏压可以实现对薄膜中残余应力的精准调控。经实验验证,在130 V APS偏压下制备的Ta_(2)O_(5)薄膜的综合性能最优。本研究还借助COMSOL软件针对Ta_(2)O_(5)单层膜的热畸变现象展开了仿真分析,进一步深化了对该薄膜热学行为的理解,为其后续在相关领域的应用提供了坚实的理论依据。