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AF_(2400)-SiO_2疏水复合光学薄膜制备及其表征
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作者 汪国庆 沈军 +1 位作者 谢志勇 吴广明 《同济大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期924-927,共4页
采用溶胶-凝胶工艺制备低折射率二氧化硅(SiO2)增透薄膜,用AF2400(Telflon)对薄膜进行表面处理得到AF2400-SiO2疏水复合光学薄膜.对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能等进行测试,结果显示AF2400-SiO2复合光学薄膜表面平整,折... 采用溶胶-凝胶工艺制备低折射率二氧化硅(SiO2)增透薄膜,用AF2400(Telflon)对薄膜进行表面处理得到AF2400-SiO2疏水复合光学薄膜.对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能等进行测试,结果显示AF2400-SiO2复合光学薄膜表面平整,折射率为1.21,疏水角可以达到110°~120°. 展开更多
关键词 光学薄膜 制备 溶胶-凝胶工艺 af2400-sio2疏水减反复合薄膜 无定形氟聚合物AR2400
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用于KDP晶体保护的AF2400-SiO_2疏水光学薄膜 被引量:8
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作者 汪国庆 沈军 +2 位作者 谢志勇 吴广明 肖轶群 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期380-384,共5页
在惯性约束聚变(ICF)装置中大量使用具有变频特性的水溶性磷酸二氢钾(KDP)类晶体材料。在KDP晶体上镀制薄膜材料成为保护KDP晶体的有效措施。以正硅酸乙酯(TEOs)为原料,采用溶胶-凝胶法和提拉方式制备膜厚λ/4的增透膜,再采用... 在惯性约束聚变(ICF)装置中大量使用具有变频特性的水溶性磷酸二氢钾(KDP)类晶体材料。在KDP晶体上镀制薄膜材料成为保护KDP晶体的有效措施。以正硅酸乙酯(TEOs)为原料,采用溶胶-凝胶法和提拉方式制备膜厚λ/4的增透膜,再采用具有高憎水特性、高透射率、低折射率的氟聚合物AF2400在FC-75的可溶解特性,在SiO2增透膜上旋涂AF2400防潮膜。对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能和抗激光损伤阈值等进行了测试。结果显示,AF2400-SiO2复合光学薄膜表面平整,折射率为1.21,疏水角可以达到110°~120°,抗激光损伤阈值为19.5J/cm^2,是性能优良的疏水光学薄膜,可用于三倍频晶体KDP的保护。 展开更多
关键词 薄膜 af2400-sio2 复合薄膜 KDP晶体保护 溶胶-凝胶法
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