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1
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Cl^(-)浓度对直流电沉积铜箔组织结构与性能影响 |
赵运豪
高颢洋
孙奕
冯涛
罗冲
董刚
郑月红
喇培清
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《有色金属(中英文)》
北大核心
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2026 |
0 |
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2
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面向电镀铜箔表面成像的Hessian矩阵微缺陷检测 |
王艳华
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《电镀与精饰》
北大核心
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2026 |
0 |
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3
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智能物流转运在铜箔行业的应用研究 |
张旭东
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《中国设备工程》
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2026 |
0 |
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4
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压延铜箔表面处理废水零排放处理技术研究及应用 |
阮小剑
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《有色金属加工》
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2026 |
0 |
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5
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后处理工艺对铜箔微观组织及电化学性能的影响 |
张博
孙万昌
李凤
刘二勇
周梦然
许一凡
蔡辉
张菁丽
贾天泽
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《热加工工艺》
北大核心
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2025 |
0 |
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6
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DPS添加剂对高抗拉低轮廓锂电铜箔的调控研究 |
赵嫚
廖娟
赵蒙
刘伟飞
唐云志
樊小伟
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《昆明理工大学学报(自然科学版)》
北大核心
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2025 |
0 |
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7
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不同添加剂对硫酸盐体系电沉积制备锂电铜箔的影响 |
舒霞
王岩
秦永强
洪雨
徐龙
黄国平
操声跃
殷勇
张勇
吴玉程
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《电镀与涂饰》
北大核心
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2025 |
0 |
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8
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铜箔类型对PCB棕化处理的影响 |
付海涛
王建彬
杨威
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《电镀与精饰》
北大核心
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2025 |
0 |
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9
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不同铜箔材料在弱酸性和弱碱性环境中的腐蚀行为 |
伍文祥
李华清
张峰
盛敏奇
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《电镀与涂饰》
北大核心
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2025 |
0 |
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10
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锂电铜箔表面镀层工艺及其性能的影响分析 |
王贵权
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《中国金属通报》
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2025 |
0 |
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11
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铜箔的生产和技术发展 |
祝大同
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《印制电路信息》
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1995 |
0 |
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12
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铜箔的生产和技术发展(续) |
祝大同
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《印制电路信息》
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1995 |
0 |
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13
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添加剂及工艺条件对锂离子电池用电解铜箔性能的影响研究 |
郑小伟
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《科技创新与应用》
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2025 |
0 |
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14
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PCB基材——覆铜箔板技术基础(续一) |
祝大同
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《印制电路信息》
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1996 |
0 |
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15
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“2025中国电子铜箔行业高层论坛”在江西召开 |
无
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《印制电路信息》
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2025 |
0 |
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16
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铜箔的生产技术及发展趋向 |
黄洁
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《铜业工程》
CAS
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2003 |
27
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17
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搅拌速度对废电路板酸浸液中脉冲电沉积铜箔的影响 |
孙艳
刘洪军
李亚敏
李伟盛
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《材料导报》
北大核心
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2025 |
0 |
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18
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PET基覆铜箔层压板的热拉伸变形行为及在频率选择表面上的应用 |
赵勇
胡兵
田俊霞
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《工程塑料应用》
北大核心
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2025 |
0 |
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19
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传统铜箔与复合铜箔的差异性 |
袁思思
唐亮
姜政志
上官文斌
朱平
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《材料科学与工程学报》
北大核心
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2025 |
0 |
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20
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基于局部多尺度滤波的铜箔电解过程高可靠性节能优化 |
黄大建
张文安
桂卫华
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《控制理论与应用》
北大核心
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2025 |
0 |
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