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Study of the front-end signal for the 3-inch PMTs instrumentation in JUNO
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作者 Diru Wu Jilei Xu +2 位作者 Miao He Zhimin Wang Ziliang Chu 《Radiation Detection Technology and Methods》 CSCD 2022年第3期349-360,共12页
A total of 25,6003-inch PMTs will be installed in Jiangmen Underground Neutrino Observatory(JUNO)to achieve more precise energy calibration and to extend the physics detection potential.Performances of all bare PMTs h... A total of 25,6003-inch PMTs will be installed in Jiangmen Underground Neutrino Observatory(JUNO)to achieve more precise energy calibration and to extend the physics detection potential.Performances of all bare PMTs have been characterized and these PMTs are being instrumented with the high voltage divider,underwater front-end cable,and connector.In this paper,we present a dedicated study on signal quality at different stages of the instrumentation.An optimized high voltage ratio was confirmed andfinalized which improved the PMT transit time spread by 25%.The signal charge was attenuated by 22.5%(13.0%)in the 10 m(5 m)cable and it required the addition of 45 V(23 V)to compensate for the loss of PMT gain.There was a 1%overshoot following the PMT signal and no sign of reflection in the connector.A group of 163-inch PMTs with the full instrumentation was installed in the JUNO prototype detector together with a few 8-inch and 20-inch PMTs,which showed good stability and demonstrated a photon detection system with multiple types of PMTs. 展开更多
关键词 JUNO 3-inch PMT PMT divider TTS Signal attenuation JUNO prototype
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3英寸半绝缘4H-SiC单晶的研制 被引量:6
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作者 王利杰 冯玢 +3 位作者 洪颖 孟大磊 王香泉 严如岳 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期8-10,共3页
报道了采用物理气相传输(PVT)法进行SiC单晶生长方面取得的最新进展,成功研制得到固态微波器件急需的3英寸(75mm)半绝缘4H-SiC衬底。使用计算机模拟技术,进行了3英寸(75mm)4H—SiC晶体生长的热场设计,并在此基础上研制出适合3... 报道了采用物理气相传输(PVT)法进行SiC单晶生长方面取得的最新进展,成功研制得到固态微波器件急需的3英寸(75mm)半绝缘4H-SiC衬底。使用计算机模拟技术,进行了3英寸(75mm)4H—SiC晶体生长的热场设计,并在此基础上研制出适合3英寸(75mm)4H.SiCPVT生长的晶体生长设备,采用喇曼光谱对晶体生长表面5点进行测试,结果均为单一的4H晶型,采用非接触电阻率面分布(COREMA)方法测得晶片电阻率为10^9-10^12ΩQ·cm。微管道缺陷(MPD)测量采用熔融KOH腐蚀法,测得平均微管道密度为104个/cm。,其中晶片的30%区域微管道缺陷小于10个/cm2使用x射线双晶衍射测试得到其半高宽(FWHM)为31arcsec,说明所获得的晶体具有良好的结晶完整性。 展开更多
关键词 3英寸(75 mm) 4H—SiC 电阻率 微管道缺陷 半高宽
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3英寸SiC衬底无架行星式双面抛光运动学分析 被引量:6
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作者 张鹏 冯显英 杨静芳 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第18期18105-18111,共7页
针对3英寸SiC衬底的精密抛光加工,设计了其无架行星式适应性双面抛光机构的几何模型.推导了抛光垫上任一点磨粒A 相对SiC 衬底的运动轨迹方程.利用C#和Matlab联合仿真对太阳轮、行星轮、齿圈以及抛光盘转速和运动轨迹的曲率等工艺参数... 针对3英寸SiC衬底的精密抛光加工,设计了其无架行星式适应性双面抛光机构的几何模型.推导了抛光垫上任一点磨粒A 相对SiC 衬底的运动轨迹方程.利用C#和Matlab联合仿真对太阳轮、行星轮、齿圈以及抛光盘转速和运动轨迹的曲率等工艺参数进行了分析.基于ADAMS工具,进行了双面抛光的运动学仿真,得到了3英寸SiC衬底表面5点的位移、速度、加速度随时间变化的曲线.仿真结果表明,当齿圈和太阳轮转速比m =-1.25;抛光盘和太阳轮转速比n=1;磨粒分布半径(RA)适当增加时,磨粒在晶片上走过的轨迹范围增大;得到的抛光轨迹更加均匀.根据仿真的最优参数进行实验,机械抛光后获得了材料去除率(MRR)为1-2μm/h,表面粗糙度(Ra)小于2nm,总厚度变化(TTV)、弯曲度(BOW)、翘曲度(Warp)均小于15μm 的SiC衬底.验证了理论模型的正确性和虚拟样机的合理性. 展开更多
关键词 行星差动轮系 抛光轨迹 ADAMS 3英寸碳化硅衬底
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3寸数码管记分牌的设计 被引量:1
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作者 李生明 杨红 《长江工程职业技术学院学报》 CAS 2010年第2期48-51,54,共5页
本设计采用STC89C52单片机作为控制芯片,用三寸大数码管显示,具有甲乙两队记分和倒计时功能,两队分数最大可记999分,时间可设最大99分钟,实现秒钟倒记时,时间可暂停及有比赛结束哨音提示,记分和设定时间除了按钮控制,还有红外遥控控制,... 本设计采用STC89C52单片机作为控制芯片,用三寸大数码管显示,具有甲乙两队记分和倒计时功能,两队分数最大可记999分,时间可设最大99分钟,实现秒钟倒记时,时间可暂停及有比赛结束哨音提示,记分和设定时间除了按钮控制,还有红外遥控控制,站在球场的任何位置,都可设置,操作方便。本记分牌可用于篮球、足球、排球等球类比赛记分。 展开更多
关键词 记分牌 单片机 红外遥控 3寸数码管
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3英寸高纯半绝缘6H-SiC单晶的研制 被引量:1
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作者 王利杰 洪颖 +4 位作者 齐海涛 冯玢 王香泉 郝建民 严如岳 《中国电子科学研究院学报》 2011年第4期432-435,共4页
采用物理气相传输(PVT)工艺,成功制备出3英寸高纯半绝缘(HPSI)6H-SiC单晶。依据氮在碳化硅晶格中占碳位的规律,通过生长过程温度和压力等工艺参数的优化,减少生长前沿碳空位的数量,实现了在较高碳硅比气氛下低氮含量碳化硅单晶生长的目... 采用物理气相传输(PVT)工艺,成功制备出3英寸高纯半绝缘(HPSI)6H-SiC单晶。依据氮在碳化硅晶格中占碳位的规律,通过生长过程温度和压力等工艺参数的优化,减少生长前沿碳空位的数量,实现了在较高碳硅比气氛下低氮含量碳化硅单晶生长的目标。二次离子质谱(SIMS)测试给出了晶体中氮及其他杂质的控制水平,证明单晶的高纯属性;非接触电阻率Mapping(CORE-MA)和电子顺磁共振(EPR)测试进一步证实其高纯半绝缘特性。 展开更多
关键词 3英寸6H-SiC 物理气相传输法 高纯半绝缘 氮掺杂 碳空位
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直径3英寸钆镓石榴石晶体生长及性能研究 被引量:1
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作者 程毛杰 张会丽 +4 位作者 董昆鹏 权聪 胡伦珍 韩志远 孙敦陆 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第2期160-166,共7页
采用熔体提拉法,通过设计合理的晶体生长温场结构和优化生长气氛等,有效抑制了镓挥发,结合原料预处理及缩颈等工艺,成功生长出了高质量的直径3英寸Gd_(3)Ga_(5)O_(12)(GGG)晶体。对其晶体结构、结晶质量、位错形貌及透过光谱等进行了详... 采用熔体提拉法,通过设计合理的晶体生长温场结构和优化生长气氛等,有效抑制了镓挥发,结合原料预处理及缩颈等工艺,成功生长出了高质量的直径3英寸Gd_(3)Ga_(5)O_(12)(GGG)晶体。对其晶体结构、结晶质量、位错形貌及透过光谱等进行了详细研究。X射线粉末衍射(XRD)表明该晶体为单相且晶格常数为1.2379 nm;(111)结晶面的X射线摇摆曲线(XRC)显示晶体具有较好的结晶质量;原子力显微镜(AFM)测量晶体(111)抛光片的表面粗糙度约为0.203 nm;观察分析了晶体(111)结晶面的位错腐蚀坑,位错密度为28∼85个/cm^(2);透过光谱显示晶体具有较宽的透光波段,并拟合出了塞米尔方程系数。结果表明生长的三英寸GGG晶体可以作为磁光外延膜的衬底材料和激光基质,并且较大的尺寸能够有效提高晶体使用的取材效率和一致性。 展开更多
关键词 材料 3英寸GGG晶体 磁光衬底 晶体质量 表面形貌 位错 透过谱
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3英寸氧化镁基底上沉积DyBCO高温超导薄膜 被引量:2
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作者 孙延东 王朗 +1 位作者 马丽媛 季来运 《低温与超导》 CAS 北大核心 2021年第5期41-44,53,共5页
采用多源共蒸发技术在3英寸氧化镁基底上沉积了具有优异性能的DyBCO高温超导薄膜。用台阶仪对薄膜的厚度进行测量,结果显示超导薄膜厚度在650 nm左右。在77 K的液氮中,对薄膜的临界电流密度Jc进行测量,薄膜表面的临界电流密度Jc都大于2.... 采用多源共蒸发技术在3英寸氧化镁基底上沉积了具有优异性能的DyBCO高温超导薄膜。用台阶仪对薄膜的厚度进行测量,结果显示超导薄膜厚度在650 nm左右。在77 K的液氮中,对薄膜的临界电流密度Jc进行测量,薄膜表面的临界电流密度Jc都大于2.4 MA/cm2,且均匀性良好。 展开更多
关键词 多源共蒸发 3英寸氧化镁 高温超导薄膜 DyBCO
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三英寸表面线圈在磁共振颈动脉斑块成像中的应用 被引量:2
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作者 李明利 朱以诚 +3 位作者 冯逢 有慧 胡凌 金征宇 《中国医学影像技术》 CSCD 北大核心 2007年第12期1809-1812,共4页
目的研究三英寸表面线圈应用于颈动脉斑块高分辨率MR成像的可行性及临床应用价值。方法对33例动脉粥样硬化的患者行MR成像(GE1.5T)。使用两个3英寸线圈分别至于两侧颈动脉分叉处。成像序列包括横断面双翻转T1WI、快速自旋回波T2WI、PD... 目的研究三英寸表面线圈应用于颈动脉斑块高分辨率MR成像的可行性及临床应用价值。方法对33例动脉粥样硬化的患者行MR成像(GE1.5T)。使用两个3英寸线圈分别至于两侧颈动脉分叉处。成像序列包括横断面双翻转T1WI、快速自旋回波T2WI、PDWI,及3DTOF序列。由两位医师共同评价每个序列的图像质量并综合四个序列进行斑块成分分析,斑块成分的分析进行评价者之间的一致性检验。结果按图像质量分级评价系统(1~5分,5分为最好)对两侧颈动脉分别进行评价,共评价了264个序列图像,图像质量评分≤2分的序列27个(占10.2%)。评分≥4分的序列147个(55.7%)。将含一个序列≤2分的检查排除,共50支血管可用于斑块成分分析,显示了斑块32个(20例患者)。其中明确有脂核16个,出血10个,破裂纤维帽5个,钙化15个,一致性检验Kappa值分别是0.81(95%CI:0.61to1.01);0.86(0.66to1.04);0.45(0.05to0.85);0.87(0.70to1.00)。结论使用3英寸线圈进行颈动脉高分辨率磁共振成像可获得满意的图像质量,不同评价者进行斑块成分的分析具有较高的一致性,能够对斑块的组织成分作出较准确的判断。 展开更多
关键词 颈动脉 磁共振成像 三英寸表面线圈
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Effect of surface morphology on the electron mobility of epitaxial graphene grown on 0° and 8° Si-terminated 4H-SiC substrates
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作者 李佳 王丽 +4 位作者 冯志红 蔚翠 刘庆彬 敦少博 蔡树军 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第9期466-469,共4页
Graphene with different surface morphologies were fabricated on 8°-off-axis and on-axis 4H-SiC(0001) substrates by high-temperature thermal decompositions. Graphene grown on Si-terminated 8°-off-axis 4H-Si... Graphene with different surface morphologies were fabricated on 8°-off-axis and on-axis 4H-SiC(0001) substrates by high-temperature thermal decompositions. Graphene grown on Si-terminated 8°-off-axis 4H-SiC(0001) shows lower Hall mobility than the counterpart of on-axis SiC substrates. The terrace width is not responsible for the different electron mobility of graphene grown on different substrates, as the terrace width is much larger than the mean free path of the electrons. The electron mobility of graphene remains unchanged with an increasing terrace width on Si- terminated on-axis SiC. Interface scattering and short-range scattering are the main factors affecting the mobility of epitaxial graphene. After the optimization of the growth process, the Hall mobility of the graphene reaches 1770 cm^2/V.s at a carrier density of 9.8.×10^12 cm^-2. Wafer-size graphene was successfully achieved with an excellent double-layer thickness uniformity of 89.7% on a 3-inch SiC substrate. 展开更多
关键词 GRAPHENE MORPHOLOGY Hall mobility 3-inch SiC substrate
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