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Fast Beam Deflection and Beam Quality- Keys to Economic High Quality Electron Beam Applications 被引量:3
1
作者 Uwe Clauβ James Bull 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S4期90-94,共5页
Since its first introduction to the industry the control systems of electron beam machines have gone through an enormous evolution.With the availability of fast amplifier components and digital beam controllers the ad... Since its first introduction to the industry the control systems of electron beam machines have gone through an enormous evolution.With the availability of fast amplifier components and digital beam controllers the advantages of the electron beam have further increased making it a truly software controlled thermal processing tool.Modern beam controllers enable multi-beam and multi-focus technologies,where the beam is split in up to 60 individual beams.These technologies can reduce the processing time by parallel processing or improve the quality by optimized thermal expansion of the part.Multi-process technologies,where several processes are performed in one run (e.g.welding and cosmetic treatment) further extend the application range of the electron beam process.Fast beam deflection in conjunction with electron-optical monitoring is the fundamental component for advanced seam tracking systems.They allow automating the EB application in order to optimize the process costs and improve the quality of the re-sults in a reproducible manner.Basis for a high quality of the EB process is the condition of the tool,the electron beam itself.By in-troducing the beam parameter product to the electron beam,reliable information about the quality of the beam can be derived.Im-plemented into automatic beam alignment systems repeatable results with high quality are achieved. 展开更多
关键词 electron beam control system FAST beam deflection multi-beam TECHNOLOGY multi-focus TECHNOLOGY electron-optical monitoring SEAM tracking systems beam parameter product beam quality automatic beam alignment
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Joint Tracking with the Electron Beam in Combination with a Work Piece Fixture
2
作者 M.Muecke K.Leeb 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S4期99-101,共3页
The electron beam is an excellent welding tool.During years this powerful beam guarantees high performance welds in automotive,aviation and other industries.Due to its excellent parallel seam quality this welding tool... The electron beam is an excellent welding tool.During years this powerful beam guarantees high performance welds in automotive,aviation and other industries.Due to its excellent parallel seam quality this welding tool is often used for well-prepared gapless joints.Powerful fixtures have to guarantee the well-defined positioning of the work piece.However,tolerances in the work piece or the loading mechanism can cause misalignments.High quality welds frequently do not allow those misalignments.Consequently operators have to take care that the beam is proper positioned before welding.With joint tracking systems it is possible to automate those manual manipulations.The production gets more independent on adjustments by the operator.CCD cameras or electrodes for backscattered electrons for joint tracking systems need directly access to the joint.In many applications the fixture is in between the work piece and the measuring device.The joint cannot be automatically detected.Furthermore the positioning of the electrodes for backscattered electrons gives a major impact to the quality of the measurement.It becomes mandatory to integrate the joint detection into the fixture.The usage of backscattered electrons for seam tracking requests the integration of electrodes into the fixture.The fast beam deflection for electron beams opens a wide range of opportunities.Electron optical viewing improves the visualization of the work piece.Multi pool applications or surface modifications can increase the production capacity or achieve better product performance.Joint tracking can be performed offline or online.The free programmable environment allows combining tasks to match the production demands.Examples will be used to illustrate individual applications. 展开更多
关键词 electron beam WELDING SEAM TRACKING multi POOL WELDING
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An electron moir■ method for a common SEM 被引量:6
3
作者 Y. M. Xing S. Kishimoto Y. R. Zhao 《Acta Mechanica Sinica》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第6期595-602,共8页
In the electron moiré method, a high-frequency grating is used to measure microscopic deformation, which promises significant potential applications for the method in the microscopic analysis of materials. Howeve... In the electron moiré method, a high-frequency grating is used to measure microscopic deformation, which promises significant potential applications for the method in the microscopic analysis of materials. However, a special beam scanning control device is required to produce a grating and generate a moiré fringe pattern for the scanning electron microscope (SEM). Because only a few SEMs used in the material science studies are equipped with this device, the use of the electron moiré method is limited. In this study, an electron moiré method for a common SEM without the beam control device is presented. A grating based on a multi-scanning concept is fabricated in any observing mode. A real-time moiré pattern can also be generated in the SEM or an optical filtering system. Without the beam control device being a prerequisite, the electron moiré method can be more widely used. The experimental results from three different types of SEMs show that high quality gratings with uniform lines and less pitch error can be fabricated by this method, and moiré patterns can also be correctly generated. 展开更多
关键词 electron moiré GRATING multi-scanning electron beam moiré
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多束电子源设计与实验
4
作者 赵伟霞 白凌超 +3 位作者 张利新 刘俊标 殷伯华 韩立 《光学精密工程》 北大核心 2025年第5期741-750,共10页
为了提高扫描电子显微镜等单电子束设备的通量,开发了基于肖特基阴极的多束电子源系统,研究了准直透镜、分束板及微阵列静电透镜的设计方法与制备工艺。根据肖特基阴极发射特性进行了静电准直透镜的设计,仿真计算了准直束的电子光学性... 为了提高扫描电子显微镜等单电子束设备的通量,开发了基于肖特基阴极的多束电子源系统,研究了准直透镜、分束板及微阵列静电透镜的设计方法与制备工艺。根据肖特基阴极发射特性进行了静电准直透镜的设计,仿真计算了准直束的电子光学性能。基于MEMS加工工艺实现了3×3和10×10多孔阵列分束板的制备,开发了多孔多层器件装配系统并实现了微阵列静电透镜的高精度装配;搭建了多束电子源测试平台并进行了多束电子源的准直、分束与聚焦性能验证。结果表明:多束电子源的准直束范围为600μm,准直范围内的束流密度为4.11 A/m^(2)、均匀度为6.06%;实现了3×3分束且大小可调,聚焦后的子束束斑直径均值为5.32μm,束斑直径均匀度为5.91%,束流强度均匀度为4.36%,间距均匀度为3.06%,满足多电子束设备的设计要求。 展开更多
关键词 电子光学 多束电子源 肖特基发射 准直透镜 微阵列单电位透镜
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基于多束集成的电子束粉末床熔融增材制造技术 被引量:1
5
作者 谭月梅 肖不为 +4 位作者 王飞鸿 周斌 赵德陈 梁啸宇 林峰 《制造技术与机床》 北大核心 2025年第10期65-73,共9页
针对电子束粉末床熔融(electron beam powder bed fusion,EB-PBF)技术在大尺寸零件成形及工艺过程温度场稳定性等方面的挑战,提出了多束流集成的EB-PBF成形策略。深入研究多电子束协同工作可能引发的热结构变形及束斑一致性差等关键问题... 针对电子束粉末床熔融(electron beam powder bed fusion,EB-PBF)技术在大尺寸零件成形及工艺过程温度场稳定性等方面的挑战,提出了多束流集成的EB-PBF成形策略。深入研究多电子束协同工作可能引发的热结构变形及束斑一致性差等关键问题,提出了热影响结构变形抑制、电子束自动标定等技术方案。进一步地,基于多束流EB-PBF技术,提出多枪阵列成形和双枪同幅成形策略。使用多枪阵列成形策略,有效将EB-PBF成形幅面扩大至600 mm×600 mm。为保证多枪EB-PBF大幅面成形质量一致性,提出了搭接区扫描优化策略,并在TA15打印实验中验证全幅面的力学性能一致性。使用双枪同幅成形策略,开发了多能量源耦合控制粉床温度的方法,有效提高了选择性熔化时粉床温度稳定性,在打印过程中能稳定维持1250℃的粉末高预热温度。在高预热温度下,双枪同幅成形策略有效避免了常规EB-PBF设备在选择性熔化阶段粉床预热温度将快速下降200~300℃的缺陷。 展开更多
关键词 增材制造 电子束粉末床熔融 电子束选区熔化 多束流 装备
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适用于G波段超构表面行波管的多注电子枪研究
6
作者 孙世昭 邹建军 +4 位作者 江胜坤 陈旭媛 王战亮 宫玉彬 段兆云 《微波学报》 北大核心 2025年第1期58-62,共5页
G波段超构表面行波管具有天然的双电子注通道,电子注可以在超构表面两侧传输,和超构表面的局域增强电场进行注波互作用,可提高G波段行波管的输出功率和效率。本文研究了一支适用于G波段超构表面行波管的多注电子枪,其采用八个相同的圆... G波段超构表面行波管具有天然的双电子注通道,电子注可以在超构表面两侧传输,和超构表面的局域增强电场进行注波互作用,可提高G波段行波管的输出功率和效率。本文研究了一支适用于G波段超构表面行波管的多注电子枪,其采用八个相同的圆形阴极构成双排阵列,以产生双排多电子注,同时设计了一种三级聚焦极,使双排多电子注聚焦并与电子注通道适配。模拟结果表明,当注电压为24.6 kV、阴极半径为0.15 mm时,总注电流达到173 mA,阴极发射电流密度为30.6 A/cm^(2),射程为13 mm。静态流通模拟结果表明,在0.2 T的均匀磁场聚焦下,电子注在超构表面慢波结构中可以传输70 mm。该研究为G波段超构表面行波管的研究奠定理论基础。 展开更多
关键词 G波段 超构表面行波管 多注电子枪 三级聚焦极
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多注速调管电子光学系统的模拟 被引量:7
7
作者 王树忠 丁耀根 +1 位作者 沈斌 王进华 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期257-260,共4页
利用3维电磁场计算软件MAFIA对L波段100 kW多注速调管的多注电子光学系统进行了模拟计算。通过编写宏程序使MAFIA可以计算旁轴电子枪的性能参数,给出了磁场分布并分析了磁场的差异对电子轨迹的影响。模拟表明:中心注磁场具有轴对称性,... 利用3维电磁场计算软件MAFIA对L波段100 kW多注速调管的多注电子光学系统进行了模拟计算。通过编写宏程序使MAFIA可以计算旁轴电子枪的性能参数,给出了磁场分布并分析了磁场的差异对电子轨迹的影响。模拟表明:中心注磁场具有轴对称性,在均匀区,轨迹的波动性最小,电子轨迹的层流性也最好;内层电子注径向磁场较小,轨迹的波动性略大于中心注的情况;外层电子注靠近极靴处径向磁场最大,电子轨迹的波动最大,层流性最差。计算并模拟显示了18个电子注在收集极入口处的发散情况。 展开更多
关键词 高功率微波 多注速调管 3维电子光学 MAFIA
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浸没流多透镜多注电子光学系统的模拟研究 被引量:4
8
作者 张瑞 王勇 谢敬新 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2009年第7期1722-1726,共5页
该文采用先2维后3维的计算方法,对L波段高峰值功率多注速调管电子光学系统进行了模拟设计。采用均匀场浸没流多透镜聚焦系统对电子注进行聚焦,获得了通过率100%,填充因子55%,特性良好的旁轴电子注。模拟计算表明,多透镜系统可有效调整... 该文采用先2维后3维的计算方法,对L波段高峰值功率多注速调管电子光学系统进行了模拟设计。采用均匀场浸没流多透镜聚焦系统对电子注进行聚焦,获得了通过率100%,填充因子55%,特性良好的旁轴电子注。模拟计算表明,多透镜系统可有效调整电子注平衡半径,电子枪区均匀场可有效调整电子注波动性及层流性,聚集系统可在阴极磁感应强度为0.001~0.01T,主磁场为0.06~0.13T的范围内实现对旁轴电子注的良好聚焦。 展开更多
关键词 电子光学系统 多注速调管 电子枪 电子注
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强流多注电子束高效率引入的模拟研究 被引量:6
9
作者 李乐乐 黄华 +2 位作者 刘振帮 王淦平 袁欢 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期29-33,共5页
强流相对论多注速调管相对于单注速调管具有导流系数低,输出功率高和效率高的优点,并且可以明显降低引导磁场强度,因此得到快速发展。但是其多注电子束引入漂移管效率低的问题,影响了多注速调管的整管效率,限制了其稳定高效运行和应用... 强流相对论多注速调管相对于单注速调管具有导流系数低,输出功率高和效率高的优点,并且可以明显降低引导磁场强度,因此得到快速发展。但是其多注电子束引入漂移管效率低的问题,影响了多注速调管的整管效率,限制了其稳定高效运行和应用推广。论文采用粒子仿真软件CHIPIC对多注速调管二极管爆炸发射过程进行仿真研究,寻找影响多注速调管引入效率的主要因素,并对阴极结构进行了优化,设计出三种两段式新型多注阴极结构并进行冷阴极爆炸发射模拟研究。研究结果表明:给定参数下,常规结构由于底座边缘的不必要的环形电子束发射,只能达到82%的引入效率,而三种新型阴极结构通过抑制不必要电子发射,引入效率都可以提高至95%以上,最高达到99%。 展开更多
关键词 多注速调管 强流多注电子束 阴极结构 二极管 引入效率
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高峰值功率多注速调管的初步研究 被引量:10
10
作者 王勇 丁耀根 +2 位作者 刘濮鲲 谢敬新 张瑞 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1133-1136,共4页
高峰值功率速调管因其作为高功率微波源而受到各国的重视。采用单电子注方案的高峰值功率速调管存在许多难以克服的问题,如工作电压很高,输出效率偏低,系统体积偏大等。对高峰值功率多注速调管进行了初步的研究,重点研究了S波段50 MW多... 高峰值功率速调管因其作为高功率微波源而受到各国的重视。采用单电子注方案的高峰值功率速调管存在许多难以克服的问题,如工作电压很高,输出效率偏低,系统体积偏大等。对高峰值功率多注速调管进行了初步的研究,重点研究了S波段50 MW多注速调管的电子光学系统和高频互作用系统。研究表明,在与单注速调管相同的功率电平下,多注速调管的工作电压明显降低,输出效率明显提高,同时,这种管型也存在结构复杂、电子注聚焦和消除非工作模式困难等技术问题。 展开更多
关键词 高峰值功率 多注速调管 电子光学系统 高频互作用系统
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PRPM聚焦多注速调管电子光学系统的研究 被引量:3
11
作者 王树忠 丁耀根 肖刘 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2006年第10期1967-1970,共4页
该文采用边界元(BEM)软件TAU对具有周期反转永磁(PRPM)聚焦结构的多注速调管电子光学系统进行研究。通过编写程序增加TAU读入三维磁场数据的功能,从MAFIA中导入三维磁场,分别模拟了处于径向不同位置处电子注的轨迹。通过对磁聚焦系统进... 该文采用边界元(BEM)软件TAU对具有周期反转永磁(PRPM)聚焦结构的多注速调管电子光学系统进行研究。通过编写程序增加TAU读入三维磁场数据的功能,从MAFIA中导入三维磁场,分别模拟了处于径向不同位置处电子注的轨迹。通过对磁聚焦系统进行优化设计,外层电子注轨迹得到明显改善。使用软件TAU进行三维模拟可以大大缩短模拟时间,便于多注速调管电子光学系统的工程设计。 展开更多
关键词 多注速调管 TAU 边界元 多注电子光学
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多束流电子束薄板焊接应力变形数值模拟 被引量:5
12
作者 黄业文 刘方军 +2 位作者 许海鹰 张伟 李平林 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期52-56,共5页
为了减小薄板结构的焊接变形,基于电子束高频偏转扫描技术在焊缝两侧添加辅助扫描热源实现了多束流电子束焊接及焊前预热.建立了矩形均匀加热辅助热源模型,采用热弹塑性有限元分析方法对1.5 mm厚304不锈钢薄板进行多束流电子束焊接数值... 为了减小薄板结构的焊接变形,基于电子束高频偏转扫描技术在焊缝两侧添加辅助扫描热源实现了多束流电子束焊接及焊前预热.建立了矩形均匀加热辅助热源模型,采用热弹塑性有限元分析方法对1.5 mm厚304不锈钢薄板进行多束流电子束焊接数值模拟,并进行了试验验证.结果表明,焊后残余应力和变形的实测结果与模拟结果吻合良好,多束流电子束焊接方法不仅可以改变熔池前方材料的受力状态,而且可以减小熔池形成瞬间熔池前方材料的压应力峰值,有利于减小熔池的前方压缩塑性应变,进而减小薄板结构的焊接变形. 展开更多
关键词 电子束 多束流 焊接变形 辅助热源 应力
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电子束吸收剂量量热计 被引量:1
13
作者 陈克胜 林敏 +3 位作者 徐利军 叶宏生 陈义珍 夏文 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期113-116,共4页
研制了一种用于电子束吸收剂量深度分布和电子束能量测量的多层石墨量热计及一种用于吸收剂量测量和薄膜剂量计校准的石墨量热计校准装置,并介绍了两种量热计的结构和在中国原子能科学研究院14 MeV加速器上的研究结果。
关键词 石墨量热计 多层 电子束 吸收剂量 校准
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高峰值功率多注速调管电子光学系统的研究 被引量:11
14
作者 张瑞 王勇 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1519-1523,共5页
分析了存在于高峰值功率多注速调管电子光学系统中的问题。采用间接设计方法设计了S波段50 MW多注速调管的电子光学系统。设计中采用分立屏蔽筒结构解决电子枪区聚焦场的旁轴对称问题。利用2维电子光学软件EGUN、3维电磁模拟软件MAFIA和... 分析了存在于高峰值功率多注速调管电子光学系统中的问题。采用间接设计方法设计了S波段50 MW多注速调管的电子光学系统。设计中采用分立屏蔽筒结构解决电子枪区聚焦场的旁轴对称问题。利用2维电子光学软件EGUN、3维电磁模拟软件MAFIA和PIC粒子模拟程序对电子轨迹进行了模拟,结果表明:分立屏蔽筒结构可以获得较好的旁轴对称场,电子光学系统的电子轨迹比较理想。 展开更多
关键词 电子光学系统 多注速调管 高峰值功率 电子枪 电子注
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L波段高功率多注速调管设计与模拟 被引量:1
15
作者 王勇 阮望 +3 位作者 张瑞 谢敬新 丁耀根 刘濮鲲 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期521-525,共5页
开展了峰值功率10 MW、平均功率150kW的L波段多注速调管的研究工作。采用均匀场多透镜聚焦系统对多电子注进行聚焦,获得了具有良好层流性和波动性的旁轴多注电子光学系统;采用二次谐波腔,对6个电子注、6个同轴谐振腔结构的速调管进行了... 开展了峰值功率10 MW、平均功率150kW的L波段多注速调管的研究工作。采用均匀场多透镜聚焦系统对多电子注进行聚焦,获得了具有良好层流性和波动性的旁轴多注电子光学系统;采用二次谐波腔,对6个电子注、6个同轴谐振腔结构的速调管进行了注波互作用计算。结果表明,当电子注电压为115 kV,电流为132 A时,可获得大于10 MW的脉冲输出功率,大于65%的输出效率和大于45 dB的增益。 展开更多
关键词 高功率微波 多注速调管 电子光学系统 电子枪 注波互作用
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一种基于电子地图的GPS导航定位技术 被引量:12
16
作者 吴自银 《海洋通报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期65-71,共7页
阐述了三种微机与GPS接收机间通讯的方法,并剖析了数种常见GPS接收机数据格式,基于图层结构用面向对象方法(OO)成功地构建了适用于导航定位的电子地图。该种导航定位技术已成功地应用于面向多波束数据后处理的成图系统MB... 阐述了三种微机与GPS接收机间通讯的方法,并剖析了数种常见GPS接收机数据格式,基于图层结构用面向对象方法(OO)成功地构建了适用于导航定位的电子地图。该种导航定位技术已成功地应用于面向多波束数据后处理的成图系统MBChart,并在多波束勘测中得到初步试用,已取得预期效果。 展开更多
关键词 控件 多波束勘测 电子地图 接收机 数据格式 GPS导航定位技术
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多注速调管电子光学系统的研究 被引量:16
17
作者 丁耀根 《电子科学学刊》 CSCD 2000年第3期485-491,共7页
本文比较系统地阐述了在多注速调管电子光学系统中开展的研究工作。给出了周期反转永磁聚焦系统的设计方法和设计考虑,讨论了控制极调制多注电子枪设计中遇到的特殊问题和解决方法,建立了计算电子光学系统的二维磁场和电子轨迹计算软件... 本文比较系统地阐述了在多注速调管电子光学系统中开展的研究工作。给出了周期反转永磁聚焦系统的设计方法和设计考虑,讨论了控制极调制多注电子枪设计中遇到的特殊问题和解决方法,建立了计算电子光学系统的二维磁场和电子轨迹计算软件,并应用这些软件设计和研制了S波段200kW多注宽带速调管的电子光学系统。该管输出功率180kW,带宽7.6%,效率44.4%,增益大于45dB,电子注通过率89%,高频通过率69-83%。设计计算与实验结果有较好的一致性。 展开更多
关键词 多注速调管 电子光学系统 周期反射永磁聚焦
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多线程技术在LIA中两路束流测量的实现 被引量:1
18
作者 王远 张开志 +2 位作者 江孝国 杨国君 李劲 《计算机测量与控制》 CSCD 北大核心 2009年第7期1248-1249,1252,共3页
强流脉冲电子束作为一种高亮度的光源,具有广阔的应用前景,而双轴束流测量的控制对于研究产生电子束的加速器技术具有重要意义;利用多线程技术在CVI环境下的实现方法,研究了双路束流参数特点、双路束流测量的时序同步控制方法,在此基础... 强流脉冲电子束作为一种高亮度的光源,具有广阔的应用前景,而双轴束流测量的控制对于研究产生电子束的加速器技术具有重要意义;利用多线程技术在CVI环境下的实现方法,研究了双路束流参数特点、双路束流测量的时序同步控制方法,在此基础上采用线程池多线程技术实现基于TCP/IP的加速器束流测量的数据采集软件;结果表明采用多线程技术可以很好地实现多任务的同时工作,有助于提高束测量的响应速度和测量的执行效率。 展开更多
关键词 强流电子束 多线程技术 束流测量
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小型静态CT用多焦点X射线源电子束偏转系统研究 被引量:7
19
作者 周日峰 殷一帆 +3 位作者 李富坤 石立敏 刘俊标 郑磊 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期2072-2077,共6页
第5代全静态电子束CT(EBCT)能在被检测物体、射线源和探测器均处于静止状态下完成CT扫描成像。这种EBCT成像方式既可应用于粉体材料、生物活体样品等易形变物体的CT检测,又可应用于物流包裹、在役管线等的快速CT检测。高精度的电子束偏... 第5代全静态电子束CT(EBCT)能在被检测物体、射线源和探测器均处于静止状态下完成CT扫描成像。这种EBCT成像方式既可应用于粉体材料、生物活体样品等易形变物体的CT检测,又可应用于物流包裹、在役管线等的快速CT检测。高精度的电子束偏转系统是静态CT成像多焦点射线源的关键技术之一。本文基于麦克斯韦电磁场相互作用理论,探讨了电子束在均匀磁场、小偏转角、近轴区域内的散焦、畸变及灵敏度特性,研究了影响电子束扫描系统焦点位置重复精度的物理参数及电子束在靶平面上的扫描偏转量与偏转线圈电流的线性关系。并设计、加工制作了一种小型高精度多焦点X射线的电子束偏转扫描系统,实验采用直径0.1mm标准针规电子束扫描DR投影图像序列,验证了电子束偏转系统有良好的偏转线性,偏转量正比于O点的磁场强度,而与电子束的位置等初始条件无关。实验通过电子束偏转系统控制电子束偏转扫描,获得了熔断式保险管(100μm)的250个X射线视角投影,完成了第5代全静态三维CT重建图像。 展开更多
关键词 静态CT X射线源 电子束偏转 阵列式多焦点
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多注速调管技术的新进展 被引量:19
20
作者 丁耀根 《真空电子技术》 2002年第5期8-14,共7页
系统地介绍了多注速调管的工作原理、主要特点和发展概况。比较详细地介绍了俄罗斯、中国和法国等国研制的多注速调管的主要性能指标和技术特点 ;分析了多注速调管研制中遇到的关键技术问题 ;讨论了多注速调管技术的发展趋势和应用范围。
关键词 多注速调管 多注电子枪 导流系数 覆膜浸渍阴极 滤波器加载双间隙耦合腔
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