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AIGaInP系LED工艺进展分析 被引量:1
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作者 郑元宇 《中国新技术新产品》 2017年第3期72-73,共2页
从外延工艺和芯片工艺上,对AIGa In P系LED在提升外量子效率的各种方法做了分析,探讨了各种工艺目前存在的优势和缺点。以期为Ga As基AIGa In P LED的发展提供理论依据。
关键词 aigainp LED GAAS 外延工艺 芯片工艺
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掺Si对AlGaInP/GaInP多量子阱发光性能的影响
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作者 李述体 范广涵 +4 位作者 周天明 郑树文 王浩 郭志友 孙慧卿 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1159-1163,共5页
研究了Si掺杂对MOCVD生长的(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5P多量子阱发光性能的影响.样品分为两类:一类只生长了(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5P多量子阱结构;另一类为完整的多量子阱LED结构.对于只生长了(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5... 研究了Si掺杂对MOCVD生长的(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5P多量子阱发光性能的影响.样品分为两类:一类只生长了(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5P多量子阱结构;另一类为完整的多量子阱LED结构.对于只生长了(Al0.3Ga0.7)In0.5P/Ga0.5In0.5P多量子阱结构的样品,掺Si没有改变量子阱发光波长,但使得量子阱发光强度略有下降,发光峰半高宽明显增大.这应是掺Si使量子阱界面质量变差导致的.而在完整LED结构的情况下,掺Si却大大提高了量子阱的发光强度.相对于未掺杂多量子阱LED结构,垒层掺Si使多量子阱的发光强度提高了13倍,阱层和垒层均掺Si使多量子阱的发光强度提高了28倍,并对这一现象进行了讨论. 展开更多
关键词 多量子阱 aigainp MOCVD Si掺杂 光致发光
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AlGaInP发光二极管的全方位反射镜研究 被引量:2
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作者 高伟 邹德恕 +3 位作者 郭伟玲 宋欣原 孙浩 沈光地 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期537-539,共3页
全方位反射镜(ODR)AlGaInP发光二极管能够有效提高光提取效率。对全方位反射镜的设计及工艺进行优化:采用λ/4n厚的SiO2作为介质,光刻腐蚀导电孔,带胶保护,溅射AuZnAu,剥离后,再溅射300nmAu层,形成的ODR退火后在波长630nm处的反射率为72... 全方位反射镜(ODR)AlGaInP发光二极管能够有效提高光提取效率。对全方位反射镜的设计及工艺进行优化:采用λ/4n厚的SiO2作为介质,光刻腐蚀导电孔,带胶保护,溅射AuZnAu,剥离后,再溅射300nmAu层,形成的ODR退火后在波长630nm处的反射率为72.1%,而单次溅射AuZnAu的反射率退火后为63.2%。实验结果说明新工艺满足了欧姆接触的需要,反射率提高了8.8%。 展开更多
关键词 铝镓铟磷 发光二极管 全方位反射镜
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大功率GaInP/AlGaInP半导体激光器 被引量:1
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作者 徐云 郭良 +5 位作者 曹青 宋国峰 甘巧强 杨国华 李玉璋 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期2213-2217,共5页
制备了大功率实折射率GaInP/AlGaInP压应变分别限制量子阱激光器.所用外延材料在15°偏角的GaAs衬底上由有机金属气相外延一次外延生长得到.制备的激光器具有双沟脊波导结构,条宽和腔长分别为3和900μm,前后端面分别蒸镀5%的增透膜... 制备了大功率实折射率GaInP/AlGaInP压应变分别限制量子阱激光器.所用外延材料在15°偏角的GaAs衬底上由有机金属气相外延一次外延生长得到.制备的激光器具有双沟脊波导结构,条宽和腔长分别为3和900μm,前后端面分别蒸镀5%的增透膜和95%的高反膜.分析了室温连续激射时激光器的光电输出性能.阈值电流的典型值为32mA,光学灾变阈值为88mW,功率为80mW时的工作电流为110mA,斜率效率为1W/A,串联电阻为3Ω.基横模光输出功率可达60mW,60mW时的平行结和垂直结的远场发散角分别为10°和32°,激射波长为658·4nm.器件的内损耗为4·1cm-1,内量子效率达80%,透明电流密度为648A/cm2. 展开更多
关键词 半导体激光器 AlGaInP可见光激光器 应变量子阱
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Measurement of Refractive Indices of (Al_xGa_(1-x))_(0.51)In_(0.49)P Grown by Low Pressure Organometallic Vapor Phase Epitaxy
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作者 廉鹏 马骁宇 +1 位作者 张广泽 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期398-401,共4页
The refractive indices of disordered (Al xGa 1-x ) 0 51 In 0 49 P,which is grown by low-pressure organometallic vapor phase epitaxy and lattice-matched to GaAs substrate,have been determined by measurin... The refractive indices of disordered (Al xGa 1-x ) 0 51 In 0 49 P,which is grown by low-pressure organometallic vapor phase epitaxy and lattice-matched to GaAs substrate,have been determined by measuring their reflectance spectra when the wavelength ranges between 0 5 to 2 5 micrometer.A single-oscillator dispersion model is used to verify the experiment data and calculate the reflectance spectrum.The refractive indices are used to analyze the waveguide of strain quantum well GaInP/AlGaInP visible laser diode.The simulated far field pattern is consistent with the experimental results very well. 展开更多
关键词 LP-OMVPE refractive index MEASUREMENT GAINP/ALGAINP
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透明导电ITO欧姆接触的AlGaInP薄膜发光二极管 被引量:7
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作者 张剑铭 邹德恕 +2 位作者 刘思南 朱彦旭 沈光地 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期562-565,共4页
提出了一种透明导电氧化铟锡(ITO)欧姆接触的AlGaInP薄膜发光二极管(LED)的结构和制作工艺。在这个结构里,ITO还作为窗口层材料,增强电流扩展,并应用了高反射率的金属作为反光镜。用Au-Sn合金(Au∶Sn=8∶2,重量比)作为焊料,把带有金属... 提出了一种透明导电氧化铟锡(ITO)欧姆接触的AlGaInP薄膜发光二极管(LED)的结构和制作工艺。在这个结构里,ITO还作为窗口层材料,增强电流扩展,并应用了高反射率的金属作为反光镜。用Au-Sn合金(Au∶Sn=8∶2,重量比)作为焊料,把带有金属反光镜的AlGaInPLED(RS-LED)外延片倒装键合到GaAs基板上,并去掉外延GaAs衬底,把被GaAs衬底吸收的光反射出去。与常规AlGaInP吸收衬底LEDs(AS-LED)和带有分布布拉格反光镜(DBR)的AlGaInP吸收衬底LEDs(DBR-AS-LED)电、光特性的比较,用透明导电ITO做欧姆接触的AlGaInP薄膜RS-LED结构能极大提高光输出功率和发光强度。正向电流20mA时,RS-LED的光输出功率分别是AS-LED和DBR-AS-LED的2.4倍和1.7倍;RS-LED20mA下峰值波长624nm的轴向光强达到了179.6mcd,分别是AS-LED20mA下峰值波长627nm和DBR-AS-LED20mA下峰值波长623nm轴向光强的2.2倍和1.3倍。 展开更多
关键词 ALGAINP 氧化铟锡(ITO) 薄膜发光二极管(LED) 发光强度
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