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电能表耐压装置反冲电压的抑制方法
被引量:
2
1
作者
徐永进
周永佳
+2 位作者
王祥
干晓明
徐林松
《电气技术》
2015年第2期103-105,共3页
电能表在进行耐压试验时,如发生耐压击穿,耐压装置输出电压会产生较高的反冲电压,导致多表位耐压装置上的其他电能表击穿或损坏。通过对反冲电压产生原理的分析,设计出一种反冲电压抑制的方法,可极大的降低耐压试验的误检和保护电能表...
电能表在进行耐压试验时,如发生耐压击穿,耐压装置输出电压会产生较高的反冲电压,导致多表位耐压装置上的其他电能表击穿或损坏。通过对反冲电压产生原理的分析,设计出一种反冲电压抑制的方法,可极大的降低耐压试验的误检和保护电能表不受损坏。
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关键词
电能表耐压装置
反冲电压
抑制
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职称材料
功率传输线对GTO关断性能的影响
2
作者
周文俊
刘希真
+1 位作者
黄国元
张立
《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期645-648,共4页
通过实验和机理分析研究了功率传输线的电感效应 .GTO缓冲电路传输线电感对尖峰电压和峰值功耗有着重要的影响 .缓冲电阻支路的引线长度是GTO反冲电压的基本决定因素 .为此 。
关键词
GTO
可关断晶闸管
功率传输线
电感效应
尖峰
电压
反冲电压
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职称材料
TFT-LCD白点不良机理研究及改善
被引量:
1
3
作者
刘信
高玉杰
+9 位作者
郭坤
杨志
程石
林鸿涛
毛大龙
盛子沫
赵剑
吴伟
郭会斌
江鹏
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第3期405-411,共7页
TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生。本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良。结果表明...
TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生。本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良。结果表明,有源层膜质存在异常,其导电性不同导致了反冲电压(ΔV p)的差异,最佳公共电压的不同形成白点不良。栅极和源极耦合电容越小,即硅边宽度越小,白点越少,直至消失。子像素存储电容越大,钝化层厚度(PVX)由600 nm减小到400 nm,白点不良程度可减轻1个等级。通过工艺调整,将硅边宽度降低到1.2μm,可解决四道掩膜版工艺导致的白点问题。该研究对于产品品质和收益的提升以及后续产品开发提供了有效的解决方法及参考。
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关键词
白点
反冲电压
Staebler-Wronski效应
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职称材料
题名
电能表耐压装置反冲电压的抑制方法
被引量:
2
1
作者
徐永进
周永佳
王祥
干晓明
徐林松
机构
国网浙江省电力公司电力科学研究院
浙江涵普电力科技有限公司
出处
《电气技术》
2015年第2期103-105,共3页
文摘
电能表在进行耐压试验时,如发生耐压击穿,耐压装置输出电压会产生较高的反冲电压,导致多表位耐压装置上的其他电能表击穿或损坏。通过对反冲电压产生原理的分析,设计出一种反冲电压抑制的方法,可极大的降低耐压试验的误检和保护电能表不受损坏。
关键词
电能表耐压装置
反冲电压
抑制
Keywords
electric energy meter ac voltage-test bench
recoil voltage
inhibition
分类号
TM933.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
功率传输线对GTO关断性能的影响
2
作者
周文俊
刘希真
黄国元
张立
机构
温州大学信息科学与工程学院
天津大学电气自动化与能源工程学院
出处
《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期645-648,共4页
文摘
通过实验和机理分析研究了功率传输线的电感效应 .GTO缓冲电路传输线电感对尖峰电压和峰值功耗有着重要的影响 .缓冲电阻支路的引线长度是GTO反冲电压的基本决定因素 .为此 。
关键词
GTO
可关断晶闸管
功率传输线
电感效应
尖峰
电压
反冲电压
Keywords
gate turn-off thyristor(GTO)
power transit line
inductance
turn-off performance
分类号
TN342.4 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
TFT-LCD白点不良机理研究及改善
被引量:
1
3
作者
刘信
高玉杰
郭坤
杨志
程石
林鸿涛
毛大龙
盛子沫
赵剑
吴伟
郭会斌
江鹏
机构
武汉京东方光电科技有限公司
北京京东方显示技术有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第3期405-411,共7页
文摘
TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生。本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良。结果表明,有源层膜质存在异常,其导电性不同导致了反冲电压(ΔV p)的差异,最佳公共电压的不同形成白点不良。栅极和源极耦合电容越小,即硅边宽度越小,白点越少,直至消失。子像素存储电容越大,钝化层厚度(PVX)由600 nm减小到400 nm,白点不良程度可减轻1个等级。通过工艺调整,将硅边宽度降低到1.2μm,可解决四道掩膜版工艺导致的白点问题。该研究对于产品品质和收益的提升以及后续产品开发提供了有效的解决方法及参考。
关键词
白点
反冲电压
Staebler-Wronski效应
Keywords
white dot
feedthrough voltage
SW effect
分类号
TN873.93 [电子电信—信息与通信工程]
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电能表耐压装置反冲电压的抑制方法
徐永进
周永佳
王祥
干晓明
徐林松
《电气技术》
2015
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
功率传输线对GTO关断性能的影响
周文俊
刘希真
黄国元
张立
《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
TFT-LCD白点不良机理研究及改善
刘信
高玉杰
郭坤
杨志
程石
林鸿涛
毛大龙
盛子沫
赵剑
吴伟
郭会斌
江鹏
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021
1
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职称材料
已选择
0
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参考文献
引证文献
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