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Alq_3/ITO结构的表面和界面电子状态的XPS研究 被引量:2
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作者 郑代顺 李海蓉 +1 位作者 王延勇 张福甲 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期351-356,共6页
用传统的真空蒸镀法制备了Alq3/ITO样品,并用X光电子能谱(XPS)研究了Alq3/ITO紧密接触的表面和界面电子化学状态。对Alq3/ITO样品的表面分析表明,在lq3分子中,Al原子的束缚能(Eb)为70.7... 用传统的真空蒸镀法制备了Alq3/ITO样品,并用X光电子能谱(XPS)研究了Alq3/ITO紧密接触的表面和界面电子化学状态。对Alq3/ITO样品的表面分析表明,在lq3分子中,Al原子的束缚能(Eb)为70.7eV和75.1eV。分别对应于Al(0)和Al(Ⅲ)态,C原子的束缚能为285.8eV、286.3eV和286.8eV,分别对应于C-C、C-O和C-N键;N原子的主峰位于 401.0eV,对应于 C-N=C键;而 O原子主要与 H原子成键,其束缚能为532.8eV。为了研究Alq3/ITO的界面电子状态,我们用氩离子束对样品表面进行了溅射剥蚀,当溅射时间分别为30,35,45分钟时进行XPS采谱分析。结果表明,随着氩离子束溅射时间增长,Al2p、C1s、N1s、O1s、In3d5/2和Sn3d5/2峰都向低束缚能方向有微小移动,且Al2p、C1s和N1s峰变弱,这是受ITO中扩散进入Alq3层的O、In和Sn原子的影响所致。 展开更多
关键词 Alq3/ito XPS 结构 表面电子状态 界面电子状态 电致发光器件 8-羟基喹啉铝 发光材料
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Ga_2O_3/ITO/Ga_2O_3深紫外透明导电膜的研究 被引量:1
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作者 刘建军 闫金良 +1 位作者 石亮 李爱丽 《鲁东大学学报(自然科学版)》 2009年第4期344-346,共3页
采用常压烧结方法制备了Ga2O3陶瓷靶,用X射线衍射仪、金相显微镜对Ga2O3陶瓷靶的结构和形貌进行了研究.用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO(锡铟氧化物)靶材分别制备了Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜,用紫外-可见分光光度计... 采用常压烧结方法制备了Ga2O3陶瓷靶,用X射线衍射仪、金相显微镜对Ga2O3陶瓷靶的结构和形貌进行了研究.用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO(锡铟氧化物)靶材分别制备了Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜,用紫外-可见分光光度计、四探针测试仪对Ga2O3薄膜、Ga2O3/ITO/Ga2O3膜的光学透过率和电阻率进行了表征.Ga2O3薄膜不导电,光学带隙5.1 eV;Ga2O3(45 nm)/ITO(14 nm)/Ga2O3(45nm)膜在300 nm处的光学透过率71.5%,280 nm处60.6%,电阻率1.48×10-2Ω.cm.ITO层的厚度影响Ga2O3/ITO/Ga2O3膜的光电性质. 展开更多
关键词 Ga2O3陶瓷靶材 深紫外透明导电膜 Ga2O3/ito/Ga2O3 光电性质
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XPS Investigation on Surface and Interface Electronic States of Alq_3/ITO
3
作者 ZHANG Fu jia, ZHENG Dai shun, WANG Yan yong, HU Hai bing (Dept. of Phys., Lanzhou University, Lanzhou 730000, CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2001年第3期143-149,共7页
The surface and interface electronic states of tris (8 hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3)/indium tin oxide (ITO) were measured and analyzed by X ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results indicated that, in Alq... The surface and interface electronic states of tris (8 hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3)/indium tin oxide (ITO) were measured and analyzed by X ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results indicated that, in Alq 3 molecule, the binding energy ( E b) of Al atoms is 70.7 eV and 75.1 eV, corresponding to Al(O) and Al(Ⅲ), respectively; The binding energy of C is 285.8 eV, 286.3 eV, and 286.8 eV, corresponding to C of C-C group, C-O, and C-N bond, respectively. N is the main peak locating at 401.0 eV, corresponding to N atom of C-N=C. O atoms mainly bond to H atom, with the binding energy of 533.2 eV. As the sputtering time of Ar + ion beam increases, Al 2p , C 1s , N 1s , O 1s , In 3d 5/2 and Sn 3d 5/2 peaks slightly shift towards lower binding energy, and Al 2p , C 1s and N 1s peaks get weaker, which contributes to diffusing the oxygen, indium and tin in ITO into Alq 3 layer. 展开更多
关键词 XPS Alq 3/ito Surface state Interface state
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SmBO_(3)@ITO的制备及激光吸收性能研究
4
作者 李文新 鹿辛践 +2 位作者 冯潇强 张同庆 张林博 《电子元件与材料》 北大核心 2025年第4期470-476,共7页
随着探测技术的不断发展,单一频段的隐身手段已经难以满足现代战场对隐身技术的实际需求。采用共沉淀法制备了掺杂半导体ITO包覆的SmBO_(3)复合粉体,旨在开发具有激光和雷达兼容隐身功能的新型材料。通过XRD、SEM、元素分布Mapping和XP... 随着探测技术的不断发展,单一频段的隐身手段已经难以满足现代战场对隐身技术的实际需求。采用共沉淀法制备了掺杂半导体ITO包覆的SmBO_(3)复合粉体,旨在开发具有激光和雷达兼容隐身功能的新型材料。通过XRD、SEM、元素分布Mapping和XPS等表征手段,确认了SmBO_(3)@ITO核壳结构的成功构建。激光性能测试表明,包覆粉体的反射率最低为42.9%。进一步的电磁参数测试与计算显示,在2 mm厚度条件下,于13.5 GHz频段处得到最低反射损耗(RL)约为-11.1 dB,有效吸波带宽(EAB)为1.5 GHz。这项工作将为激光和雷达兼容的隐身技术提供新的材料选择和研究方向。 展开更多
关键词 共沉淀法 包覆 SmBO_(3)@ito 激光兼容
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基于多孔ITO电极的WO_(3)薄膜的制备及其电致变色性能
5
作者 杨光 张楠 +3 位作者 陈舒锦 王义 谢安 严育杰 《无机材料学报》 北大核心 2025年第7期781-789,共9页
电致变色智能窗可通过调制电致变色材料的光学透过率来调控室外入射光进而实现节能建筑。由于磁控溅射技术具有大面积和均匀沉积的优势,利用其所制备的非晶三氧化钨(Tungsten Oxide,WO_(3))最有实现商业化的潜力。然而,磁控溅射制备的WO... 电致变色智能窗可通过调制电致变色材料的光学透过率来调控室外入射光进而实现节能建筑。由于磁控溅射技术具有大面积和均匀沉积的优势,利用其所制备的非晶三氧化钨(Tungsten Oxide,WO_(3))最有实现商业化的潜力。然而,磁控溅射制备的WO_(3)薄膜本征致密原子结构导致较低的离子传输效率,因此其电致变色性能远低于溶液法。本研究提出了基于埋层多孔电极制备微结构磁控溅射基WO_(3)薄膜的方法,从而提高材料的光学调制幅度和响应时间。实验结果表明,与致密WO_(3)薄膜相比,通过该方法制备的多孔WO_(3)薄膜展现出显著提升的电致变色性能。当多孔WO_(3)薄膜厚度增加到300 nm时,获得了高达79.08%的光学调制幅度,2.6 s的着色时间和2.0 s的褪色时间,以及高达52.5 cm^(2)/C的着色效率。性能提升主要归因于多孔氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)电极和多孔WO_(3)薄膜的协同作用。多孔ITO电极可增加与WO_(3)组分的接触面积,使更多电荷注入WO_(3)薄膜中,进而促进氧化还原反应过程。此外,多孔WO_(3)薄膜也增加了与电解液的接触面积,随之增加了反应活性位点以及缩短了离子扩散路径,进而加速了离子扩散和迁移过程,实现了高效的氧化还原反应和快速的离子传输。本工作为制备高性能微纳结构磁控溅射电致变色薄膜提供了一种有效的方法。 展开更多
关键词 电致变色 磁控溅射 ito电极 多孔WO_(3)
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ITO/Al_2O_3复合透明导电膜的制备及光电性能 被引量:3
6
作者 季振国 王超 刘坤 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第3期173-175,172,共4页
采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度... 采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度为 4 0nm左右时 ,ITO的结晶质量得到提高 ,取向性能变好 ,电阻降低 ,而且在 4 0 0 - 80 0nm范围内具有很高的可见光透过率。实验表明 ,通过改变预沉积Al膜的厚度 ,可以改变ITO薄膜最大透过率对应的波长 。 展开更多
关键词 ito AL2O3 复合膜 磁控溅射
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ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO_(3)薄膜及其电致变色性能 被引量:2
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作者 王冠杰 王美涵 +4 位作者 文哲 魏丽颖 雷浩 孙立贤 徐芬 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期1448-1454,共7页
采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO_(3)薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO_(3)薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO_(3)薄膜的电化学性能... 采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO_(3)薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO_(3)薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO_(3)薄膜的电化学性能和光学性能进行分析。结果表明,当掠射角α>60°时,薄膜表面形成类似于山峰状形貌,断面为纳米斜柱状结构,该结构有利于离子和电子的迁移。当掠射角α=80°时,沉积的WO_(3)薄膜具有最快离子扩散速率和最大光调制幅度,着色效率达到27.05 cm^(2)/C。同时,薄膜还表现出快速响应和良好循环稳定性。 展开更多
关键词 WO_(3)薄膜 ito/PET衬底 直流磁控反应溅射 掠射角 电致变色性能
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Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO薄膜器件光控电阻开关特性研究 被引量:1
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作者 李秀林 陈鹏 《科学技术创新》 2021年第11期5-6,共2页
采用射频磁控溅射技术在ITO衬底上制备了BiFeO_(3)/CoFeB双层膜。在Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO结构中观察到双极性电阻开关效应。样品的电阻开关特性可以通过白光调制。本工作可用于Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO纳米薄膜器件探索光学控制非易失... 采用射频磁控溅射技术在ITO衬底上制备了BiFeO_(3)/CoFeB双层膜。在Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO结构中观察到双极性电阻开关效应。样品的电阻开关特性可以通过白光调制。本工作可用于Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ITO纳米薄膜器件探索光学控制非易失性存储器器件中的多功能材料和应用。 展开更多
关键词 Ag/BiFeO_(3)/CoFeB/ito 电阻开关 光控
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铟锡氢氧化物的煅烧温度对ITO靶材结构性能的影响 被引量:2
9
作者 张倍维 陆映东 +3 位作者 黄作 莫斌 方志杰 黄誓成 《功能材料》 北大核心 2025年第1期1209-1216,共8页
研究发现氧化锡铟(ITO)靶材的致密度受ITO前驱粉体烧结活性影响并取决于其结构和组成。而ITO前驱粉体煅烧温度对于ITO靶材结构及其性质的影响尚未明晰。探究铟锡氢氧化物粉体的煅烧形成ITO粉体过程中,温度对于其粉体的结构以及后续制备... 研究发现氧化锡铟(ITO)靶材的致密度受ITO前驱粉体烧结活性影响并取决于其结构和组成。而ITO前驱粉体煅烧温度对于ITO靶材结构及其性质的影响尚未明晰。探究铟锡氢氧化物粉体的煅烧形成ITO粉体过程中,温度对于其粉体的结构以及后续制备的ITO靶材的烧结致密化的影响。XRD衍射分析表明铟锡氢氧化物的粉末煅烧温度和时间的增加均会导致ITO粉体晶粒尺寸变大;当煅烧温度为750℃时(2 h),ITO粉体有较高的比表面积,高的表面金属含量构成,制备的靶材具有高的相对密度,更低的电阻率,靶材断面结构紧凑,内部气孔相对较少。前驱粉体煅烧温度与ITO靶材的结构-性能关系,揭示了煅烧温度直接影响铟锡氢氧化物粉体的立方晶体的形成,改变了生成的ITO粉体结构(比表面积、表面元素构成、粒度等),影响成型的素胚密度,进而影响ITO靶材的烧结致密性及导电性能。 展开更多
关键词 铟锡氧化物 温度-结构-性能关系 锡(Sn)掺杂氧化铟(In2O3) ito靶材
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用光透薄层电极研究[Fe(phen)_3]^(2+)电子转移反应的热力学
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作者 李金良 卢祥生 王超 《江苏师范大学学报(自然科学版)》 CAS 1996年第1期34-37,共4页
使用自制的ITO导电玻璃恒温光透薄层电极,测定邻菲罗啉亚铁配合物在氯化钾介质中的电极氧化过程的电子转移数n和克式量电位,研究与温度的关系,测定了其电极反应的热力学函数,得出该电极反应为放热反应.
关键词 薄层光谱电化学 ito光透电极 [Fe(phen)3]2+
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先驱体陶瓷薄膜热电偶的封装及性能研究 被引量:1
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作者 张朋 陈沁楠 +1 位作者 徐毅 李金洋 《遥测遥控》 2025年第3期63-69,共7页
先驱体陶瓷(Polymer Derived Ceramics,PDCs)薄膜热电偶具有制备工艺简单、高温性能稳定等优点,非常适用于给航空发动机涡轮叶片等热端部件测温,但随着先进发动机工作温度的不断提升,其耐温上限亟待进一步提高。本文开发了一款先驱体陶... 先驱体陶瓷(Polymer Derived Ceramics,PDCs)薄膜热电偶具有制备工艺简单、高温性能稳定等优点,非常适用于给航空发动机涡轮叶片等热端部件测温,但随着先进发动机工作温度的不断提升,其耐温上限亟待进一步提高。本文开发了一款先驱体陶瓷封装的PDCs:ITO/In_(2)O_(3)薄膜热电偶,其封装层以SiCN为先驱体溶液、纳米Al_(2)O_(3)粉末为填充材料,采用丝网印刷工艺制备。高温测试结果表明:所制备的传感器能够在短期内于1500℃环境下正常工作,并在1400℃内有稳定的信号输出;在1100℃下进行标定测试,其线性度优于0.999,多次循环误差小于1%。 展开更多
关键词 先驱体陶瓷 ito/In_(2)O_(3) 高温封装 极端环境
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水性聚氨酯的纳米改性 被引量:24
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作者 罗振扬 沈吉静 赵石林 《化学推进剂与高分子材料》 CAS 2005年第3期26-28,共3页
分别将纳米氧化铝(Al2O3)和纳米氧化铟锡(ITO)加入到水性聚氨酯树脂中,改善了水性聚氨酯涂膜的耐磨性能和隔热性能。
关键词 纳米改性 水性聚氨酯树脂 纳米氧化铝 聚氨酯涂膜 氧化铟锡 隔热性能 耐磨性能
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煅烧铟锡氢氧化物和氯化钠混合粉末制备铟锡氧化物纳米粉体 被引量:2
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作者 苏兴华 孟雷超 +3 位作者 王本盼 赵鹏 艾涛 阎鑫 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2013年第12期1317-1320,共4页
铟锡氧化物(ITO)是一种重要的半导体材料,制备团聚轻、颗粒细小的ITO纳米粉体具有重要的意义。在500℃下煅烧铟锡氢氧化物[Sn:In(OH)3]和NaCl的混合粉末2h,然后冷却并经过水洗制备ITO纳米粉体。XRD和TEM研究结果表明,利用NaCl颗粒能有... 铟锡氧化物(ITO)是一种重要的半导体材料,制备团聚轻、颗粒细小的ITO纳米粉体具有重要的意义。在500℃下煅烧铟锡氢氧化物[Sn:In(OH)3]和NaCl的混合粉末2h,然后冷却并经过水洗制备ITO纳米粉体。XRD和TEM研究结果表明,利用NaCl颗粒能有效阻止纳米粉体硬团聚的形成。ITO纳米粉体结晶良好,平均颗粒尺寸为18nm,尺寸分布窄、团聚轻。本工艺为合成无机纳米粉体提供了一种新的方法。 展开更多
关键词 铟锡氧化物 纳米粉体 煅烧 氢氧化铟 氯化钠
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高温陶瓷薄膜热流传感器动态响应有限元分析 被引量:2
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作者 张梅菊 郭怡雪 +3 位作者 黄漫国 杜子睿 康志鹏 张丛春 《测控技术》 2023年第11期1-5,39,共6页
航空、航天等领域的高速发展对精密热流测量技术提出了更严苛的挑战。ITO/In_(2)O_(3)陶瓷材料相比贵金属材料有着更高的塞贝克系数,并拥有低密度和优异的高温力学性能。基于有限元仿真方法,建立了ITO/In_(2)O_(3)热电堆型薄膜热流传感... 航空、航天等领域的高速发展对精密热流测量技术提出了更严苛的挑战。ITO/In_(2)O_(3)陶瓷材料相比贵金属材料有着更高的塞贝克系数,并拥有低密度和优异的高温力学性能。基于有限元仿真方法,建立了ITO/In_(2)O_(3)热电堆型薄膜热流传感器热电学仿真模型,设计了2种薄膜热流传感器结构,综合分析了热电堆在不同的热阻层分布、热阻层厚度和热流密度下的传热性能和输出动态响应变化,提出了ITO/In_(2)O_(3)薄膜热流传感器的优化设计方案。 展开更多
关键词 高温 薄膜热流传感器 ito/In_(2)O_(3)热电堆 有限元分析 动态响应
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优化基于PVP的有机双稳态存储器的电性能
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作者 陆杨 朱睿 +3 位作者 江紫玲 吴国良 张奥 张婕 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第8期1193-1200,共8页
在未来非易失性存储器的应用中,有机双稳态存储器具有良好的发展潜力,但仍缺少对提升存储器性能的简单方法的探究。制备了一系列基于聚(4-乙烯基苯酚)(PVP)的三明治结构的柔性存储器,发现结构为氧化铟锡(ITO)/聚(3-己基噻吩)(P3HT)(二氯... 在未来非易失性存储器的应用中,有机双稳态存储器具有良好的发展潜力,但仍缺少对提升存储器性能的简单方法的探究。制备了一系列基于聚(4-乙烯基苯酚)(PVP)的三明治结构的柔性存储器,发现结构为氧化铟锡(ITO)/聚(3-己基噻吩)(P3HT)(二氯苯(DCB))/PVP/Cu的存储器写入电压最低。使用全溶液方法在柔性基底上制备此结构的存储器,并测试了其电性能。结果表明,写入电压为1.0 V,开关(ON/OFF)比为1×10^(5),保留时间达到2×10^(4)s。同时,通过分析其开关机理解释了结构和材料影响存储器性能的原理,加入修饰层P3HT和将金属电极由Al改为Cu,均可使介电层和电极之间的能级更匹配,从而降低载流子运输需克服的势垒;使用X射线衍射仪(XRD)和紫外-可见(UV-Vis)光谱仪验证了将P3HT的溶剂氯苯换为二氯苯,可增强P3HT分子的有序形态和结晶度,从而提高电荷传输能力以降低存储器写入电压。这将从设计材料和优化结构方面为提高有机存储器性能提供参考。 展开更多
关键词 有机双稳态存储器 柔性材料 聚(3-己基噻吩)(P3HT)溶剂效应 氧化铟锡(ito) 全溶液方法 三明治结构
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In2O3:Sn中间层改善B掺杂ZnO薄膜的性能及其应用研究 被引量:1
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作者 赵慧旭 陈新亮 +5 位作者 杨旭 杜建 白立沙 陈泽 赵颖 张晓丹 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期310-317,共8页
金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长的掺硼氧化锌(BZO)薄膜,具有天然的"类金字塔"绒面结构,作为硅基薄膜太阳电池的前电极具有良好的陷光效果.但直接获得的BZO薄膜表面形貌过于尖锐,影响后续硅基薄膜材料生长质量及太阳电池... 金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长的掺硼氧化锌(BZO)薄膜,具有天然的"类金字塔"绒面结构,作为硅基薄膜太阳电池的前电极具有良好的陷光效果.但直接获得的BZO薄膜表面形貌过于尖锐,影响后续硅基薄膜材料生长质量及太阳电池的光电转换效率.本文设计了以一层超薄In2O3:Sn(ITO)薄膜(~4 nm厚度)作为中间层的多层膜,并通过对顶层BZO薄膜的厚度调制,改善BZO薄膜的表面特性,薄膜结构为:glass/底层BZO/ITO/顶层BZO.合适厚度的顶层BZO薄膜有助于获得类似"菜花状"形貌特征,尖锐的表面趋于"柔和",而较厚的顶层BZO薄膜仍然保持"类金字塔状"结构."柔和"的BZO薄膜表面结构有助于提高后续生长薄膜电池的结晶质量.将获得的新型"三明治"结构多层膜应用于p-i-n型氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜太阳电池,相比传统的BZO薄膜,电池的量子效率QE在500—800 nm波长范围提高了~10%,并且电池的Jsc和Voc均有所提高. 展开更多
关键词 掺硼氧化锌(BZO)薄膜 In2O3Sn(ito)中间层 表面形貌 太阳电池
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