二氧化硅(SiO_(2))薄膜因其卓越的光学性能,在半导体器件、集成电路、光学涂层等领域具有巨大的应用潜力。然而,SiO_(2)薄膜制备过程中面临表面粗糙度、杂质控制和致密性等问题。为解决这些问题,研究者们通过工艺改进和表面修饰等手段...二氧化硅(SiO_(2))薄膜因其卓越的光学性能,在半导体器件、集成电路、光学涂层等领域具有巨大的应用潜力。然而,SiO_(2)薄膜制备过程中面临表面粗糙度、杂质控制和致密性等问题。为解决这些问题,研究者们通过工艺改进和表面修饰等手段来提高SiO_(2)薄膜的性能。在众多SiO_(2)薄膜制备技术中,等离子体增强化学气相沉积(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)技术由于沉积SiO_(2)薄膜所需温度低、原位生长等优势,成为制备SiO_(2)薄膜最常用的方法。综述了用PECVD技术制备SiO_(2)薄膜的发展历程,并探讨了关键工艺参数和后处理工艺对薄膜质量的影响。对PECVD技术的深入研究,有助于实现对SiO_(2)薄膜生长的更精准控制,进一步拓展其广泛的应用前景。展开更多
文摘二氧化硅(SiO_(2))薄膜因其卓越的光学性能,在半导体器件、集成电路、光学涂层等领域具有巨大的应用潜力。然而,SiO_(2)薄膜制备过程中面临表面粗糙度、杂质控制和致密性等问题。为解决这些问题,研究者们通过工艺改进和表面修饰等手段来提高SiO_(2)薄膜的性能。在众多SiO_(2)薄膜制备技术中,等离子体增强化学气相沉积(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)技术由于沉积SiO_(2)薄膜所需温度低、原位生长等优势,成为制备SiO_(2)薄膜最常用的方法。综述了用PECVD技术制备SiO_(2)薄膜的发展历程,并探讨了关键工艺参数和后处理工艺对薄膜质量的影响。对PECVD技术的深入研究,有助于实现对SiO_(2)薄膜生长的更精准控制,进一步拓展其广泛的应用前景。
文摘目的通过VITEK-2 Compact全自动微生物鉴定及药敏仪对葡萄球菌属红霉素对克林霉素诱导耐药的检测,与CLSI推荐的D-test法比较,最终通过聚合酶链反应(PCR)方法检测诱导耐药基因予以确认,对耐药检测情况进行评价。方法同一株葡萄球菌属细菌同时通过VITEK-2 Compact GP AST-卡以及按临床实验室标准化协会推荐的纸片扩散方法测定并判读,葡萄球菌属D-test测定红霉素对克林霉素的诱导耐药表型,对结果进行比较,两者结果不符合者,最终通过聚合酶链反应(PCR)方法检测诱导耐药基因予以确认。结果共检测葡萄球菌属细菌111株,两者结论符合者103株,不符合者8株。经PCR方法验证,纸片扩散法结果与PCR方法符合。其中2株经纸片法测定为阳性,VITEK-2检测后结果为阴性,约1.8%(2/111);6株经纸片法测定为阴性,VITEK-2检测后结果为阳性,约5.4%(6/111)。结论该仪器对检测葡萄球菌属对红霉素诱导克林霉素耐药准确率约为92.8%,假阳性率约为5.4%,假阴性率约为1.8%。根据风险最低原则,该仪器可能造成约2%的葡萄球菌属细菌红霉素诱导克林霉素耐药漏检。
