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nMOSFET X射线辐射影响研究 被引量:3
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作者 罗宏伟 杨银堂 +1 位作者 恩云飞 朱樟明 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期246-248,245,共4页
介绍了在强电流作用下的ggnMOS作用机理,分析了ggnMOS抗ESD能力的主要表征参数,利用X射线辐射系统和TLP测试系统研究了辐射总剂量对ggnMOS抗ESD能力的影响。试验结果表明,随辐射总剂量的增加,ggnMOS的开启电压、维持电压都将下降,这有... 介绍了在强电流作用下的ggnMOS作用机理,分析了ggnMOS抗ESD能力的主要表征参数,利用X射线辐射系统和TLP测试系统研究了辐射总剂量对ggnMOS抗ESD能力的影响。试验结果表明,随辐射总剂量的增加,ggnMOS的开启电压、维持电压都将下降,这有利于提高ggnMOS的抗ESD能力,而表征其抗ESD能力的参数(二次击穿电流It2)开始随辐射总剂量的增加而减少,到达一定剂量后将随总剂量的增加而增加。 展开更多
关键词 栅接地nMOS ESD 辐射总剂量 开启电压 二次击穿电流 X射线辐射
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不同栅压下NMOS器件的静电防护性能 被引量:2
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作者 朱科翰 董树荣 +1 位作者 韩雁 杜晓阳 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期141-144,共4页
针对金属硅化物亚微米工艺,研究当静电自保护输出驱动中NMOS器件的栅极处于不确定电压时的静电防护能力.在0.35μmCMOS工艺下,设计不同尺寸的NMOS静电防护器件,采用传输线脉冲(TLP)测试系统测量NMOS器件在不同栅压下的电流-电压曲线.借... 针对金属硅化物亚微米工艺,研究当静电自保护输出驱动中NMOS器件的栅极处于不确定电压时的静电防护能力.在0.35μmCMOS工艺下,设计不同尺寸的NMOS静电防护器件,采用传输线脉冲(TLP)测试系统测量NMOS器件在不同栅压下的电流-电压曲线.借助半导体器件仿真软件ISE-TCAD对器件进行瞬态仿真,得出在不同栅压下的电场强度分布.分析表明,栅压使得电流更趋于表面流动而降低NMOS静电防护器件的二次击穿电流.在设计回跳型栅极耦合NMOS静电防护器件时,辅助触发电路的RC时间常数应该控制在50ns左右. 展开更多
关键词 静电防护 二次击穿电流 传输线脉冲
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ESD应力下深亚微米GGNMOS二次击穿物理级建模仿真 被引量:3
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作者 刘瑶 高英俊 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期804-808,共5页
基于静电放电(ESD)应力下深亚微米栅接地N型场效应晶体管(GGNMOS)二次击穿的物理特性,将建立的热击穿温度模型、热源模型与温度相关参数模型相结合,提出了一种新的电热模型,并进行了优化。基于这些模型,可仿真出器件的二次击穿电流值It2... 基于静电放电(ESD)应力下深亚微米栅接地N型场效应晶体管(GGNMOS)二次击穿的物理特性,将建立的热击穿温度模型、热源模型与温度相关参数模型相结合,提出了一种新的电热模型,并进行了优化。基于这些模型,可仿真出器件的二次击穿电流值It2(GGNMOS的失效阈值),进而模拟出GGNMOS全工作区域的VD-ID曲线。对两种不同的GGNMOS样品进行模拟仿真,将得到的结果与TLP(传输线脉冲)实验测试的结果相比较,证实了模型的可行性。利用该物理级模型,可快速评估GGNMOS的工艺、版图参数以及脉冲应力宽度对ESD鲁棒性的影响。 展开更多
关键词 GGNMOS 静电放电 电热效应建模 二次击穿电流
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GTR的失效分析与快速保护 被引量:2
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作者 郑学仁 刘百勇 +1 位作者 贺晓龙 吴朝晖 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第1期15-18,共4页
剖析了SQD50AB100型GTR功率模块的失效情况,分析了其二次击穿失效机理及引起失效的器件内部和外部原因。设计了一种快速有效的GTR过流保护电路。该电路使用效果显著,且自成单元,可灵活应用于各种场合。
关键词 功率晶体管 二次击穿 过流保护
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典型ESD防护器件失效机理研究 被引量:3
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作者 王振兴 武占成 +1 位作者 张希军 刘进 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第12期962-967,共6页
瞬态电压抑制管(TVS)是电子线路设计中常用的静电放电(ESD)防护器件,其可靠性将直接影响整个电路的安全。选取常见的TVS器件PESD5V0U1BA进行研究,通过实验和仿真分析了TVS器件的短路失效机理及其影响。研究表明,当TVS器件注入高压时,器... 瞬态电压抑制管(TVS)是电子线路设计中常用的静电放电(ESD)防护器件,其可靠性将直接影响整个电路的安全。选取常见的TVS器件PESD5V0U1BA进行研究,通过实验和仿真分析了TVS器件的短路失效机理及其影响。研究表明,当TVS器件注入高压时,器件存在缺陷的SiO2层会发生自愈性击穿。当器件的pn结发生击穿时,器件将失效。如果两个pn结都被击穿,器件的I-V曲线表现为电阻特性。当TVS器件出现损伤后,器件仍具有箝位作用,且其表现的箝位电压更低,但由于器件的漏电流发生较大的增长,将影响被保护电路的正常工作。 展开更多
关键词 瞬态电压抑制管(TVS) 失效模式 漏电流 二次击穿
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ESD保护结构设计 被引量:3
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作者 郑若成 刘澄淇 《电子与封装》 2009年第9期28-30,48,共4页
静电损伤失效可能是热击穿(电流)造成的结或金属布线熔融失效,也可能是强电场(电压)诱发的介质失效,文章主要从电流热击穿方面探讨了静电触发时的ESD(Electro-Static-Discharge)保护结构的保护机理和失效机理以及工艺和版图上的应对措... 静电损伤失效可能是热击穿(电流)造成的结或金属布线熔融失效,也可能是强电场(电压)诱发的介质失效,文章主要从电流热击穿方面探讨了静电触发时的ESD(Electro-Static-Discharge)保护结构的保护机理和失效机理以及工艺和版图上的应对措施。保护结构工作时的电流泄放能力决定了其保护能力,这种能力可以通过使泄放电流均匀、优化PN结特性等方面加强。电流泄放的均匀性可以在工艺版图上进行优化,结两侧浓度决定了结的耐受能力和结上的偏压,进而影响器件功耗。另外还提及了保护结构的负面影响以及工艺上的优化方案。 展开更多
关键词 结温 二次击穿电流 均匀放电 工艺 版图
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功率晶体管二次击穿无损测试研究 被引量:1
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作者 农亮勤 韦绍波 《广西民族学院学报(自然科学版)》 CAS 1999年第1期15-19,共5页
根据功率晶体管二次击穿的物理变化过程,设计出可行的二次击穿无损测试系统。
关键词 晶体管 二次击穿 无损测试 分流保护 功率晶体管
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晶体管二次击穿特性研究 被引量:6
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作者 尹光 周涛 石广源 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2009年第1期30-34,共5页
主要从器件的结构与制造角度,详细地讨论了与抗烧毁有关的大功率开关晶体管的二次击穿及其改善措施,并介绍了一种新型的大功率晶体管结构,对投片生产具有实际的指导意义.
关键词 大功率晶体管 二次击穿 电流集边效应 挖槽
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源漏硅化物扩散层分离技术对SOINMOS抗ESD的影响 被引量:1
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作者 宋文斌 许高博 +1 位作者 曾传滨 韩郑生 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1007-1012,共6页
采用金属硅化物扩散层分隔技术制备了源漏区具有不同硅化物挡板尺寸的环型栅PD SOI MOSFETs,通过CLP实验数据分析器件的硅化物隔离档板的尺寸对SOI NMOSTET抗ESD能力以及对多指栅ggnMOS管子导通均匀性的影响。结果显示,采用了硅化物隔... 采用金属硅化物扩散层分隔技术制备了源漏区具有不同硅化物挡板尺寸的环型栅PD SOI MOSFETs,通过CLP实验数据分析器件的硅化物隔离档板的尺寸对SOI NMOSTET抗ESD能力以及对多指栅ggnMOS管子导通均匀性的影响。结果显示,采用了硅化物隔离挡板的管子二次击穿电压明显提高;随着挡板尺寸增加,多指栅的导通均匀性得到明显改善。 展开更多
关键词 绝缘体上硅SOI ESD 源漏硅化物 二次击穿 导通电阻 栅接地NMOS器件
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晶体管的二次击穿及检测 被引量:3
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作者 王晶霞 王品英 沈源生 《电子与封装》 2011年第11期9-13,共5页
晶体管的二次击穿线是构成其安全工作区(SOA)的重要曲线,作者对该问题进行了多年的探讨和实验。文章详尽地论述了二次击穿的机理是由于电流或电压应力所引起的破坏性结果。简要叙述了芯片材料、制造与组装工艺对二次击穿的影响,指出了... 晶体管的二次击穿线是构成其安全工作区(SOA)的重要曲线,作者对该问题进行了多年的探讨和实验。文章详尽地论述了二次击穿的机理是由于电流或电压应力所引起的破坏性结果。简要叙述了芯片材料、制造与组装工艺对二次击穿的影响,指出了器件的电性能、应用电路以及环境温度与二次击穿的关系,从而为晶体管避免二次击穿提供了方向。最后介绍了一种检测二次击穿的简易方法,并根据所测得的数据描绘了功率晶体管(2SD880、3DD13003)的二次击穿特性曲线。文中还示出了二次击穿造成芯片损伤以及器件发生二次击穿时的曲线照片。 展开更多
关键词 二次击穿 热斑 可调恒流源
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改善高频大功率晶体管二次击穿提高f_T的特殊设计方法 被引量:2
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作者 白宏光 葛虹宇 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 1996年第1期61-65,共5页
本文主要讨论改善高频大功率晶体管正偏(电流集中型)二次击穿并以3DA150、3CA150型高频大功率晶体管为例,介绍一种特殊的版图设计方法,使发射结面积得到充分利用,有效地提高了电流容量,消除了大电流时发射极电流集边... 本文主要讨论改善高频大功率晶体管正偏(电流集中型)二次击穿并以3DA150、3CA150型高频大功率晶体管为例,介绍一种特殊的版图设计方法,使发射结面积得到充分利用,有效地提高了电流容量,消除了大电流时发射极电流集边效应,改善了电流集中型二次击穿,减慢了大电流时β0的衰减程度,从而相应地提高了特征频率fT. 展开更多
关键词 大功率晶体管 二次击穿 特征频率 高频晶体管
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基于UTB-SOI技术的双辅助触发SCR ESD防护器件研究
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作者 张效俊 成建兵 +2 位作者 李瑛楠 孙旸 吴家旭 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第6期1109-1113,共5页
为了提高FDSOI ESD防护器件的二次击穿电流,基于UTB-SOI技术,提出了一种SOI gg-NMOS和寄生体硅PNP晶体管双辅助触发SCR器件。通过gg-NMOS源区的电子注入和寄生PNP晶体管的开启,共同辅助触发主泄放路径SCR,快速泄放ESD电流。TCAD仿真结... 为了提高FDSOI ESD防护器件的二次击穿电流,基于UTB-SOI技术,提出了一种SOI gg-NMOS和寄生体硅PNP晶体管双辅助触发SCR器件。通过gg-NMOS源区的电子注入和寄生PNP晶体管的开启,共同辅助触发主泄放路径SCR,快速泄放ESD电流。TCAD仿真结果表明,新结构能够泄放较高的二次击穿电流,具有可调节的触发电压。 展开更多
关键词 全耗尽绝缘体上硅 静电放电 双辅助触发 二次击穿电流
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Influence of the external component on the damage of the bipolar transistor induced by the electromagnetic pulse 被引量:4
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作者 席晓文 柴常春 +3 位作者 任兴荣 杨银堂 马振洋 王婧 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期49-52,共4页
A study on the influence of the external resistor and the external voltage source during the injection of the electromagnetic pulse(EMP) into the bipolar transistor(BJT) is carried out.Research shows that the incr... A study on the influence of the external resistor and the external voltage source during the injection of the electromagnetic pulse(EMP) into the bipolar transistor(BJT) is carried out.Research shows that the increase of the external resistor R_b at base makes the burnout time of the device decrease slightly,the increase of the external voltage source V_(be) at base can aid the damage of the device when the magnitude of the injecting voltage is relatively low and has little influence when the magnitude is sufficiently high causing the device appearing the PIN structure damage,and the increase of the external resistor R_e can remarkably reduce the voltage drops added to the device and improve the durability of the device.In the final analysis,the effect of the external circuit component on the BJT damage is the influence on the condition which makes the device appear current-mode second breakdown. 展开更多
关键词 electromagnetic pulse bipolar transistor current-mode second breakdown external component
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